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专家：中芯国际能追上台积电 靠这三个条件(2025-01-20)
工科相关毕业生。
更关键的一点就是，中芯国际无需尝试开拓西方市场就可以实现规模经济。
最后，对于面临的技术瓶颈，王国辉承认，中国目前确实无法获得ASML的EUV光刻机，而这......
俄罗斯，搞定16nm芯片！(2024-12-01)
所有先进晶圆制造商都停止了与俄罗斯实体的合作，就连ARM也无法将他们的技术授权给俄罗斯的设计师。
为了解决技术被“卡脖子”的问题，俄罗斯当时放下狠话，要自主研发光刻机，并计划在六年内突破芯片核心技术。那么，如今已经过去快三年了，其芯片技术......
EUV光刻机缺货问题要持续3年，瓶颈居然是...(2022-05-05)
EUV光刻机缺货问题要持续3年，瓶颈居然是...;细致到可以深究成熟工艺的光掩模（photomask）短缺问题——据说也是近期才发现的，尤其是28nm及以上工艺的产能开始受到掩模短缺问题的影响。不过......
ASML：EUV光刻机已近极限 追赶技术还是另辟蹊径？(2024-06-07)
是全球唯一的EUV光刻机供货商，High NA EUV光刻机的发展已经接近当前技术的极限，下一代的0.75 NA的Hyper NA EUV光刻机理论上是可以实现，但是会面临更多更复杂的技术问题，同时......
EUV光刻究竟难在哪里？看完本文你就明白了(2016-11-18)
/14nm推到10nm甚至7nm，但是到了7nm之后，这些技术就不能保证工艺可以向前推进了。从技术上来看，我们可以使用一种叫做八倍pattern的技术去延伸传统光刻，但这种方式具有不确定性，同时......
EUV到来之前的顶梁柱，你真的了解浸入式光刻吗？(2017-02-06)
实现跨越性进步的有效方法是降低使用光源的波长。几十年来，光刻机厂商们就是这么做的：他们将晶圆曝光工具从人眼可见的蓝光端开始逐渐减小波长，直到光谱上的紫外线端。
但是，EUV 技术是非常困难的。在使......
俄罗斯首台光刻机，真的制造成功了(2024-05-26)
向塔斯社报告了这一点。
他表示，“我们组装并制造了第一台国产光刻机。作为泽廖诺格勒技术生产线的一部分，目前正在对其进行测试。”俄罗斯接下来的目标是在2026年制造可以支持130nm工艺的光刻机。
去年10......
思坦科技助力深紫外Micro-LED显示无掩膜光刻技术荣登Nature Photonics(2024-10-19)
是至关重要的一个环节。光刻技术是指在光照作用下，借助光刻胶将掩膜版上的图形转移到晶圆上的技术。由于光刻的工艺水平直接决定芯片的制程水平和性能水平，光刻成为芯片制造中最复杂、最关键的工艺步骤。且传统光刻机的机械结构复杂、系统......
思坦科技助力深紫外Micro-LED显示无掩膜光刻技术荣登Nature Photonics(2024-10-21)
。
在传统光刻过程中，掩膜版的制造和更换成本高昂，光刻效率也受到多重限制。而思坦科技研发的高功率 AlGaN 深紫外 Micro-LED 技术，利用无掩膜光刻的方式，不仅解决了半导体制造中的关键技术瓶颈......
国产离子注入机未来可期，半导体设备潜力股思锐智能落子布局！(2023-08-16)
注入机的整个工艺路线极为复杂，涉及十几个学科的知识范畴，并且系统间互相耦合，因此是业内公认的比较难的领域。”思锐智能董事长聂翔在接受媒体采访时表示。
“在整个国产化的情境下，我们有责任响应国家的号召，去突破国内技术瓶颈......
光刻机将成为历史！麻省理工华裔研究出 2D 晶体管，轻松突破 1nm 工艺！(2023-05-29)
直接集成在上面。”
随着 ChatGPT 的兴起，带动了人工智能产业的蓬勃发展，AI 的背后就需要强大的硬件算力支持，也就是芯片。
该技术不需要光刻机就可以使芯片轻松突破 1nm 工艺，也能......
半导体“粮草”先行，国产光刻胶走到哪一步了？(2023-04-11)
胶的品质性能仅能满足中低端客户的要求，要开发中高端客户需要的产品尚存在技术瓶颈。目前公司半导体光刻胶主要是指g/i线正性光刻胶、负性光刻胶及配套的化学品。虽然这些光刻胶在国内属于领先水平，但公司对于中高端光刻胶开发尚存瓶颈......
最近申请的一项光刻装置专利到底是什么呢？公开图纸，我们也造不出来？(2022-11-28)
的研发投入。
近日，中企更是公开了一项有关于EUV光刻技术的专利，也曝光了ASML加速对中企出货DUV光刻机的原因。
根据国家知识产权官网显示：传芯半导体公开了一项关键的技术......
ASML第2代EUV光刻机开发传瓶颈，神队友救援力拼原时程问世(2021-06-10)
ASML第2代EUV光刻机开发传瓶颈，神队友救援力拼原时程问世;极紫外光刻机（EUV）目前是先进半导体制程中，不论是DRAM或晶圆代工生产过程中，进一步提升效能的关键之一。而目前荷兰商ASML则是......
国产光刻机最大的希望！上海微电子上市最新进展(2023-11-15)
国产光刻机最大的希望！上海微电子上市最新进展;
据中信建投披露，上海微电子装备(集团)股份有限公司计划在国内首次公开募股(IPO)并上市，中信建投是其辅导机构。
根据官方信息，上海......
价值超12亿美元！AMSL接下中芯国际大单(2021-03-04)
次与中芯国际部分成熟制程工艺设备供应商也在同次获批。
据了解，中芯国际曾以1.5亿美元的价格向荷兰阿斯麦订购了一台最新型的EUV光刻机。一般来说，根据日内瓦协议，本应在2019年初交付的EUV光刻机最终由于美国方面阻扰，未成......
华为5g芯片何时到来 有何优势(2023-03-14)
货方面进一步被约束，EUV光刻机不能出货到外企中国分厂，DUV光刻机出货也更加严格了。
首先，华为是5G技术最先进的厂商，不仅最先推出5G双模芯片，麒麟9000芯片更是当时综合体验最好的5G Soc......
台积电CEO秘访ASML，High-NA EUV光刻机竞赛提前打响？(2024-05-30)
或非是通向先进制程的必由之路。未来几年可能会出现所谓下一代光刻技术，如NIL（纳米压印光刻），EUV光刻机在制造晶体管时会遇到它的物理极限。NIL光刻机最大的好处是光源相对便宜，即不......
售价3.8亿美元！ASML正式宣布，外媒：光刻机市场“变天”了！(2024-06-12)
让ASML彻底陷入了进退两难的境地。
我国已经成为了ASML的第二大市场，荷兰并不打算破坏双方的友好贸易合作，前一段时间荷兰高层还亲自赴华，并表态：“限制光刻机出口并非本意，双方......
国产光刻机获重大突破，ASML如何应对？(2023-10-19)
国产光刻机获重大突破，ASML如何应对？; 中国科学院院士、中国科学院党组书记白春礼于4月13日访问长春光机所，调研EUV光源等技术，高度肯定光电关键核心技术攻关成果。国产光刻机......
2021年出货42台EUV光刻机，ASML应对缺芯将有大招？(2022-01-20)
大幅扩充人员规模
光刻机是芯片制造流程中，光刻工艺的核心设备，具有较高技术壁垒。ASML是全球少数几家提供光刻机的企业之一，尤其是高性能的EUV光刻机——主要用于生产7纳米及更先进制程的芯片，则只有ASML一家......
高盛：全球供应链危机最糟糕的时期已经过去(2021-11-08)
高盛：全球供应链危机最糟糕的时期已经过去;国际电子商情8日讯，高盛表态称，全球供应链危机最糟糕的时期已经过去，对解决供应链瓶颈持乐观态度。该机构根据“全球运费已从9月份的峰值普遍下降”“一些......
中科院中紫外光刻设备研制成功，国产光刻机有望突破(2017-04-14)
中科院中紫外光刻设备研制成功，国产光刻机有望突破;
来源：内容来自 中科院网站 ，谢谢。
近日，一种新型的中紫外直接光刻机由中国科学院光电技术......
EUV光刻机争夺战打响，国产光刻技术难题有何解？(2021-01-29)
EUV没有直接联系的工序数也会增加。
国内设备厂芯源微日前表示，公司前道涂胶显影机与国际光刻机联机的技术问题已经攻克并通过验证，可以与包括ASML、佳能等国际品牌，以及上海微电子（SMEE）的光刻机......
SEMI总裁倡导标准化半导体后端工艺，能有效提高芯片产能(2024-07-23)
进行高级封装，而三星电子则采用 I-Cube 技术。
Hamajima 希望推动后端工艺标准化
在前端工艺面临技术瓶颈的背景下，各家芯片制造商积极投资开发先进的封装技术。
Hamajima 认为，半导......
台积电CoWoS产能无法弥补GPU需求缺口(2024-05-22)
司在1α制程采用EUV光刻机生产，今年开始转向1β制程，并有可能将EUV光刻机应用率提升3~4倍。除了技术难度提升之外，随着HBM历次迭代，其容量也同步提升，HBM4中堆叠的层数将达到16层......
光刻机已经落伍？硅光子将成中美新战场！(2024-02-01)
光刻机已经落伍？硅光子将成中美新战场！;
半导体是人类科技发展的重要基础，也是中美科技博弈的重要领域。欧美凭借先进的一直掌握着半导体的话事权，但随着摩尔定律逼近极限，光刻机的工艺瓶颈......
佳能产日本首台半导体光刻机PPC-1发售50周年(2020-01-16)
PPC-1
广告
50周年纪念标志
佳能光刻机的历史始于对相机镜头技术的高度应用。灵活运用20世纪60年代中期在相机镜头开发中积累的技术，佳能研发出了用于光掩膜制造的高分辨率镜头。此后......
ASML再次改口！国家迅速回应，外媒：荷兰将光刻机事情闹大了(2023-10-08)
公司的态度再次发生变化，引发了国家的迅速回应。荷兰的决定被外媒认为将光刻机事情闹大了。本文将分别从公司态度的变化、荷兰及日本的对华出口管控、ASML公司的技术依赖和市场地位、我国光刻机技术的突破、ASML公司对华出口限制的影响以及中企自主掌握核心技术......
突发！ASML创始人逝世(2024-06-12)
突发！ASML创始人逝世;
当地时间6月11日，光刻机巨头ASML在领英平台发文悼念公司创始人之一Wim Troost（维姆·特罗斯）离世。
ASML公司表示，“Wim Troost去世......
直言光刻胶国产替代仍空白，中芯国际相关负责人遭怼“算老几”...(2021-08-03)
芯片等工艺水平并不高，这各等级的芯片中国已经实现了从光刻机到芯片的完全自主化生产。真正困难的在于7nm的芯片，也就是华为遭到断供的手机芯片。
这种工艺的手机芯片，不仅需要荷兰ASML先进的EUV光刻机......
喊话7nm必拿下后！俄罗斯大型晶圆厂突然宣告破产(2024-12-16)
移到国家国防公司Rostec的管理层，以保持最低限度的芯片生产能力并尝试制造进口替代产品。另一方面，俄罗斯国内的芯片市场需求有限，难以支撑快速发展。
之前，俄罗斯首台光刻机......
对话东方晶源：打造中国芯片制造的GoldenFlow(2024-04-03)
复杂程度不断增加，良率变得极具挑战，成为阻碍行业发展的一大难点和技术瓶颈。
如果说先进制程代表晶圆厂技术的领先性，那么产品良率就代表着其产品的可靠性和经济性。
有数据统计，对于......
日本成功引入首台ASML EUV光刻机(2024-12-20 13:44:31)
双方的合作协议，ASML将在日本的Rapidus工厂安装一台EUV光刻机，并提供相关的技术支持和培训。尽管ASML一直以来将其最先进的光刻机设备主要供应给台积电和三星等公司，但此......
佳能发售面向后道工艺的3D技术i线半导体光刻机新产品(2022-12-07)
。为了实现高度集成化，将硅正反面进行通孔贯穿的技术）而实现层叠的技术。
※5. 从半导体光刻机前道工艺中制造的晶圆中取出多个半导体芯片原件并排列，用树脂固定成晶圆形状的基板。
〈新产......
半导体大厂持续加码EUV光刻机(2024-04-29)
独家供应商，每台EUV光刻机中包含了三万多个由蔡司提供的组件。蔡司在EUV技术方面拥有超过2000项核心专利，其掌握的技术可以在高性能先进芯片生产中发挥重要作用。
未来，三星......
佳能发售面向后道工艺的3D技术i线半导体光刻机新产品(2022-12-07)
向半导体芯片制造的前道工艺和后道工艺中，在不断扩充搭载先进封装技术的半导体光刻机产品阵营，持续为半导体设备的技术创新做出贡献。
※1. 使用了i线（水银灯波长 365nm）光源的半导体光刻设备。1nm（纳米）是10亿分......
阿斯麦已在韩国开设EUV光刻机培训中心 全球培训能力将提升30%(2023-05-19)
人员。
外媒最新的报道就显示，阿斯麦在韩国的极紫外光刻机培训中心，已经开通。
新开通的极紫外光刻机培训中心，在首尔以南约42公里的龙仁市，占地1445平方米，设有洁净室、办公空间等，旨在培训维护和修理高精度和复杂极紫外光刻机的技术......
美国与荷兰日本达成“最强”对华限制协议？将倒逼中国自研半导体设备(2023-02-02)
。
荷兰阿斯麦（ASML）、日本尼康（Nikon）和日本东京电子（TEL）等巨头的对华出口，都将执行新的标准。在继续禁绝向中国企业出售EUV光刻机的基础上，新的联盟扩大了管制范围 —— 中国发展先进半导体所需的技术......
扩产潮下，芯片制造商未来2年内将面临设备短缺问题？(2022-03-22)
和深圳两个项目稳步推进，预计2022年底投入生产，3个新项目满产后，将使总产能倍增。
扩产潮流之下，光刻机需求问题何解？
光刻机是芯片制造流程中光刻工艺的核心设备，具有较高技术壁垒。ASML是全球少数几家提供光刻机......
ASML首席技术官：明年交付首台High-NA EUV光刻机(2022-09-28)
ASML首席技术官：明年交付首台High-NA EUV光刻机;据外媒Bits & Chips报道，ASML首席技术官Martin van den Brink日前受访时表示，目前......
逼近极限！ASML发布第三代EUV光刻机(2024-03-20)
统将为打印先进芯片提供领先的生产力。我们正在将光刻技术推向新的极限。”
Twinscan NXE：3800E光刻机的推出，无疑将对全球芯片市场产生深远的影响。首先，这款新型光刻机的出现，将加速芯片制造业的技术......
下一代EUV光刻机什么样？ASML来解答(2023-02-21)
下一代EUV光刻机什么样？ASML来解答;
【导读】近日，ASML发布了2022年第四季度及全年财报，并且披露了未来的技术发展路线，其中ASML在下一代EUV光刻机——High NA......
ASML 着眼未来：考虑推出通用 EUV 光刻平台，覆盖不同数值孔径(2024-05-23)
双重图案化实现同等精度带来的额外步骤与风险。
多种 EUV 光刻机共用一个基础平台，在降低开发成本的同时，也便于将 Hyper-NA 机台的技术改进向后移植到数值孔径更低的光刻机上。
根据此前报道，ASML 最新的 0.33NA EUV 光刻机......
苹果 Micro LED 新专利曝光，或将取代OLED(2016-10-19)
现会直接取代 OLED，毕竟目前仍有不少变数存在，现在谈下一代 Apple Watch 采用 Micro LED 或许还太早。
Micro LED 技术尚未成熟，还有许多技术瓶颈有待克服，当然成本也是另一考量，更别......
苹果 Micro LED 新专利曝光，或将取代OLED(2016-10-20)
现会直接取代 OLED，毕竟目前仍有不少变数存在，现在谈下一代 Apple Watch 采用 Micro LED 或许还太早。
Micro LED 技术尚未成熟，还有许多技术瓶颈有待克服，当然成本也是另一考量，更别......
光刻机大厂即将发布新型ArF浸没式扫描仪，整体生产率提高10-15%(2023-12-09)
在不使用EUV光刻机的情况下，实现高精度的芯片制造。这一突破性的技术进步为全球半导体产业带来了新的选择和希望。
封面图片来源：拍信网......
晶瑞股份顺利购得ASML ArF浸入式光刻机(2021-01-21)
公司完成中试的KrF光刻胶已进入客户测试阶段，达到0.15μm的分辨率。本次光刻机的顺利入驻可以保障公司集成电路制造用高端光刻胶研发项目关键设备的技术先进性，对加快产品研发项目进度有积极影响。
晶瑞股份在接受经济观察网咨询有关光刻......
生产最新12nm芯片，三星逆势计划新增10台EUV光刻机(2022-12-27)
生产最新12nm芯片，三星逆势计划新增10台EUV光刻机;
由于内存价格暴跌，、SK海力士两家内存厂商都已经大幅削减了投资，降低了产能，然而作为内存一哥不为所动，不仅不打算减产，甚至......
TCL成立半导体公司；合肥长鑫产能提前达产；上海新阳再购入光刻机(2021-03-14)
、KrF厚膜及I线光刻胶方面已有技术与产品的突破。
不过，公告亦提示称，本次购买的光刻机尚须经过运输、装机、调试及投入相关配套设施。
三星德州厂延宕复工影响几何？
据TrendForce......
相关企业
适合极寒地区的照明。 新产品系列之二 ： 从1%到100%调光,不闪烁，高PF值的调光电源，可内置，外置兼容95%以上的可控硅调光器，克服了普通LED调光电源不兼容调光器，PF低，20%以下频闪厉害的技术瓶颈
适合极寒地区的照明。 新产品系列之二 ： 从1%到100%调光,不闪烁，高PF值的调光电源，可内置，外置兼容95%以上的可控硅调光器，克服了普通LED调光电源不兼容调光器，PF低，20%以下频闪厉害的技术瓶颈
;广源电子设备工程有限公司;;大家好,我公司采用美国MCU温度电流控制芯片和物理热管加PTC控制技术有效解决大功率LED散热技术瓶颈，实现真正意义上的高亮度光衰小超长寿命的特点，有效
;苏州冬神太阳能有限公司;;苏州冬神太阳能有限公司（原天福太阳能）,结合当前太阳能热水器发展的技术瓶颈,邀请多方太阳能专家,综合多项专利开发的冬神牌屋顶超导太阳能.具有:超强集热,玻璃
;苏州冬神太阳能有限公 司;;苏州冬神太阳能有限公司（原天福太阳能）,结合当前太阳能热水器发展的技术瓶颈,邀请多方太阳能专家,综合多项专利开发的冬神牌屋顶超导太阳能.具有:超强集热,玻璃
;苏州汶颢芯片科技有限公司;;苏州汶颢芯片科技有限公司主营微流控芯片、光刻胶、光刻机、注射泵、烘 箱、干燥箱、培养箱、烧结箱、消毒箱、试验箱、水槽、油槽、马弗炉、振（震）筛机、破碎机等。公司
;上海百事佳激光技术有限公司;;上海百事佳激光技术有限公司主营激光加工设备的设计和制造。主体产品有激光刻字机、激光焊接机、激光划片机和激光打孔机。公司的技术人员主要来自研究所和大学。公司具有一支强有力的技术
;怡合瑞丰科技发展有限公司;;注册于香港，代理美国ABM公司的光刻机及其他半导体设备。可以为客户提供先进的凸点制造等封装工艺与设备
刻字机等。激光雕刻机主要有激光雕刻机、激光切割机、激光裁床、激光打标机、激光刀模切割机、激光雕版机、激光刻章机等。每一种机器我们都有不同尺寸的机型可供选择。 公司产品涵盖了木工、石材、广告、工艺礼品、建筑
;苏州欣宇激光设备有限公司销售三部;;苏州欣力宇电子科技有限公司是专业从事数控设备研发、销售及加工应用服务的高新技术公司，专业供应国际技术领先的激光切割机、激光打标机、激光焊接机、激光裁床，模具治具雕刻机