资讯
俄罗斯正在开发可替代光刻机的芯片制造工具？(2023-10-10)
俄罗斯正在开发可替代光刻机的芯片制造工具？;近期，俄罗斯国际新闻通讯社报道，俄罗斯在开发可以替代光刻机的芯片制造工具。
据悉，圣彼得堡理工大学的研究人员开发出了一种“光刻复合体”，可用......
下代EUV光刻机要来了 炬光科技：是ASML核心供应商的重要供应商(2022-01-26)
中，ASML公司还新增了71亿欧元的新订单，其中就有一套NA 0.55高数值孔径EUV光刻机的销售，这是ASML下一代光刻机，订购这个光刻机的是Intel，据说成本高达3亿美元，约合19亿元。
4年来......
EUV将成主流，哪些公司将受伤？(2017-04-05)
EUV有望在未来几年成为主流。
随着半导体制程工艺演变，工艺推进的成本也越来越高，如今能负担起最新制程研发的基本只剩四家：GlobalFoundries，Intel，三星和台积电。这几家公司采购新一代光刻机的......
光刻机大厂即将发布新型ArF浸没式扫描仪，整体生产率提高10-15%(2023-12-09)
在不使用EUV光刻机的情况下，实现高精度的芯片制造。这一突破性的技术进步为全球半导体产业带来了新的选择和希望。
封面图片来源：拍信网......
斥资76亿元，荷兰企图复制一个ASML半导体“神话”(2022-04-18)
投资Smart Photonics，以确保关键技术不外流，一度阻拦ASML向中国出口光刻机。
国际电子商情了解到，除生物科技、微米电子与半导体、纳米科技与先进材料之外，光子学 (photonics) 也是欧盟执委会近年推动的关键促成技术......
日本研发新一代光刻机,佳能3.6亿美元东京建厂(2022-12-13)
，还将用于增加纳米压印光刻 (NIL) 机的产量。计划于 2025 年开始运营。
KrF 和 i-line 光刻是成熟的技术，但它们仍被广泛用于定义众多 IC 类型、MEMS 和平......
晶圆代工布局2nm芯片，瞄准High-NA EUV光刻机(2023-12-20)
芯片的制造设备引进韩国，重点是与这家荷兰公司建立合作伙伴关系，以便它可以更好的利用下一代光刻机设备。
ASML将在未来几个月内推出能制造2纳米节点芯片的设备。其最新的High-NA EUV光刻机的......
俄罗斯正在开发可替代光刻机的芯片制造工具(2023-10-10)
俄罗斯正在开发可替代光刻机的芯片制造工具;近期，国际新闻通讯社报道，在开发可以替代的工具。据悉，圣彼得堡理工大学的研究人员开发出了一种“光刻复合体”，可用于蚀刻生产无掩模芯片，这将有助于在微电子领域技术......
俄罗斯开发出可替代光刻机的芯片制造工具：还要生产7nm芯片(2023-10-10)
俄罗斯开发出可替代光刻机的芯片制造工具：还要生产7nm芯片;
10月10日消息，这对于ASML来说是不是有点魔幻，俄罗斯号称开发出可以替代的芯片制造工具。
据俄罗斯国际新闻通讯社报道，圣彼......
中科院中紫外光刻设备研制成功，国产光刻机有望突破(2017-04-14)
中科院中紫外光刻设备研制成功，国产光刻机有望突破;
来源：内容来自 中科院网站 ，谢谢。
近日，一种新型的中紫外直接光刻机由中国科学院光电技术......
推广应用这些重大技术装备！工信部发布(2024-09-19)
；氟化氩光刻机光源193纳米，分辨率≤65nm，套刻≤8nm。
目前来说，光刻机共经历了六代的发展，从最早的436nm波长，再到第二代光刻机开始使用波长365nm i-line，第三......
一台3亿欧元！ASML CEO：High-NA EUV将于2024年出货(2022-11-28)
克还介绍了ASML新一代High-NA
EUV光刻机的进展，预计将于2024年开始发货，每台设备的价格在3亿至3.5亿欧元之间。
众所周知，目前ASML是全球最大的光刻机供应商，同时......
ASML 新款 NXE:3800E EUV 光刻机引入部分 High-NA 机型(2024-03-27)
以往机型的 160 片提升近 22%。
下一代光刻技术 （高数值孔径） EUV 采用了更宽的光锥，这意味着其在 EUV 反射镜上的撞击角度更宽，会导致影响晶圆吞吐量的光损失。因此 L 提高了光学系统的放大倍率，从而......
ASML 一季度财报解读，EUV未出货订单累积到21台(2017-04-20)
能负担起最新制程研发的基本只剩四家：GlobalFoundries，Intel，三星和台积电。这几家公司采购新一代光刻机的计划对整个行业的推动都极为重要，接下来几代制程工艺极紫外光刻机是核心，Intel，三星，台积电都曾对ASML投资......
台积电CEO秘访ASML，High-NA EUV光刻机竞赛提前打响？(2024-05-30)
或非是通向先进制程的必由之路。未来几年可能会出现所谓下一代光刻技术，如NIL（纳米压印光刻），EUV光刻机在制造晶体管时会遇到它的物理极限。NIL光刻机最大的好处是光源相对便宜，即不......
挑战ASML ？佳能推出纳米压印技术(2023-10-13)
实现最小线宽为10nm的电路图案，相当于2nm节点。
半导体制造领域，光刻机是昂贵且关键的设备，而纳米压印设备被多家日本半导体设备厂商视作替代光刻机的“下一代设备”，担负......
佳能纳米压印光刻设备或应用于3D NAND工艺制造(2024-02-11)
本的尖端芯片。
根据报道，佳能首先会将应用目标放在3D NAND工艺制造，而不是更加复杂的微处理器。
佳能表示，其纳米压印光刻机的战略不是取代晶圆厂的DUV和EUV工具，而是......
英特尔拿到首台2nm光刻机 重回领先地位？(2023-12-28)
一提的是，台积电于今年9月宣布收购将以不超4.328亿美元的价格收购英特尔旗下子公司IMS，后者专注于研发和生产电子束光刻机，以确保关键设备的技术开发，并满足2nm商用化的供应需求。
三星
三星......
欧洲IMEC 也参与，日本 Rapidus 宣布推进2nm半导体生产(2023-01-11)
的最新款EUV曝光机，以用于研发工作。Rapidus应该可以利用与imec的合作关系，获得ASML的最新一代光刻机的相关技术，并填补上述差距。
但是，另一个问题是Rapidus能否获得光刻机......
ASML再次改口！国家迅速回应，外媒：荷兰将光刻机事情闹大了(2023-10-08)
公司的态度再次发生变化，引发了国家的迅速回应。荷兰的决定被外媒认为将光刻机事情闹大了。本文将分别从公司态度的变化、荷兰及日本的对华出口管控、ASML公司的技术依赖和市场地位、我国光刻机技术的突破、ASML公司对华出口限制的影响以及中企自主掌握核心技术......
佳能产日本首台半导体光刻机PPC-1发售50周年(2020-01-16)
PPC-1
广告
50周年纪念标志
佳能光刻机的历史始于对相机镜头技术的高度应用。灵活运用20世纪60年代中期在相机镜头开发中积累的技术，佳能研发出了用于光掩膜制造的高分辨率镜头。此后......
砍单传闻不实，ASML光刻机依然供不应求(2023-04-20)
其积压订单的 20%。ASML 预计今年来自中国的收入将大幅回升，但部分销售额最终可能会受到荷兰出口管制措施的影响。知情人士此前告诉彭博社，这些限制预计将阻止三台浸没式深紫外光刻机的发货。ASML 已经被禁止向中国公司出售其最尖端的技术......
ASML宣布与比利时微电子研究中心合作 加速推进新一代光刻机(2023-06-30)
ASML宣布与比利时微电子研究中心合作 加速推进新一代光刻机;比利时微电子研究中心 (IMEC) 、阿斯麦 (ASML) 共同宣布，双方将在开发先进高数值孔径（High-NA）极紫外（EUV）光刻......
最近申请的一项光刻装置专利到底是什么呢？公开图纸，我们也造不出来？(2022-11-28)
的研发投入。
近日，中企更是公开了一项有关于EUV光刻技术的专利，也曝光了ASML加速对中企出货DUV光刻机的原因。
根据国家知识产权官网显示：传芯半导体公开了一项关键的技术......
日本成功引入首台ASML EUV光刻机(2024-12-20 13:44:31)
是全球唯一能提供EUV光刻机的公司。EUV技术的引入，使得芯片制造商能够突破传统深紫外(DUV)光刻机的物理极限，从而继续推动摩尔定律的发展。尤其在5nm及以下工艺节点的生产中，EUV光刻机的......
阿斯麦已在韩国开设EUV光刻机培训中心 全球培训能力将提升30%(2023-05-19)
人员。
外媒最新的报道就显示，阿斯麦在韩国的极紫外光刻机培训中心，已经开通。
新开通的极紫外光刻机培训中心，在首尔以南约42公里的龙仁市，占地1445平方米，设有洁净室、办公空间等，旨在培训维护和修理高精度和复杂极紫外光刻机的技术......
ASML：EUV光刻机已近极限 追赶技术还是另辟蹊径？(2024-06-07)
是全球唯一的EUV光刻机供货商，High NA EUV光刻机的发展已经接近当前技术的极限，下一代的0.75 NA的Hyper NA EUV光刻机理论上是可以实现，但是会面临更多更复杂的技术问题，同时......
逼近极限！ASML发布第三代EUV光刻机(2024-03-20)
统将为打印先进芯片提供领先的生产力。我们正在将光刻技术推向新的极限。”
Twinscan NXE：3800E光刻机的推出，无疑将对全球芯片市场产生深远的影响。首先，这款新型光刻机的出现，将加速芯片制造业的技术......
EUV光刻新突破，是不是真的？(2023-09-18)
国脖子的设备有很多，但光刻机是国产化率一直成长最慢的一个。
对芯片来说，5nm以后就必须使用EUV光刻机。这是因为，当金属间距缩小到30nm以下（对应工艺节点超越5nm），光刻机的分辨率就不够用了。
从公式“光刻机......
ASML 着眼未来：考虑推出通用 EUV 光刻平台，覆盖不同数值孔径(2024-05-23)
双重图案化实现同等精度带来的额外步骤与风险。
多种 EUV 光刻机共用一个基础平台，在降低开发成本的同时，也便于将 Hyper-NA 机台的技术改进向后移植到数值孔径更低的光刻机上。
根据此前报道，ASML 最新的 0.33NA EUV 光刻机......
佳能押注“纳米压印”技术，价格比 ASML EUV 光刻机“少一位数”(2023-11-06)
，并计划将新型芯片制造设备的价格定在阿斯麦最好光刻机的很小一部分，从而在光刻机领域取得进展。
纳米压印技术是极紫外光刻（EUV）技术的低成本替代品。佳能首席执行官御手洗富士夫 (Fujio......
三星拟新设至少10台EUV光刻机：展露要当世界第一的野心(2022-12-27)
率得到了保证，但性能和功耗提升欠缺。并且，无论是三星的GAA工艺还是台积电的传统工艺都面临成本高的问题。
High-NA EUV光刻机交付后，更为先进的技术能够在单元面积中内置更多晶体管，从而......
美国与荷兰日本达成“最强”对华限制协议？将倒逼中国自研半导体设备(2023-02-02)
。
荷兰阿斯麦（ASML）、日本尼康（Nikon）和日本东京电子（TEL）等巨头的对华出口，都将执行新的标准。在继续禁绝向中国企业出售EUV光刻机的基础上，新的联盟扩大了管制范围 —— 中国发展先进半导体所需的技术......
晶瑞股份顺利购得ASML ArF浸入式光刻机(2021-01-21)
公司完成中试的KrF光刻胶已进入客户测试阶段，达到0.15μm的分辨率。本次光刻机的顺利入驻可以保障公司集成电路制造用高端光刻胶研发项目关键设备的技术先进性，对加快产品研发项目进度有积极影响。
晶瑞股份在接受经济观察网咨询有关光刻......
三井化学将量产光刻薄膜新品，支持ASML下一代光刻机(2024-06-19)
三井化学将量产光刻薄膜新品，支持ASML下一代光刻机;日前，日本三井化学宣布将在其岩国大竹工厂设立碳纳米管 (CNT) 薄膜生产线，开始量产半导体最尖端的零部件产品（保护......
首台ASML光刻机搬入！中国再添一座12英寸车规级晶圆厂(2022-11-28)
。
要知道，目前全球只有ASML能够生产先进的EUV光刻机，但ASML的光刻机汇集了世界高端技术的结晶，其中自然用到了很多含有美国设备的技术，所以ASML自由出货被美方拿捏得死死的。
不过......
佳能发售面向后道工艺的3D技术i线半导体光刻机新产品(2022-12-07)
。为了实现高度集成化，将硅正反面进行通孔贯穿的技术）而实现层叠的技术。
※5. 从半导体光刻机前道工艺中制造的晶圆中取出多个半导体芯片原件并排列，用树脂固定成晶圆形状的基板。
〈新产......
佳能发售面向后道工艺的3D技术i线半导体光刻机新产品(2022-12-07)
向半导体芯片制造的前道工艺和后道工艺中，在不断扩充搭载先进封装技术的半导体光刻机产品阵营，持续为半导体设备的技术创新做出贡献。
※1. 使用了i线（水银灯波长 365nm）光源的半导体光刻设备。1nm（纳米）是10亿分......
半导体大厂持续加码EUV光刻机(2024-04-29)
独家供应商，每台EUV光刻机中包含了三万多个由蔡司提供的组件。蔡司在EUV技术方面拥有超过2000项核心专利，其掌握的技术可以在高性能先进芯片生产中发挥重要作用。
未来，三星......
EUV到来之前的顶梁柱，你真的了解浸入式光刻吗？(2017-02-06)
绝对没有别的因素敢称第一。目前，193nm 液浸式光刻系统是最为成熟的技术，它在精确度及成本上达到了一个近乎完美的平衡，短时间内很难被取代。不过，一种名为极紫外光刻（EUV 光刻）的技术半路杀出，成为近年来英特尔、台积......
佳能光刻机现在是什么水平？探访进博会上的光学大厂(2022-11-16)
半导体整个产业而言都是营收增长点，尤其一些功率器件。
相关半导体光刻机的部分，这次佳能于进博会期间介绍的技术和产品，有两点是我们认为格外值得一提的。
首先是近期佳能在推一个叫Lithography Plus的半导体光刻机......
ASML合作IMEC：共同加速推进新一代光刻机(2023-06-30)
ASML合作IMEC：共同加速推进新一代光刻机;
比利时微电子研究中心 (IMEC) 、阿斯麦 ()
共同宣布，双方将在开发先进高数值孔径(High-NA)极紫外(EUV)光刻......
EUV光刻究竟难在哪里？看完本文你就明白了(2016-11-18)
/14nm推到10nm甚至7nm，但是到了7nm之后，这些技术就不能保证工艺可以向前推进了。从技术上来看，我们可以使用一种叫做八倍pattern的技术去延伸传统光刻，但这种方式具有不确定性，同时......
可绕过EUV量产5nm！佳能CEO：纳米压印设备无法卖到中国(2023-11-07)
可绕过EUV量产5nm！佳能CEO：纳米压印设备无法卖到中国;
11月6日消息，据彭博社报道，佳能公司正计划将其新的基于“纳米压印”技术的芯片制造设备的价格定为ASML的EUV光刻机的1/10......
AI芯片需求快速成长，推动台积电积极部署High-NA EUV制程(2024-11-20 11:06:14)
-NA EUV光刻机的价格约为3.84亿美元。尽管如此，台积电在EUV光刻机的技术领先地位，预计仍将吸引更多寻求先进芯片制造能力的高阶客户前来下单。这可能会进一步拉大台积电与其竞争对手之间的差距，尤其......
ASML堵了EUV光刻机的路，但国产光刻机有3大新方向(2023-02-24)
，完全有替代EUV光刻机的可能性，目前国内也在研究这个技术。
不过研究最好的还是日本的佳能，佳能在NIL技术上专利全球最多，且已经有了量产机器，目前在改进精度，希望国产加油，也能够赶紧推出NIL光刻机......
晶瑞电材：苏州瑞红KrF光刻机搬入实验室(2022-07-06)
晶瑞电材：苏州瑞红KrF光刻机搬入实验室;7月5日，晶瑞电材官微宣布，苏州瑞红KrF光刻机及配套设备搬入实验室。
晶瑞电材表示，本次光刻机的顺利搬入将为公司KrF光刻......
下一代光刻机，万事俱备了吗？(2023-03-06)
下一代光刻机，万事俱备了吗？;极紫外光刻 (EUVL) 于 2019 年进入高级逻辑代工厂的大批量生产；动态随机存取存储器 (DRAM) 公司也对采用 EUVL 越来越感兴趣，这要归功于 ASML......
华特气体四款光刻气产品通过日本GIGAPHOTON株式会社认证(2021-10-09)
(EUV)的开发商和制造商，也是次世代光刻光源的极端远紫外光源（EUV）的开发者并实现量产。近年来，日本GIGAPHOTON株式......
国产光刻机获重大突破，ASML如何应对？(2023-10-19)
每年投入巨资，毕业生数量庞大，为什么不能完成成熟设备？
当然，我们制造EUV光刻机并非要取代ASML，而是为了满足自身需求，推动全球光刻机技术发展，继续前进，克服老美的封锁，困难将更大，代价更高。然而，国内......
相关企业
;上海百事佳激光技术有限公司;;上海百事佳激光技术有限公司主营激光加工设备的设计和制造。主体产品有激光刻字机、激光焊接机、激光划片机和激光打孔机。公司的技术人员主要来自研究所和大学。公司具有一支强有力的技术
;济南众星数控机械有限公司;;济南众星数控设备有限公司是专业从事研发木工雕刻机、广告雕刻机、石材雕刻机、数控加工中心的生产厂家。公司拥有雄厚的技术实力，专业的研发团队，不断推出CNC雕刻机的
;苏州汶颢芯片科技有限公司;;苏州汶颢芯片科技有限公司主营微流控芯片、光刻胶、光刻机、注射泵、烘 箱、干燥箱、培养箱、烧结箱、消毒箱、试验箱、水槽、油槽、马弗炉、振（震）筛机、破碎机等。公司
;怡合瑞丰科技发展有限公司;;注册于香港，代理美国ABM公司的光刻机及其他半导体设备。可以为客户提供先进的凸点制造等封装工艺与设备
刻字机等。激光雕刻机主要有激光雕刻机、激光切割机、激光裁床、激光打标机、激光刀模切割机、激光雕版机、激光刻章机等。每一种机器我们都有不同尺寸的机型可供选择。 公司产品涵盖了木工、石材、广告、工艺礼品、建筑
;济南阿科思达科技有限公司;;雕刻机品牌网主要是木工雕刻机，广告雕刻机，激光雕刻机，石材雕刻机，电脑刻字机的咨询门户，为雕刻机企业提供好的交流平台。
;苏州欣宇激光设备有限公司销售三部;;苏州欣力宇电子科技有限公司是专业从事数控设备研发、销售及加工应用服务的高新技术公司，专业供应国际技术领先的激光切割机、激光打标机、激光焊接机、激光裁床，模具治具雕刻机
;济南星辉(雕刻机)数控机械科技有限公司;;星辉数控机械科技有限公司，专业生产雕刻机，木工雕刻机，激光雕刻机，广告雕刻机的厂商，公司注册资金1000万。中外合资企业。
打标机,流水号,日期,编号,,电脑雕刻机, 金属标牌参数刻字机,标牌打标机,标牌压印机,铭牌雕刻机,铝合金标牌雕刻机, 电动雕刻笔|电动刻字笔|金属刻字|刻字机|金属雕刻机|激光刻字|激光打
切割机整机及其关键部件研发、生产和销售。多年来曾先后承担完成了多项和多个激光雕刻机,机械雕刻机,印章机的研究开发任务，在长期的科研与实践 中积累了丰富的技术成果。 我公司致力于数控雕刻机设备的产业化应用开发，主要