随着半导体大厂先进制程芯片竞争日益升温，EUV光刻机成为市场“香饽饽”，引发业界关注。

目前，英特尔率先拿到了ASML High-NA EUV光刻机设备，并于近期宣布该台光刻机完成组装。三星也不甘示弱，表示将与ASML EUV光刻机组件供应商蔡司联手，在EUV领域深化合作。与此同时，ASML第二台High-NA EUV光刻机也传出交付的消息，但买家成谜。

三星与蔡司联手，深化EUV合作

韩媒报道，三星电子的执行董事长李在镕（Jay Y. Lee）近期在德国会见了蔡司总裁兼首席执行官卡尔·兰普雷希特（Karl Lamprecht）及其他公司高管。

会议上，双方同意扩大在EUV技术和尖端半导体设备研发方面的合作，以增强两家公司在晶圆代工代工和存储芯片领域的业务竞争力。通过这次合作，三星希望提升下一代半导体技术，优化芯片制造流程，提高先进芯片的生产良率。

蔡司还计划到2026年投资480亿韩元在韩国建设研发中心，加强同三星等韩企的战略合作。

资料显示，蔡司是光学与光电解决方案开发商，也是光刻机大厂ASML EUV光刻机独家供应商，每台EUV光刻机中包含了三万多个由蔡司提供的组件。蔡司在EUV技术方面拥有超过2000项核心专利，其掌握的技术可以在高性能先进芯片生产中发挥重要作用。

未来，三星电子和蔡司将进一步扩大双方在EUV技术和先进半导体设备相关领域的合作。

ASML第二台High NA EUV光刻机已交付？

近期，英特尔表示完成ASML High NA EUV光刻机的安装，已进入光学系统校准阶段。这是ASML生产的首台High NA EUV光刻机，价值高达3.5亿欧元，英特尔计划用该款设备生产1.8nm以下的先进制程芯片。

媒体报道，除了英特尔以外，台积电、三星、美光等厂商也向ASML订购了High NA EUV光刻机。ASML财报中透露，今年第一季度公司新增订单金额为36亿欧元，其中6.56亿欧元为EUV光刻机订单。近期ASML对外交付了第二台High NA EUV光刻机，但未透露买家信息。

目前两台High NA EUV光刻机并无法满足市场对先进制程芯片的需求，未来ASML还计划生产更多高端光刻机设备。

封面图片来源：拍信网