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研发客服根据俄罗斯媒体报道指出，俄罗斯本身正在研发生产芯片的光刻机。其工业和贸易部副部长Vasily Shpak在接受媒体访问时指出，2024年将开始生产350纳米光刻机，2026年启动用于生产130纳米制程芯片的光刻机。其生产将在莫斯科、泽列诺格勒、圣彼得堡和新西伯利亚的现有工厂进行。
Vasily Shpak指出，当前全球只有两家公司生产此类设备，包括日本尼康和荷兰ASML。然而，其对于半导体的生产相当重要。
Vasily Shpak表示，2024年就将拨款2114亿卢布用于俄罗斯电子产品的开发。俄罗斯决定开发350纳米到65纳米光刻机的原因，在于这一技术范围内的芯片多用于微控制器、电力电子、电信电路、汽车电子等方面上，这些应用大约占市场的60%。所以，这项设备在全世界市场的需求量很大，并且将在至少10年内有持续的需求。
另外，当被问到可能遭遇的阻力时，Vasily Shpak说，我不想抱怨，所有的问题都不是问题，因为这关系到我们拥有哪些机会，以及所设定的目标。
封面图片来源：拍信网
文章来源于:全球半导体观察 原文链接
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