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最近申请的一项光刻装置专利到底是什么呢？公开图纸，我们也造不出来？; 11 月 19 日消息，在半导体行业，极紫外光刻技术 (Extreme Ultraviolet，EUV) 对于未来光刻......
获重大突破，这次官方证实我国研发EUV光源系统具有重要意义。可以推测，长春光机所的EUV系统已达可用级别，不是半成品，打破市场预测。本文引用地址：       ASML首席执行官温克宁不满地表示：“中国制造光刻机是......
ASML下代EUV光刻机年底问世：1nm工艺; 据报道，在工艺进入7nm节点之后，EUV光刻机是少不了的关键设备，目前只有能制造，单台售价10亿人民币，今年底还会迎来下一代EUV光刻机，价格......
NXE：3400B EUV 微影系统完成出货。 而回顾整个2016年， ASML销售了139台光刻机，在半导体设备行业的市场份额在58％左右。据了解，半导体制造企业的平均毛利在34%左右......
://bbs.eeworld.com.cn/thread-1258802-1-1.html） 俄罗斯所说的光刻机究竟是什么？国内有吗？ 付斌丨作者 电子工程世界（ID：EEWorldbbs）丨出品 断供......
国脖子的设备有很多，但光刻机是国产化率一直成长最慢的一个。 对芯片来说，5nm以后就必须使用EUV光刻机。这是因为，当金属间距缩小到30nm以下（对应工艺节点超越5nm），光刻机的分辨率就不够用了。 从公式“光刻机......
10亿一台仍供不应求！目前，全球最先进的光刻机是由荷兰ASML制造的EUV光刻机，台积电、三星的7nm制程均离不开它。EUV光刻机精密复杂，这些技术掌握在由42个国......
EUV极紫外光刻机，型号“Twinscan EXE:5000”。 NA数值孔径是光刻机光学系统的重要指标，直接决定了光刻的实际分辨率，以及最高能达到的工艺节点。 ASML现有最先进的EUV光刻机是NEX......
下代EUV光刻机要来了 炬光科技：是ASML核心供应商的重要供应商;1月25日消息，针对投资提问ASML的新一代光刻机EXE:5200是否使用了炬光科技的产品，炬光科技回应称公司是ASML公司......
实现最小线宽为10nm的电路图案，相当于2nm节点。   半导体制造领域，光刻机是昂贵且关键的设备，而纳米压印设备被多家日本半导体设备厂商视作替代光刻机的“下一代设备”，担负......
并不在限制范围内。 ASML官网上关于这一台TWINSCAN NXT:1980Di的介绍，其中在分辨率方面，写到是大于等于38nm（可以支持到7nm左右），而这是指一次曝光的分辨率，事实上光刻机是......
支持到7nm左右)，而这是指一次曝光的分辨率，事实上光刻机是可以进行多次曝光的。 理论上NXT:1980Di依然可以达到7nm，只是步骤更为复杂，成本更高，良率可能也会有损失，晶圆厂用这一台，大多......
也卖不动了，台积电被曝砍单40%订单。 EUV光刻机是7nm以下工艺必不可少的核心设备，全球只有荷兰ASML公司能够生产，售价高达10亿，下一代EUV光刻机会更会涨价到25亿以上，但是......
EUV光刻机缺货问题要持续3年，瓶颈居然是...;细致到可以深究成熟工艺的光掩模（photomask）短缺问题——据说也是近期才发现的，尤其是28nm及以上工艺的产能开始受到掩模短缺问题的影响。不过......
市场，光刻机是半导体制造关键步骤，但高数值孔径(High NA) EUV，Peter Wennink 指有些供应商提高产能及提供适当技术遇到困难，导致延误。但即便如此，第一......
亿欧元，毛利率为48.6%，净利润达36亿欧元。 EUV光刻机是当前顶尖芯片制造的关键设备，主要用于生产7纳米及更先进制程的芯片。2020年，ASML共销售31台EUV，较前一年增加5台，创收45......
ASML加大中国市场开拓：7nm高端DUV光刻机可出口; 4月18日消息，据台系设备厂商透露，近期由于客户大砍资本支出、缩减订单，最重要是大客户台积电也大砍逾4成EUV设备......
大幅扩充人员规模 光刻机是芯片制造流程中，光刻工艺的核心设备，具有较高技术壁垒。ASML是全球少数几家提供光刻机的企业之一，尤其是高性能的EUV光刻机——主要用于生产7纳米及更先进制程的芯片，则只有ASML一家......
日本成功引入首台ASML EUV光刻机......
购了这家名为Berliner Glas的工厂。 晶圆代工厂疯抢光刻机设备 光刻机是一种制造芯片的关键设备，利用特定波长的光进行辐射，将掩膜版上特定的图像精准的印刻在硅片上。目前，光刻机......
的计划对整个行业的推动都极为重要，接下来几代制程工艺极紫外光刻机是核心，Intel，三星，台积电都曾对ASML投资以支持其产品研发。 三星计划在2018年利用EUV实现7nm工艺；台积......
约。光刻机是芯片制造的必需设备，EUV光刻机是目前7nm制程以下节点的核心设备，而全球只有荷兰ASML一家企业可生产EUV光刻机。 全球化的供应链遭遇严峻挑战 无论是限制“技术出口”或是“技术......
例，表示“希望加强半导体领域的政府间合作”。 EUV极紫外光刻机是目前最先进的芯片制造设备，用于制造7nm以下制程工艺，荷兰对这类尖端设备进行出口管制，限制对华出口。根据日媒报道，日本......
着芯片制造技术的提升，一些半导体设备，制程工艺都在持续突破。 用EUV光刻机造高端芯片成为了行业常识，只有EUV光刻机的极紫外光源才能达到7nm、5nm等制程所需的分辨率和精度。 但是获取EUV光刻机是有难度的，一方......
维半导体的多样化需求提出最佳解决方案。 光刻机格局：三分天下 光刻机是半导体制造的核心，用于将电子电路蚀刻在基板上。目前，ASML、尼康、佳能三家占据了绝大部分的市场股份。在1990年代之前，尼康和佳能曾在光刻机......
机器，包括最先进的极紫外光刻机（EUV）。 ASML不装了 为了让中国不能获取先进光刻机和芯片，美国绞尽了脑汁。而这一次，他们又把目光锁定在台积电厂房内的光刻机和产线。 据外......
备无法出口到中国。 尖端制程严重依赖EUV光刻机 总部位于荷兰的ASML是目前全球最大的光刻机厂商，同时也是全球唯一的极紫外光刻设备供应商。EUV光刻机是目前世界上最先进的芯片制造设备，每台......
元之间。 EUV极紫外光刻机是目前最先进的芯片制造设备，用于制造7nm以下制程工艺，目前各方都在争取机会，以通过高新技术帮助本土芯片制造。此前，据日经中文网消息，日本......
下一代EUV光刻机什么样？ASML来解答;近日，ASML发布了2022年第四季度及全年财报，并且披露了未来的技术发展路线，其中ASML在下一代EUV光刻机——High NA EUV光刻机......
下一代EUV光刻机什么样？ASML来解答; 【导读】近日，ASML发布了2022年第四季度及全年财报，并且披露了未来的技术发展路线，其中ASML在下一代EUV光刻机——High NA......
EUV光刻机系统的单台造价将在25亿元(单台造价在3亿到3.5亿欧元之间，约合人民币21.95到25.61亿元)。 这个价格什么概念，资料显示重型航母(排水量60000吨以上)航母造价是35......
年3月）3年平均销量的2倍以上。尼康计划以2023年上市的支持3D半导体的新产品为中心。 众所周知，光刻机是半导体制造的关键设备。但是在半导体光刻机市场，荷兰ASML一家独大，占据......
体行业准备迈入High-NA EUV时代 众所周知，EUV光刻机是先进半导体生产的关键。从本质上理解，High NA EUV技术是EUV技术的进一步发展。NA代表数值孔径，表示......
:1980Di的介绍，其中在分辨率方面，写到是大于等于38nm（可以支持到7nm左右），而这是指一次曝光的分辨率，事实上光刻机是可以进行多次曝光的。 ......
实现跨越性进步的有效方法是降低使用光源的波长。几十年来，光刻机厂商们就是这么做的：他们将晶圆曝光工具从人眼可见的蓝光端开始逐渐减小波长，直到光谱上的紫外线端。 但是，EUV 技术是非常困难的。在使......
佳能押注“纳米压印”技术，价格比 ASML EUV 光刻机“少一位数”;11 月 6 日消息，日本佳能一直在投资纳米压印（Nano-imprint Lithography，NIL）这种......
新技术加持，国产光刻机有望获得新突破; 光刻机是集成电路制造的关键核心设备，为了在更小的物理空间集成更多的电子元件，单个电路的物理尺寸越来越小，主流光刻机在硅片上投射的光刻电路分辨率达到50......
国际社会重点关注 “SSMB光源的潜在应用之一是作为未来EUV光刻机的光源，这是国际社会高度关注清华大学SSMB研究的重要原因。”唐传祥告诉记者。 在芯片制造的产业链中，光刻机是必不可少的精密设备，是集......
光刻，在此之前本就无法确定。 《快科技》报导说，事实上2023年ASML一直都在向中国客户供应光刻机，其中就包含了NXT:2000i和更先进的DUV型号的产品。至于更先进的7nm以下更先进的EUV光刻机......
外交部确认了即将举行的会议，但没有详细说明议程上的议题。“荷兰总是与我们的合作伙伴进行良好的讨论。周一的官员会议就是一个例子，”该部告诉路透社。 ASML是全球最大的光刻机制造商，也是唯一的极紫外（EUV......
现在排队至2026年。 此外，台积电将于今年年底从荷兰供应商ASML接收首批全球最先进的芯片制造机器，仅比美国竞争对手英特尔晚几个月。 高数值孔径极紫外(High NA EUV)光刻机是......
本次的密访动作似乎显示对这一明确的立场有了新的想法，有可能会修正其既定计划，提前导入High-NA EUV光刻机进行试验和学习。台积电何时使用ASML的最新技术将取决于何时最具成本效益，以及技术成熟度的平衡点。 为什么需要High......
ASML的股东，拥有ASML的EUV光刻机的优先供货权。 尼康光刻机是怎样步步走向灭亡 据一位曾在半导体晶圆厂工作过的人员表示， 从其进入半导体行业起，尼康的芯片光刻机......
半导体大厂持续加码EUV光刻机;随着半导体大厂先进制程芯片竞争日益升温，EUV光刻机成为市场“香饽饽”，引发业界关注。 目前，英特尔率先拿到了ASML High-NA EUV光刻机设备，并于近期宣布该台光刻机......
全球只有5家客户 ASML今年将出货60台EUV光刻机; 随着工艺进入到5nm节点以内，对EUV的需求也不断增长，目前全球只有ASML一家公司能够生产EUV光刻机，今年......
晶圆代工厂“头疼”？阿斯麦Hyper-NA EUV售价或超7.24亿美元;近日，据朝鲜日报报道，阿斯麦（ASML）将针对1纳米以下制程，计划在2030年推出更先进Hyper-NA EUV光刻机......
时间。 ArF光刻胶是什么？ 芯片生产过程中，需要用光学材料将数以万计的电路刻在小小的7nm的芯片上，而这种辅助的光学材料，就是光刻胶。 从光刻胶的发展历程看，从 20 世纪 50 年代至今，光刻......
ASML第2代EUV光刻机开发传瓶颈，神队友救援力拼原时程问世;极紫外光刻机（EUV）目前是先进半导体制程中，不论是DRAM或晶圆代工生产过程中，进一步提升效能的关键之一。而目前荷兰商ASML则是......
ASML堵了EUV光刻机的路，但国产光刻机有3大新方向;众所周知，当前全球只有一家能够生产，甚至可以说很长一段时间内，全球也只有能够生产，不会有第二家。本文引用地址：原因在于把的路堵住了，这条......
工艺应用结合的产物，将促进光刻工艺的革命性改进，符合国际光刻设备研究发展趋势，也使得我国在新型直接光刻设备研发中抢占先机。 EUV光刻机，摩尔定律的拯救者 关于EUV技术可以溯源到20......

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