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ASML再次改口!国家迅速回应,外媒:荷兰将光刻机事情闹大了(2023-10-08)
芯”。但最近的政策又将光刻机的供应限制放宽,这一变化引发了国家的迅速回应。ASML公司的态度变化不仅影响到中国的半导体产业,也引发了国际间的关注。
荷兰及日本加强对华出口管控
紧随荷兰加强对华出口管控后,日本也宣布将对华出口光刻机的......
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光刻机已经落伍?硅光子将成中美新战场!(2024-02-01)
光刻机已经落伍?硅光子将成中美新战场!;
半导体是人类科技发展的重要基础,也是中美科技博弈的重要领域。欧美凭借先进的一直掌握着半导体的话事权,但随着摩尔定律逼近极限,光刻机的......
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三星拟新设至少10台EUV光刻机:展露要当世界第一的野心(2022-12-27)
着芯片制造技术的提升,一些半导体设备,制程工艺都在持续突破。
用EUV光刻机造高端芯片成为了行业常识,只有EUV光刻机的极紫外光源才能达到7nm、5nm等制程所需的分辨率和精度。
但是获取EUV光刻机是有难度的,一方......
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首台ASML光刻机搬入!中国再添一座12英寸车规级晶圆厂(2022-11-28)
球市场非常重要的供应商。“政客们”没事就要提出限制向中国大陆销售DUV光刻机的计划,但是世界不能忽视“中国半导体产能对全球电子产业的重要性”。如果美方迫使ASML停止向中国销售DUV光刻设备,那么全球半导体供应链将面临中断。
......
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霸道至极!传美国对ASML施压:不准向中国厂商提供光刻机工具维修服务!(2024-04-07)
服务将造成严重的后果,等于要让光刻机停工,这是严重违反半导体设备销售和维护条款的行为,中国应当高度重视,不能让这一目的得逞。......
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ASML被禁止向中国运送其部分关键的芯片制造工具(2024-01-03)
售的第二种工具称为浸没式深紫外光()光刻机,用于制造稍微不那么先进的芯片。NXT:2050i和NXT:2100i是光刻机,受到荷兰政府最新出口限制的影响。
在撤销船舶许可证之前,美国政府在10月份加强了对中国先进半导体和......
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EUV光刻机缺货问题要持续3年,瓶颈居然是...(2022-05-05)
还有待做进一步的考证。他们也并没有提供有关蔡司构成EUV光刻机输出瓶颈的论据。只不过在全球缺芯,ASML还缺光刻机的当下,蔡司的确可能成为产能瓶颈的重要一环。
只是越来越多导致缺芯的因素和瓶颈出现,或许会让更多的企业和政府反思半导体......
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EUV光刻机争夺战打响,国产光刻技术难题有何解?(2021-01-29)
涂胶显影设备用于将特殊的化学液体涂在硅片上作为半导体材料进行显影。
作为光刻机的输入(曝光前光刻胶涂覆)和输出(曝光后图形的显影),涂胶/显影机的性能直接影响到细微曝光图案的形成,其显......
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日本成功引入首台ASML EUV光刻机(2024-12-20 13:44:31)
其购入的首台ASML TWINSCAN NXE:3800E光刻机已在位于北海道北部城市千岁的IIM-1工厂交付,并开始安装。这是日本首台用于大规模生产尖端半导体的EUV(极紫外)光刻......
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ASML第2代EUV光刻机开发传瓶颈,神队友救援力拼原时程问世(2021-06-10)
ASML第2代EUV光刻机开发传瓶颈,神队友救援力拼原时程问世;极紫外光刻机(EUV)目前是先进半导体制程中,不论是DRAM或晶圆代工生产过程中,进一步提升效能的关键之一。而目前荷兰商ASML则是......
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俄罗斯首台光刻机,真的制造成功了(2024-05-26)
俄罗斯首台光刻机,真的制造成功了;2022年,俄罗斯科学院下诺夫哥罗德应用物理研究所 (IPF RAS) 宣布,正在开发俄罗斯首套半导体光刻设备,并对外夸下海口:这套光刻机能够使用7nm生产......
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科普 | 芯片制造的6个关键步骤(2022-08-08)
打磨得极为光滑,然后再根据结构需求将导体、绝缘体或半导体材料薄膜沉积到晶圆上,以便能在上面印制第一层。这一重要步骤通常被称为 "沉积"。
随着芯片变得越来越小,在晶圆上印制图案变得更加复杂。沉积、刻蚀和光刻......
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光刻机大厂即将发布新型ArF浸没式扫描仪,整体生产率提高10-15%(2023-12-09)
将使用通用的电子零部件等,价格能比佳能便宜2~3成左右。
而佳能则声称可研发新的EUV光刻机替代方案,这一观点也引发了全球半导体产业的关注。据悉,佳能EUV光刻机替代方案采用了全新的光学系统和制造工艺,可以......
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下代EUV光刻机要来了 炬光科技:是ASML核心供应商的重要供应商(2022-01-26)
核心供应商A公司的重要供应商。
炬光科技表示,公司为半导体光刻应用领域提供光刻机曝光系统中的核心激光光学元器件光场匀化器,是荷兰ASML光学设备核心供应商A公司的重要供应商。相关......
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EUV到来之前的顶梁柱,你真的了解浸入式光刻吗?(2017-02-06)
就近在咫尺了。同时,193nm光波在水中的等效波长缩短为134nm,足可超越157nm的极限。193nm浸入式光刻的研究随即成为光刻界追逐的焦点。
浸入式光刻是指在光刻机投影镜头与半导体......
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逼近极限!ASML发布第三代EUV光刻机(2024-03-20)
推出,还将对全球半导体产业链产生积极的影响。芯片作为现代电子设备的核心部件,其质量和性能直接影响着整个产业的发展。而ASML的这款新型光刻机,通过提高芯片制造的精度和效率,将有助于提升整个半导体......
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佳能产日本首台半导体光刻机PPC-1发售50周年(2020-01-16)
,为了进一步扩大业务范围,佳能开始了半导体光刻机的研发,并于1970年成功发售日本首台半导体光刻机PPC-1,正式进入半导体光刻机领域。
佳能于1975年发售的FPA-141F光刻机......
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晶圆代工布局2nm芯片,瞄准High-NA EUV光刻机(2023-12-20)
晶圆代工布局2nm芯片,瞄准High-NA EUV光刻机;韩国三星日前与荷兰半导体设备商ASML签署了价值1万亿韩元(约7.55亿美元)的协议,两家公司将在韩国投资建造半导体芯片研究工厂,并将......
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ASML最先进的光刻机,花落谁家?(2024-05-11)
其他公司高管,以深化与蔡司集团在下一代EUV和芯片技术方面的合作。
会上,双方同意扩大EUV技术和尖端半导体设备研发方面的合作伙伴关系,以增强双方的合作关系在代工和存储芯片领域的业务竞争。公开......
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ASML下代EUV光刻机年底问世:1nm工艺(2023-06-19)
也会大涨。
光刻机的分辨率越高,越有利于制造更小的晶体管,而分辨率也跟光刻机物镜的NA数值孔径有直接关系,目前的EUV光刻机是NA=0.33技术的,下代EUV光刻机则是提升到NA=0.55......
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欧洲IMEC 也参与,日本 Rapidus 宣布推进2nm半导体生产(2023-01-11)
的最新款EUV曝光机,以用于研发工作。Rapidus应该可以利用与imec的合作关系,获得ASML的最新一代光刻机的相关技术,并填补上述差距。
但是,另一个问题是Rapidus能否获得光刻机......
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飞凯材料:半导体光刻胶已形成少量销售,正在做KrF相关的开发工作(2023-04-14)
飞凯材料:半导体光刻胶已形成少量销售,正在做KrF相关的开发工作;4月12日,飞凯材料公布投资者关系活动记录表。飞凯材料的光刻胶主要有显示面板光刻胶和半导体光刻胶,其主要产品多应用于半导体封装、面板......
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俄罗斯:2024年将制造350nm光刻机(2023-11-06)
日本尼康和荷兰ASML。然而,其对于半导体的生产相当重要。
Vasily Shpak表示,2024年就将拨款2114亿卢布用于俄罗斯电子产品的开发。俄罗斯决定开发350纳米到65纳米光刻机的......
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佳能光刻机现在是什么水平?探访进博会上的光学大厂(2022-11-16)
个领域,我们就有很多解决方案。”“还有在半导体制造后端的先进封装,这部分对光刻机的需求也很高,我们在这方面就有很多的应用。”牧野晶说,“more than Moore还有很多广泛的应用。在这些领域内,佳能......
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郭明錤:EUV光刻机出货量,明年大跌30%(2023-10-10)
可能面临订单削减,这导致该公司股价周三下跌。
ASML制造对于制造先进半导体至关重要的极紫外(EUV)光刻机。其客户包括台积电、三星......
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可绕过EUV量产5nm!佳能CEO:纳米压印设备无法卖到中国(2023-11-07)
芯片。
此前佳能一直专注于制造不太先进光刻机产品。直到2014年,佳能收购了Molecular Imprints股份有限公司,开始押注纳米压印技术。
近十年来,佳能一直在与日本光罩等半导体......
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台积电CEO秘访ASML,High-NA EUV光刻机竞赛提前打响?(2024-05-30)
节点上进行验证和学习,然后再将High-NA EUV光刻机应用于Intel 14A制程的量产。
上个月英特尔晶圆代工(Intel Foundry)宣布,已在美国俄勒冈州希尔斯伯勒的英特尔半导体......
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最近申请的一项光刻装置专利到底是什么呢?公开图纸,我们也造不出来?(2022-11-28)
技术的研发投入。
近日,中企更是公开了一项有关于EUV光刻技术的专利,也曝光了ASML加速对中企出货DUV光刻机的原因。
根据国家知识产权官网显示:传芯半导体......
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尼康推出新一代步进式光刻机“NSR-2205iL1”,2024 年夏季上市(2023-09-06)
”,预计 2024 年夏季上市。
据称,这种光刻机具有缩小投影放大系统,支持功率半导体、通信半导体和 MEMS 等多种产品,并且与尼康现有的 i-line 曝光设备高度兼容;NSR-2205iL1 代表......
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ASML今年下定了几个决心(2022-11-29)
ASML今年下定了几个决心;
作为唯一一家控制着控制着半导体产业生命线的“EUV光刻机”的制造商,对行业趋势的洞察力无疑超过了其他公司。在日前召开的投资者大会上,对未来十年半导体......
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信越化学停止供货,光刻胶再现缺货潮(2021-06-02)
难求”现象愈演愈烈,光刻胶的供应难问题再次引发了业内的广泛关注。
日本地震破坏光刻胶产线
光刻胶是半导体的核心耗材,直接影响着晶圆的良率与品质。此前光刻胶的“涨价风波”对不......
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英伟达发布cuLitho改变游戏规则,我国计算光刻技术是否能“打”?(2023-04-06)
发展到什么水平了,能否自主可控?
什么是计算光刻?为何如此重要?
计算光刻虽然不被大家所熟知,但和它密切相关的光刻机可谓家喻户晓。光刻机被誉为半导体工业皇冠上的明珠,而光刻......
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格科微12寸CIS项目正式搬入ASML先进ArF光刻机(2022-03-28)
于中国(上海)自由贸易试验区临港新片区,为格科微全资子公司。
格科微表示,ArF光刻机的成功引入是格科微“12英寸CIS集成电路特色工艺研发与产业化项目”建设的关键节点。依托自有工厂即格科半导体......
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进入台积电供应链、获华为青睐 炬光科技闯关科创板(2021-02-07)
制造设备、光刻机核心部件生产商,激光雷达整机企业,半导体和平板显示设备制造商等提供核心元器件及应用解决方案,产品逐步被应用于先进制造、医疗健康、科学研究、汽车应用、信息技术五大领域。
招股书指出,炬光科技报告期内主要收入来源于半导体......
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云计算、AI对算力需求的快速增长成驱动数据中心增长的第一要素(2022-12-23)
到0.55的设备。比现有的EUV设备处理更精细的半导体电路。业界大多数人认为,High-NA设备对2nm工艺至关重要。
据推测,High-NA EUV光刻机的单价为5000亿韩元,是现有EUV光刻机的......
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晶圆代工厂“头疼”?阿斯麦Hyper-NA EUV售价或超7.24亿美元(2024-07-02)
售价则有可能超过7.24亿美元。
如此高昂的光刻机费用,对大部分半导体厂商而言无疑是一种负担。例如2023年半导体厂商英特尔代工业务亏损70亿美元,其中,采用下一代EUV光刻机......
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DUV光刻机遭进一步限制,中国仍有破局之路(2023-01-30)
DUV光刻机遭进一步限制,中国仍有破局之路;
【导读】针对近期荷兰、日本加入对华半导体设备出口管制的动向,知名行业分析师Dylan Patel认为,三方所达成的合作意向依然非常初步,本质......
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三家光刻机龙头企业积极回应半导体市场需求(2022-08-23)
新技术。今年4月外媒报道佳能正在内部开发“三维(3D)”技术的光刻机,以通过堆叠多个芯片的方式实现提高半导体性能。
据悉,该光刻机的光刻面积是现有产品4倍面积,佳能......
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尼康起诉ASML侵权,曾经光刻巨头的最后挣扎?(2017-04-25)
ASML的股东,拥有ASML的EUV光刻机的优先供货权。
尼康光刻机是怎样步步走向灭亡
据一位曾在半导体晶圆厂工作过的人员表示, 从其进入半导体行业起,尼康的芯片光刻机......
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半导体大厂持续加码EUV光刻机(2024-04-29)
电子和蔡司将进一步扩大双方在EUV技术和先进半导体设备相关领域的合作。
ASML第二台High NA EUV光刻机已交付?
近期,英特尔表示完成ASML High NA EUV光刻机的安装,已进......
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晶瑞股份顺利购得ASML ArF浸入式光刻机(2021-01-21)
胶的生产研发状况时表示,“公司目前正在生产和销售的半导体光刻胶主要包括I线和G线光刻胶,此外还有印制电路板(PCB)和液晶显示器(LCD)光刻胶等;购买的光刻机主要用于未来高端半导体光刻机的......
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芯碁微装功率器件直写光刻设备出口日本(2024-08-20)
设备领域的领先地位。
据介绍,MLF系列直写光刻机采用先进的数字光刻技术,无需掩模版,可直接将版图信息转移到涂有感光材料的衬底上,适用于第三代半导体碳化硅工艺应用,功率半导体(IGBT)、陶瓷......
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直言光刻胶国产替代仍空白,中芯国际相关负责人遭怼“算老几”...(2021-08-03)
胶批量测试的过程需要占用晶圆厂机台的产线时间,在产能紧张的时期测试时间将会被延长。测试的过程需要与光刻机、掩膜版及半导体制程中的许多工艺步骤配合,付出成本极高。通常面板光刻胶验证周期为 1-2 年,半导体光刻......
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尼康计划推出支持3D半导体的光刻机,目标2026年销量翻番(2022-08-25)
年3月)3年平均销量的2倍以上。尼康计划以2023年上市的支持3D半导体的新产品为中心。
众所周知,光刻机是半导体制造的关键设备。但是在半导体光刻机市场,荷兰ASML一家独大,占据......
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芯源微:前道涂胶显影机可与ASML等光刻机联机应用(2021-01-08)
芯源微:前道涂胶显影机可与ASML等光刻机联机应用;近日,芯源微披露投资者关系活动记录表指出,公司前道涂胶显影机与国际光刻机联机的技术问题已经攻克并通过验证,可以与包括ASML、佳能......
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国产刻蚀设备凭什么后发赶超?(附厂商盘点)(2020-08-18)
、刻蚀机和薄膜沉积设备,成本价值占前道设备的近70%。
刻蚀工艺顺序位于镀膜和光刻之后。简单来说,刻蚀机的作用就好像是雕刻中的刻刀一样,利用光学-化学反应原理和化学、物理......
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芯片制造工艺黑科技再现,那么中国是如何在限制下实现芯片自给自足?(2022-11-29)
专利数量最多的企业,海思半导体也在高端移动芯片市场与外国芯片第一次打得不分胜负。
不过海思只是设计企业,想要将PPT变为成品,离不开ASML的EUV光刻机。然而,合作、竞争已经成为当下世界形势的主流,尤其......
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同兴达昆山先进封装项目一期开启量产(2023-11-01)
,是昆山首台金凸块封测光刻机,具有较强延展性,可实现与先进制程芯片相似功能,对缩短国内与国外产品代差具有重要意义。
与此同时,昆山同兴达创立之初,与日月新半导体(昆山)有限公司(以下简称“日月新半导体......
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佳能发售面向后道工艺的3D技术i线半导体光刻机新产品(2022-12-07)
还面向青少年专门开设了一个页面,帮助他们理解曝光的原理。
〈半导体光刻机的市场动向〉
近年来,随着物联网的飞速发展,以及受新冠疫情影响使远程办公和在线活动持续增加,市场对各种半导体器件的需求也在提升。在这种情况下,除芯......
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另一家中国光刻机厂商浮出水面!(2024-07-04)
1990年代的ASML,正处于爆发前夕。在过去的20年里,其光刻机几乎遍布全球主要半导体产业集中地,成功树立了ABM光刻机的国际品牌。未来,ABM将持续打造为光刻设备的国际化产业平台。作为中国光刻机......
相关企业
;怡合瑞丰科技发展有限公司;;注册于香港,代理美国ABM公司的光刻机及其他半导体设备。可以为客户提供先进的凸点制造等封装工艺与设备
,我们相继开发了微型针孔镜头、半导体光刻机镜头、光刻激光照明系统、双探测器变焦镜头、GPI系列医用光学适配器、GPI医用摄像机、GLN系列激光夜视系统、GLN系列激光照明系统、透雾摄像机等产品。其中
我所在人工晶体研究方面的技术优势,开展了压电晶体和激光晶体的研究开发和生产,在半导体材料、激光晶体、光学晶体、压电晶体和晶体生产技术、测试技术等领域有较强实力,形成了一定的特色,是广
;宁波市海曙区威力三星贸易有限公司;;欧、日、美、德等二手进口工控拆机配件、半导体行业设备及配件、机械行业设备等,如尼康光刻机NSR1505-G4备品备件,莱宝真空泵、真空阀、UV紫外线光源机、日本
YAG激光刻字机、CO2激光刻字机和光纤激光刻字机系列产品。公司的激光刻字机已在大众汽车、日立电器等大公司的多条生产线上使用。很多台资企业也使用本公司生产的激光刻字机。公司的激光刻
激光打标机,端泵激光打标机) 泉州晋江,南安,石狮,安溪,永春,惠安,德化,泉港半导体激光打标机,光纤激光打标机,二氧化碳激光打标机,激光雕刻机,激光切割机。程光激光打标机,雕刻机品质好,价格低,稳定
;宝瑞电子(成都)有限公司;;我公司是专业的半导体 代理商,尤其是消费类产品的代理,跟很多国际级的半导体厂家有着很好的关系. 能为你提供最优质的服务.
;襄阳仪波达微电子设备有限公司业务部;;襄阳仪波达微电子设备有限公司是可控硅芯片磨角机、扩散炉、真空烧结炉、旋转腐蚀机、半导体光刻机、匀胶机、清洗机、扩散炉体、晶闸管测试台、温度
;金亿达电子有限公司;;金亿达电子五金有限公司是一家服务于半导体设备及节能光源的专业性企业,公司分自动设备部和光电节能事业部。 金亿达半导体设备部配套于半导体、光电产业、自动化设备行业,提供
;上海星捷激光设备有限 公司;;上海星捷激光设备有限公司自成立以来一直致力于激光成套设备的研发、生产、销售和服务的新兴高科技企业。激光打标机021-33586469,上海激光打标机,半导体