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研发客服近日，苏州晶瑞化学股份有限公司（以下简称“晶瑞股份”）发布公告称，经多方协商、积极运作，公司已顺利购得ASML XT 1900 Gi型光刻机一台，并于2021年1月19日运抵苏州并成功搬入公司高端光刻胶研发实验室。
据悉，晶瑞化学此次采购的光刻机设备为ASML XT 1900 Gi型ArF浸入式光刻机，可用于研发最高分辨率达28nm的高端光刻胶。该设备于2020年11月19日从原厂断电停机，于2021年1月19日运抵苏州并成功搬入公司高端光刻胶研发实验室。
公告显示，本次购买的ASML光刻机设备系晶瑞股份集成电路制造用高端光刻胶研发项目的必要实验设备，旨在研发出更高端的ArF光刻胶，若研发工作进展顺利，将有助于公司将光刻胶产品序列实现到ArF光刻胶的跨越，并最终实现应用于12英寸芯片制造的战略布局。
晶瑞股份表示，目前公司完成中试的KrF光刻胶已进入客户测试阶段，达到0.15μm的分辨率。本次光刻机的顺利入驻可以保障公司集成电路制造用高端光刻胶研发项目关键设备的技术先进性，对加快产品研发项目进度有积极影响。
晶瑞股份在接受经济观察网咨询有关光刻胶的生产研发状况时表示，“公司目前正在生产和销售的半导体光刻胶主要包括I线和G线光刻胶，此外还有印制电路板（PCB）和液晶显示器（LCD）光刻胶等；购买的光刻机主要用于未来高端半导体光刻机的研发。”
公告显示，下一步，晶瑞股份将积极组织相关资源，尽快完成设备的安装调试工作。
封面图片来源：ASML
文章来源于:全球半导体观察 原文链接
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