近日,在其官网发表声明称,该公司未来出口其先进的浸润式DUV光刻系统(即TWINSCAN NXT:2000i及后续浸润式系统)时,将需要向荷兰政府申请出口许可证。而ASML强调,该公司的EUV系统的销售此前已经受到限制。
据ASML官网提供的信息,该公司目前在售的主流浸没式DUV产品共有三款,分别是:TWINSCAN NXT:1980Di、TWINSCAN NXT:2000i、TWINSCAN NXT:2050i。
阿斯麦3月曾表示,预计2000i和2050i这两款产品会受到荷兰政府的出口限制。再对比阿斯麦今天的回应来看,TWINSCAN NXT:1980Di这款浸润式DUV光刻机并不在限制范围内。
官网上关于这一台TWINSCAN NXT:1980Di的介绍,其中在分辨率方面,写到是大于等于38nm(可以支持到7nm左右),而这是指一次曝光的分辨率,事实上光刻机是可以进行多次曝光的。
理论上NXT:1980Di依然可以达到7nm,只是步骤更为复杂,成本更高,良率可能也会有损失,晶圆厂用这一台,大多是生产14nm及以上工艺的芯片,很少去生产14nm以下的工艺,因为良率低,成本高,没什么竞争力。
文章来源于:21IC 原文链接
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