砍单传闻不实,ASML光刻机依然供不应求 发布时间: 来源: 电子工程世界 光刻机巨头公司ASML周三公布了2023年第一季度的财务数据。财报数据显示,截至 3 月 31 日ASML第一季度净销售额67.5亿欧元(约合人民币505.18亿元),同比增长90.9%;净利润19.6亿欧元(约合人民币150.8亿元)比一年前的 6.95 亿欧元高出近 3 倍。其收入增长了 91%,达到 67.4 亿欧元。根据 Refinitiv 的数据,分析师此前预计净利润为 16.2 亿欧元,营收为 63.1 亿欧元。ASML CEO Peter Wennink 表示,随着行业努力使库存达到更健康的水平,我们继续看到来自不同终端市场细分市场的混合需求信号。一些主要客户正在进一步调整需求时间,同时我们也看到其他客户吸收这种需求变化,特别是在更成熟节点的 DUV 中,总体需求仍然超过了公司今年的产能。“我们目前积压了超过 389 亿欧元。我们的重点仍然是最大化系统输出。”Peter Wennink说。近日有传闻称,受台积电缩减资本支出影响,ASML也遭遇了大幅砍单,其2024年的部分设备订单被台积电砍了约40%。针对砍单传言,ASML并没有直接回应,但该公司财务主管 Roger Daasen 承认,一些大公司正在“推迟对某些工具的需求时间”,但他同时指出,其他公司很乐意接管这些订单。“对于内存客户,我们确实看到他们限制了他们的资本支出,我们在某些逻辑领域也看到了一些这种行为,”他说。如ASML在财务报道中所说,他们在一季度推出了第一个 NXT:1980Fi 沉浸式系统。这是一款中等关键、高生产率的浸入式扫描仪,具有关键性能升级,能帮助客户提高他们的能力。而为了支持成熟的细分市场,ASML 正在扩展其 i-line最近出货的 XT:400M 组合。这个系统包含针对客户的关键改进,最显著的提升在于提高吞吐量,降低拥有成本。ASML进一步表示,在一季度,公司还交付了第一台 YieldStar 500。作为下一代光学计量工具,该产品将吞吐量提高 1.5 倍,同时支持下一个叠加和聚焦计量要求代逻辑和存储设备,与之前的 YieldStar 相比,匹配性能则有了20%的提高。具体到产品销售详细数据,如下图所示,ASML出售了17个EUV光刻机系统,出货量最高的则是krF系统,出货数量达到43台。从地区上看,中国只是出货了当中的8%,远远落后于其中的美国、中国台湾和韩国。ASML在报告中还披露,公司的产品主要面向逻辑应用。虽然从数据上看,ASML的表现还是很坚挺。但从公司的图表可以看到,其“净预订”(Net bookings)环比接近腰斩。按照ASML的解析,所谓Net bookings包括了所有系统销售订单和通货膨胀相关调整,并已接受书面授权。尽管 ASML 能够依靠其大量积压订单,但由于利率上升、通货膨胀率飙升和持续的银行业危机继续削弱消费者信心,芯片市场部分客户的下滑尚未触底。ASML 最大的客户台积电上周连续第二个季度的销售额低于预期,表明全球电子产品需求持续疲软。ASML 表示,第一季度订单量较上年同期下降 46% 至 37.5 亿欧元,引发了对其长期前景的担忧。ASML 的股价在财报公布后下跌了 4.9%,截至阿姆斯特丹上午 10 点 10 分,股价下跌 2.2% 至每股 575.80 欧元。该股今年上涨了 14%。虽然 ASML 的业绩好于预期,但它“显示所接订单的数量相当多,表明部分客户资本支出削减正在产生影响,”摩根士丹利分析师李辛普森在一份报告中表示。“这表明 2024-2025 年的增长存在一些阻力,我们认为投资者已经对此感到紧张。”尽管如此,由于对其机器的持续强劲需求,该公司预计第二季度的销售额将超过分析师的预期。这家荷兰公司周三在一份声明中表示,本季度收入将增至 65 亿至 70 亿欧元。相比之下,分析师平均估计为 64.2 亿欧元。这家欧洲最有价值的科技公司还表示,今年其专用机械的总需求继续超过产能。由于先进的极紫外和深紫外光刻机的收入高于预期,第一季度净销售额为 67 亿欧元,毛利率为 50.6%,也高于预期。芯片制造商正在快速安装和采用其硬件,即使他们正在适应市场放缓导致的订单减少和库存增加。世界各国政府仍在竞相在国内建设更多的芯片工厂,以避免未来供应中断。美国已收到200 多份来自公司的申请,要求一项 390 亿美元的芯片生产计划,而日本、印度和欧盟也都提供财政激励措施以吸引主要芯片制造商的投资。如上文的图示,第一季度中国约占 ASML 销售额的 8%,约占其积压订单的 20%。ASML 预计今年来自中国的收入将大幅回升,但部分销售额最终可能会受到荷兰出口管制措施的影响。知情人士此前告诉彭博社,这些限制预计将阻止三台浸没式深紫外光刻机的发货。ASML 已经被禁止向中国公司出售其最尖端的技术,即所谓的极紫外光刻技术。“我们仍在等待荷兰当局的最终详细指导,”该公司首席财务官罗杰达森在另一份声明中表示,他指的是扩大贸易限制的计划。“这对我们的作用是,我们预计我们将需要高级浸入式工具的出口许可证,”他表示。“我们对高级沉浸工具的解释是针对 NXT:2000 和后续版本。”他接着说。 相关关键词 光刻机最难的技术瓶颈 光刻机很难制造吗 低端芯片需要光刻机吗 文章来源于: 电子工程世界 原文链接 本站所有转载文章系出于传递更多信息之目的,且明确注明来源,不希望被转载的媒体或个人可与我们联系,我们将立即进行删除处理。 相关文章 专家:中芯国际能追上台积电 靠这三个条件 工科相关毕业生。 更关键的一点就是,中芯国际无需尝试开拓西方市场就可以实现规模经济。 最后,对于面临的技术瓶颈,王国辉承认,中国目前确实无法获得ASML的EUV光刻机,而这... 2025-01-20 俄罗斯,搞定16nm芯片! 所有先进晶圆制造商都停止了与俄罗斯实体的合作,就连ARM也无法将他们的技术授权给俄罗斯的设计师。 为了解决技术被“卡脖子”的问题,俄罗斯当时放下狠话,要自主研发光刻机,并计划在六年内突破芯片核心技术。那么,如今已经过去快三年了,其芯片技术... 2024-12-01 EUV光刻机缺货问题要持续3年,瓶颈居然是... EUV光刻机缺货问题要持续3年,瓶颈居然是...;细致到可以深究成熟工艺的光掩模(photomask)短缺问题——据说也是近期才发现的,尤其是28nm及以上工艺的产能开始受到掩模短缺问题的影响。不过... 2022-05-05 ASML:EUV光刻机已近极限 追赶技术还是另辟蹊径? 是全球唯一的EUV光刻机供货商,High NA EUV光刻机的发展已经接近当前技术的极限,下一代的0.75 NA的Hyper NA EUV光刻机理论上是可以实现,但是会面临更多更复杂的技术问题,同时... 2024-06-07 EUV光刻究竟难在哪里?看完本文你就明白了 /14nm推到10nm甚至7nm,但是到了7nm之后,这些技术就不能保证工艺可以向前推进了。从技术上来看,我们可以使用一种叫做八倍pattern的技术去延伸传统光刻,但这种方式具有不确定性,同时... 2016-11-18 EUV到来之前的顶梁柱,你真的了解浸入式光刻吗? 实现跨越性进步的有效方法是降低使用光源的波长。几十年来,光刻机厂商们就是这么做的:他们将晶圆曝光工具从人眼可见的蓝光端开始逐渐减小波长,直到光谱上的紫外线端。 但是,EUV 技术是非常困难的。在使... 2017-02-06 俄罗斯首台光刻机,真的制造成功了 向塔斯社报告了这一点。 他表示,“我们组装并制造了第一台国产光刻机。作为泽廖诺格勒技术生产线的一部分,目前正在对其进行测试。”俄罗斯接下来的目标是在2026年制造可以支持130nm工艺的光刻机。 去年10... 2024-05-26 思坦科技助力深紫外Micro-LED显示无掩膜光刻技术荣登Nature Photonics 是至关重要的一个环节。光刻技术是指在光照作用下,借助光刻胶将掩膜版上的图形转移到晶圆上的技术。由于光刻的工艺水平直接决定芯片的制程水平和性能水平,光刻成为芯片制造中最复杂、最关键的工艺步骤。且传统光刻机的机械结构复杂、系统... 2024-10-19 思坦科技助力深紫外Micro-LED显示无掩膜光刻技术荣登Nature Photonics 。 在传统光刻过程中,掩膜版的制造和更换成本高昂,光刻效率也受到多重限制。而思坦科技研发的高功率 AlGaN 深紫外 Micro-LED 技术,利用无掩膜光刻的方式,不仅解决了半导体制造中的关键技术瓶颈... 2024-10-21 国产离子注入机未来可期,半导体设备潜力股思锐智能落子布局! 注入机的整个工艺路线极为复杂,涉及十几个学科的知识范畴,并且系统间互相耦合,因此是业内公认的比较难的领域。”思锐智能董事长聂翔在接受媒体采访时表示。 “在整个国产化的情境下,我们有责任响应国家的号召,去突破国内技术瓶颈... 2023-08-16