尽管半导体产业仍处调整周期中，但部分应用市场需求强劲，正吸引半导体厂商积极扩产，而在芯片制造过程中，制造设备不可或缺。近期，为满足市场需要，全球光刻机大厂ASML又有新动作。

ASML大手笔，每年1亿欧元扶持柏林厂

据德国媒体《商报》（Handelsblatt）报道，近日，荷兰半导体公司阿斯麦（ASML）将在2023年投资1亿欧元（1.09亿美元），未来几年每年将投资相同金额，扩大其位于德国柏林制造工厂的生产和开发能力。

ASML德国区董事总经理George Gomba表示，劳动力也将随之增加。Gomba表示自2022年初以来，已经增加了600名员工。该公司目前在首都拥有1700名员工，预计几年内将增加到2300人。

据悉，ASML柏林工厂主要生产的零部件包括晶圆台、光罩盘以及反射镜等光刻机核心零部件。ASML在2020年收购了这家名为Berliner Glas的工厂。

晶圆代工厂疯抢光刻机设备

光刻机是一种制造芯片的关键设备，利用特定波长的光进行辐射，将掩膜版上特定的图像精准的印刻在硅片上。目前，光刻机市场高度集中，全球掌握该技术的只有少数几家企业，其中荷兰ASML是全球最大的光刻机企业，也是全球最先进的光刻机企业，此外，尼康、佳能、上海微电子装备等公司亦在积极布局光刻机领域。

而用于曝光半导体的极紫外光刻（EUV）技术，由于造价昂贵、制程复杂、货源稀少，而ASML是全球唯一在销售EUV的公司，对7nm以下的先进制程而言，EUV是不可或缺的设备。历经20余年研发，EUV技术至今成为半导体先进制程中最重要的生产工具，并使得摩尔定律得以延续，据悉，该技术将会让摩尔定律至少延续再一个十年。

作为重要的EUV设备供应商，ASML正在开发新一代NA-EUV设备，此名称代表高数值孔径，其该值越大，可实现的解析度越高，芯片上安装的电晶体就越多。据悉，1台NA-EUV售价数亿欧元，预计年底前，ASML就会推出全球第1台高NA-EUV，并交付给英特尔。

目前，台积电与三星正在使用EUV设备进行制造，包括台积电7nm、5nm、3nm制程，三星于韩国华城建置的EUV Line (7nm、5nm及4nm)，以及3nm GAA制程等。

台积电的2nm制程将持续使用EUV技术。而此前，台积电9月宣布收购将以不超4.328亿美元的价格收购英特尔旗下子公司IMS，后者专注于研发和生产电子束光刻机。业界称，台积电此举可确保关键设备的技术开发，并满足2nm商用化的供应需求。

三星在已量产第二代3nm芯片之后，表示将目标定在2nm芯片。三星计划2025年实现应用在移动领域2nm工艺的量产，于2026和2027分别扩展到HPC及汽车电子。据媒体9月报道，三星正准备确保下一代EUV光刻机High-NA的产量，预计这款设备将于今年晚些时候推出原型，明年正式供货。

而英特尔自业界公布将重拾晶圆代工业务之后，于10月宣布已开始采用极紫外光刻（EUV）技术大规模量产Intel 4制程节点。据了解，目前，Intel 7和Intel 4已实现大规模量产；Intel 3正在按计划推进，目标是2023年底。

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