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研发客服【导读】近日，ASML发布了2022年第四季度及全年财报，并且披露了未来的技术发展路线，其中ASML在下一代EUV光刻机——High NA EUV光刻机方面的进展值得关注。
近日，ASML发布了2022年第四季度及全年财报，并且披露了未来的技术发展路线，其中ASML在下一代EUV光刻机——High NA EUV光刻机方面的进展值得关注。
ASML财报显示，2022年第四季度，ASML实现净销售额64亿欧元（当前约471.68亿元人民币），毛利率为51.5%，净利润达18亿欧元（当前约132.66亿元人民币）；季度净预订量为63亿欧元（当前约464.31亿元人民币），其中34亿欧元（当前约250.58亿元人民币）为EUV。
从2022年整年看，ASML实现净销售额212亿欧元（当前约1562.44亿元人民币），毛利率为50.5%，净利润达56亿欧元（当前约412.72亿元人民币）。
据悉，2022年ASML实现了不少重要进展，例如在DUV方面，他们交付了NXT KrF 系统的首台设备TWINSCAN NXT:870和第一台TWINSCAN NXT:2100i。目前，ASML还在继续研究开发下一代EUV光刻机——High NA EUV光刻机。
按照ASML所说，在历经六年的研发后，他们在2022年收到了供应商提供的第一个高数值孔径机械投影光学器件和照明器（illuminator）以及新的晶圆载物台（wafer stage）。这些模块将用于EXE:5000的初始测试和集成，是其中的一个重要的步骤。
ASML表示，2022年公司收到了所有现有EUV客户的采购订单，要求交付业界首个TWINSCAN EXE:5200系统——具有High-NA和每小时220片晶圆生产率的EUV大批量生产系统。
关于未来的EUV光刻机发展路径，ASML首席技术官Martin van den Brink在财报中透露，他认为Hyper-NA EUV有望在这个十年结束后成为现实，即客户将在2024到2025间在其上面进行研发，并有望在2025到2026年间进行大规模量产。据悉，High-NA光刻机可以在关键层上做更小的CD。
据悉，High-NA光刻机可以在关键层上做更小的CD，但是现在在开发商也面临着巨大的挑战。“开发High-NA技术的最大挑战是为EUV光学器件构建计量工具。High-NA反射镜的尺寸是前一代产品的两倍，并且需要在20皮米内保持平坦。要实现这些目的，需要在一个大到‘你可以在其中容纳半个公司’的真空容器中进行验证。”Martin van den Brink说。
（来源：今日半导体）
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