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(2023.3.20)半导体周要闻-莫大康(2023-03-20)
再努力出货，供应客户是长江存储（复购）、合肥长鑫、燕东微及青島芯恩，每台约9000万人民币。上海微SWEE目前每年的出货能力是6-7台。
现阶段90纳米光刻机的另部件国产化率已达70-80%，基本......
(2023.3.20)半导体周要闻－莫大康(2023-03-22)
再努力出货，供应客户是长江存储（复购）、合肥长鑫、燕东微及青島芯恩，每台约9000万人民币。上海微SWEE目前每年的出货能力是6-7台。
现阶段90纳米光刻机的另部件国产化率已达70-80%，基本......
俄罗斯：2024年将制造350nm光刻机(2023-11-06)
俄罗斯：2024年将制造350nm光刻机;根据俄罗斯媒体报道指出，俄罗斯本身正在研发生产芯片的光刻机。其工业和贸易部副部长Vasily Shpak在接受媒体访问时指出，2024年将开始生产350纳米光刻机......
俄罗斯要建 10 台超级计算机，还要自研光刻机?(2023-10-11)
3.5 版本，甚至在许多情况下提供了优于 ChatGPT 4.0 的回答。
据俄罗斯cnews报道，圣彼得堡创建了一个光刻综合体，该综合体包括用于无掩模纳米光刻......
集成电路产业规模达2500亿，上海：14nm先进工艺实现规模量产(2022-09-15)
联动”，先进工艺产能、核心芯片能级、关键设备和基础材料配套支撑能力不断提升，14纳米先进工艺规模实现量产，90纳米光刻机、5纳米刻蚀机、12英寸大硅片、国产CPU、5G芯片等实现突破。
吴金......
国产光刻机工厂落地雄安？中国电子院澄清(2023-09-20)
国产光刻机工厂落地雄安？中国电子院澄清;近期，一则“7纳米光刻机实现国产化”消息在业界刷屏，消息指出清华大学EUV项目实现了光刻机国产化，并表示该项目已在雄安新区落地。
对此，9月18日中国......
俄罗斯正在开发可替代光刻机的芯片制造工具？(2023-10-10)
于蚀刻生产无掩模芯片，这将有助于俄罗斯在微电子领域技术领域获得主动权。
该设备综合体包括用于无掩模纳米光刻和等离子体化学蚀刻的设备，其中一种工具的成本为500万卢布（约36.7万元人民币），另一......
成本几十万，俄罗斯也要自研“光刻机”？(2023-10-10)
成本几十万，俄罗斯也要自研“光刻机”？;据俄罗斯cnews报道，圣彼得堡创建了一个国内光刻综合体，在其中包括了一个在基板上进行无掩模图像采集和硅等离子化学蚀刻的设备。开发人员声称，第一台用于无掩模纳米光刻......
最近申请的一项光刻装置专利到底是什么呢？公开图纸，我们也造不出来？(2022-11-28)
装置基础上进行了优化，进而达到匀光的目的。
EUV光刻机的中文名字就叫极紫外光刻，它以波长为10-14纳米的极紫外光作为光源的光刻技术，可使曝光波长一下子降到14纳米以下的特征尺寸。
但问题是EUV光刻机......
俄罗斯正在开发可替代光刻机的芯片制造工具(2023-10-10)
有助于在微电子领域技术领域获得主动权。本文引用地址：该设备综合体包括用于无掩模纳米光刻和等离子体化学蚀刻的设备，其中一种工具的成本为500万卢布（约36.7万元人民币），另一种工具的成本未知。
开发人员介绍，传统光刻......
可绕过EUV量产5nm！佳能CEO：纳米压印设备无法卖到中国(2023-11-07)
可绕过EUV量产5nm！佳能CEO：纳米压印设备无法卖到中国;
11月6日消息，据彭博社报道，佳能公司正计划将其新的基于“纳米压印”技术的芯片制造设备的价格定为ASML的EUV光刻机的1/10......
莫大康：7nm的关键，EUV禁运怎么办？(2017-08-28)
危言耸听。但是也不必担心，因为只有工艺制程达到7纳米及以下时才会使用EUV光刻机。
对于这样的现状，首先心态要放正确。西方继续压制中国半导体业的进步，这个政策在相当长时间内还会持续下去。然而......
一场“国产光刻机”的奇葩说(2022-12-29)
专家组都说了：‘该光刻机在365纳米光源波长下，单次曝光最高线宽分辨力达到22纳米。项目在原理上突破分辨力衍射极限，建立了一条高分辨、大面积的纳米光刻装备研发新路线，绕过国外相关知识产权壁垒。’这里......
新技术加持，国产光刻机有望获得新突破(2016-12-12)
线宽，双线间距低至约50纳米的超分辨光刻。未来将这一技术工程化应用到光刻机上，能够突破光学衍射极限对投射电路尺寸的限制从而实现超分辨光刻，有望使国产集成电路光刻机......
成本几十万元，俄罗斯自研光刻机又突破了？(2023-10-11)
装置，另一个是硅的等离子体化学刻蚀设备。
具体来说，无光罩纳米光刻设备成本在500万卢布（约合36.6万人民币）以内，相当于中国一辆质量良好的车，而外国类似平台成本则高出十倍，要花......
年产1100吨光刻材料，这个光刻胶项目即将投产(2021-03-23)
大UBC大学等高校科研机构合作建设了光刻材料研发实验室，成功研发出世界最先进的193纳米光刻胶单体并实现规模化生产，成为中国唯一的高端光刻胶单体材料研发和规模化生产企业。
此外，为助......
DUV光刻机遭进一步限制，中国仍有破局之路(2023-01-30)
光刻机。
如果目标是阻止中国扩大其14纳米工艺技术大规模量产，那么必须阻止所有可以实现节点上最小金属间距64纳米的工具，理论上，连KrF光刻机......
绕过EUV光刻机技术！佳能开始销售5nm芯片生产设备(2023-10-16)
绕过EUV光刻机技术！佳能开始销售5nm芯片生产设备;
10月14日消息，光刻机大厂佳能(Canon)公司近日通过新闻稿宣布，其已经开始销售基于“纳米印刷”(Nanoprinted......
纳米压印光刻，能让国产绕过 ASML 吗(2023-03-20)
.https://www.researching.cn/ ArticlePdf / m00018/2020/49/9/20201035.pdf
[12] 中国光学：Nanophotonics | 纳米光刻......
三星否认“3nm 芯片量产延后”？称仍按进度于第二季度开始量产(2022-06-23)
三星否认“3nm 芯片量产延后”？称仍按进度于第二季度开始量产;6月22日，据中国台湾《经济日报》消息，三星近日否认了有关延后3纳米芯片量产的报道。三星的一位发言人通过电话表示，目前仍按进度于第二季度开始量产......
ASML完成第100台EUV光刻机出货(2021-01-06)
纳米及更先进制程，必须借助光刻设备转印半导体电路图案。追逐先进制程的芯片制造厂商中，台积电和三星均已引入光刻机。目前，台积电和三星已进入5nm工艺的量产阶段，台积电代工的产品包括苹果A14、M1、华为......
ASML：中国已有近1400台ASML光刻机(2023-11-03)
区总裁沈波接受媒体采访时透露，到2023年底，ASML在中国的光刻机加上量测的机台装机量接近1400台。
沈波表示，去年ASML全球净销售额达212亿欧元，预计2023财年，公司全球销售额增长30%，将达270......
佳能交付首台新型纳米压印光刻机(2024-09-29)
系统FPA-1200NZ2C，佳能表示这款设备可以实现最小线宽为14纳米的电路图案，相当于当前生产先进逻辑半导体用到的5纳米节点。
另据佳能透露，经由改良、期待未来NIL光刻机......
ASML堵了EUV光刻机的路，但国产光刻机有3大新方向(2023-02-24)
压印技术，完全有替代EUV光刻机的可能性，目前国内也在研究这个技术。
不过研究最好的还是日本的佳能，佳能在NIL技术上专利全球最多，且已经有了量产机器，目前在改进精度，希望国产加油，也能够赶紧推出NIL光刻机......
ASML第2代EUV光刻机开发传瓶颈，神队友救援力拼原时程问世(2021-06-10)
左右的第一代产品，其物镜的NA数孔径是0.33。根据ASML表示，第2代的EUV光刻机目前已经进入开发阶段。
据了解，首代EUV光刻机量产的型号为NXE：3400B，其产能为每小时125PWH......
EUV光刻机争夺战打响，国产光刻技术难题有何解？(2021-01-29)
市场份额超过85%，市场集中度非常高。
目前，中国已经可以量产G线、I线、KrF三大类光刻胶。南大光电计划通过3年的建设、投产及实现销售，达到年产25吨193nm（ArF干式和浸没式）光刻......
存储市场吹响EUV光刻机集结号(2024-07-05)
生产导入EUV（极紫外光）设备，其DRAM芯片产品皆采用DUV（深紫外光）光刻机制造。
近期，媒体报道美光计划于2024年开始在其10纳米级的1γ制程技术上进行EUV光刻技术的试生产，预计......
一亿多欧元一台的设备供不应求，这家荷兰公司二季度表现亮眼(2017-07-20)
，2纳米的精细可想而知。
未来，只有他的EUV光刻机能够帮助芯片接续微缩，因此这些设备纵使卖到上亿欧元，都能被客户所接受。
今天是《半导体行业观察》为您......
欧洲IMEC 也参与，日本 Rapidus 宣布推进2nm半导体生产(2023-01-11)
的最新款EUV曝光机，以用于研发工作。Rapidus应该可以利用与imec的合作关系，获得ASML的最新一代光刻机的相关技术，并填补上述差距。
但是，另一个问题是Rapidus能否获得光刻机......
清华大学科研团队新成果：有望为EUV光刻光源提供新技术路线(2021-02-26)
成电路芯片制造中最复杂和关键的工艺步骤。光刻机的曝光分辨率与波长直接相关，半个多世纪以来，光刻机光源的波长不断缩小，芯片工业界公认的新一代主流光刻技术是采用波长为13.5纳米光源的EUV（极紫外光源）光刻......
推广应用这些重大技术装备！工信部发布(2024-09-19)
技术装备推广应用指导目录（2024 年版）》（以下简称“《目录》”）。
该《目录》列表中提到和氟化氪光刻机氟化氩(ArF)光刻机。其中氟化氪光刻机光源248纳米，分辨率≤110nm，套刻≤25nm......
放缓扩产进度？外媒：晶圆代工大厂将关闭部分EUV光刻机(2022-09-02)
EUV光刻机设备，用于7nm、5nm、4nm等先进制程，且9月台积电还将开始量产最新的3纳米制程，这些都需要EUV光刻机设备协助。有市场消息表示，因首代3纳米制程客户可能仅剩苹果，使台......
美国与荷兰日本达成“最强”对华限制协议？将倒逼中国自研半导体设备(2023-02-02)
的技术难度和成本高筑进入壁垒。
中国在不断的研究新技术，以期在光刻机上有突破，从而实现先进光刻机的独立自主，最终摆脱对ASML的依赖。
如今上海微电子已经成功研发出第一台国产28纳米DUV光刻机，且已......
霸道至极！传美国对ASML施压：不准向中国厂商提供光刻机工具维修服务！(2024-04-07)
。
数据显示，截至2023年年底，ASML在中国的光刻机及量测机台装机量已接近1400台。这表明中国市场对ASML光刻机的需求一直保持在较高水平，ASML也在持续地向中国市场交付设备。
今年3月26......
全球2nm晶圆厂建设加速！(2024-04-02)
于下半年开始试产，2025年二季度小量生产。
英特尔方面，去年年底ASML已将全球首台高数值孔径 High NA EUV EXE:5200交付给了英特尔，助力后者生产2nm芯片。随后英特尔开启了光刻机......
全球2nm晶圆厂建设加速！(2024-04-01)
后者生产2nm芯片。随后英特尔开启了光刻机调试工作，并且进展顺利。
今年2月英特尔和ASML技术支持团队联合宣布已打开EXE:5000光刻机的光源，并使光线到达抗蚀剂。业界表示，这是光刻机......
佳能光刻机现在是什么水平？探访进博会上的光学大厂(2022-11-16)
的话，将具有革新意义，压倒性地降低逻辑电路生产成本”。
“这个设备目前还在做量产评价，目前十几纳米已经成功实现。”“我们相信将来是能够做到的。”
3.面对半导体光刻机供不应求的市场现状，佳能......
(2023.12.25)半导体周要闻－莫大康(2023-12-26)
，但是如果要继续推进到2nm甚至更小的尺寸，就需要更高数值孔径（NA）的High-NA光刻机。
据悉，用于2纳米芯片的光刻机型号为High-NA量产型EUV光刻机EXE:5200，将采......
ASML持续布局中国，又一台光刻机进入中国工厂(2022-12-29)
，ASML用第一台步进式光刻机迈入中国市场，如今该公司在中国的总装机量已超过1000台。目前全球各地的晶圆制造厂都要依赖ASML的中高端光刻机。
数据显示，2021年，ASML在中国......
三星拟新设至少10台EUV光刻机：展露要当世界第一的野心(2022-12-27)
的EUV。
为争取更多的EUV光刻机，三星高层去年就到ASML总部争取 。今年6月14日，三星副会长李在镕造访ASML荷兰总部，拜会了ASML首席执行官Peter Wennink等高管，广泛......
芯片先进制程之争：2nm战况激烈，1.8/1.4nm苗头显露(2023-12-22)
。Rapidus的目标是在2027年在日本国内量产2nm制程芯片，目前正寻求产业链的合作。
2nm关键设备EUV，厂商“抢疯了”
随着EUV光刻机在7nm以下制程的重要性日益增强，半导......
台积电CEO秘访ASML，High-NA EUV光刻机竞赛提前打响？(2024-05-30)
片晶圆的路线图。
英特尔希望在2nm领域拔得头筹
为了在先进制程技术上重回领先地位，英特尔已经率先斥巨资拿下了ASML的首批High-NA EUV光刻机，预计先在即量产的Intel 18A制程......
ASML与三星签署备忘录，预计共同在韩国建立研究中心(2023-12-13)
出了全球首个采用全栅极（GAA）技术的3纳米半导体芯片制程技术后，三星一直在努力确保能采购更多EUV光刻机，目标是使该公司能在2024年上半年进入第二代3纳米制程技术，2025年进入2纳米制程技术，并在2027年进入1.4......
约1340亿元半导体项目敲定；东芝一工厂突发停电(2022-09-21)
芯片能级、关键设备和基础材料配套支撑能力不断提升，14纳米先进工艺规模实现量产，90纳米光刻机、5纳米刻蚀机、12英寸大硅片、国产CPU、5G芯片等实现突破。
吴金城指出，上海......
ASML 一季度财报解读，EUV未出货订单累积到21台(2017-04-20)
得说。
第一季产品重点摘要
深紫外光（DUV）微影：持续出货NXT：1980浸润式微影系统给记忆体客户及逻辑晶片客户来进行10奈米量产和7奈米制程开发，目前NXT：1980浸润式系统的累积装机量......
俄罗斯绕过制裁 为35年前的光刻机续命(2024-09-10)
俄罗斯绕过制裁 为35年前的光刻机续命;
9月9日消息，据国外媒体报道称，俄罗斯近日绕过了制裁，为本国存在了35年的续命。
报道中提到，尽管......
ASML登上全球半导体曝光设备龙头，两个转折点都与台积电有关(2021-11-19)
提高精准度。但相对研发困难度也会增加。台积电表示，光源还可以继续用193纳米，但换个介质试试，不再以空气当介质。于是ASML尝试以水为介质，光源通过水会产生折射，使193纳米光源实际效果可能比157......
商务部部长会见ASML全球总裁，都说了啥？(2023-03-29)
全球唯一一家能够供应7nm及以下先进制程所需的EUV光刻机厂商。1988年至今，ASML在中国大陆的全方位光刻解决方案下的装机量已超过1000台，相应员工数量也超过了1500人。
数据显示，在2021年，中国......
挑战ASML ？佳能推出纳米压印技术(2023-10-13)
实现最小线宽为10nm的电路图案，相当于2nm节点。
半导体制造领域，光刻机是昂贵且关键的设备，而纳米压印设备被多家日本半导体设备厂商视作替代光刻机的“下一代设备”，担负......
中国芯片“B计划”曝光！(2023-02-03)
材料应用的极限，二是不需要光刻机。
首先，传统的芯片是基于硅打造的，目前量产的最先进的硅基芯片是5nm，而即使未来能够做到1nm，那也就是极限了。但量子是已知物理中最小的单位，如果要追求更小、更精......
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