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研发客服商务部官网消息，3月28日，商务部部长王文涛会见荷兰阿斯麦公司（ASML）全球总裁温宁克。
王文涛强调，中国坚定不移推进高水平开放，愿为包括阿斯麦公司在内的跨国公司来华发展创造良好营商环境，并提供高效服务。 希望阿斯麦坚定对华贸易投资合作信心，为中荷经贸合作作出积极贡献，并共同维护全球半导体产业链供应链稳定。 双方还就阿斯麦在华发展等议题进行了交流。 自2019年以来，ASML的EUV设备就被禁止出口中国大陆。3月8日，荷兰贸易大臣Schreinemacher在写给议会的一封信件中确认，荷兰将跟随美国限制出口与半导体有关的先进技术，由于荷兰政府的这项法令，ASML将需要申请出口许可证才能发运最先进的浸润式DUV系统（下称DUV）。ASML方面强调，荷兰政府新的出口管制措施并不针对所有浸润式光刻系统，而只涉及所谓“最先进”的浸润式光刻系统。 不过，荷兰政府目前并未明确“最先进”的定义。ASML方面倾向于将这一标准理解为：“关键的浸润式光刻系统”，即TWINSCAN NXT：2000i及后续推出的浸润式光刻系统。 据ASML官网显示，其浸没式DUV设备目前主要有3款产品，分别是TWINSCAN NXT:2050i、TWINSCAN NXT:2000i、TWINSCAN NXT:1980Di。其中依照ASML对“最先进”的理解，NXT:2050i和NXT:2000i将受到此次出口限制影响，NXT:1980Di则不受影响。 从官网参数可以看出，NXT:1980Di 的分辨率能达到≤38nm，每小时可以生产275片晶圆，当前主要被用于45nm以下成熟制程的生产。 依据ASML在声明中所言，主要关注成熟制程的客户，使用不太先进的浸没式光刻工具也能够得到很好的服务。 TWINSCAN NXT: 2000i 是ASML生产的一款用于半导体制造的光刻机。它是TWINSCAN NXT系列产品的一部分，采用了EUV光刻技术（下称EUV），可用于生产高性能的微处理器和存储器芯片，该产品于2014年推出。 DUV和EUV都被用于半导体芯片制造中的光刻技术，分别是“深紫外光”（Deep Ultraviolet）和“极紫外光”（Extreme Ultraviolet）的缩写。EUV较DUV更为先进，是一种波长较短的电磁辐射，波长在10纳米左右，可以比传统的光刻技术实现更高的分辨率和更复杂的芯片结构，但技术难度大、价格昂贵。DUV的电磁辐射波长200~400纳米之间，可以实现较高的分辨率和较低的成本，但是DUV技术的分辨率和精度有限，只能用于制造相对简单的芯片结构。 值得一提的是，中国驻荷兰大使谈践日前在接受《荷兰金融报》（Het Financieele Dagblad）说，荷兰政府扩大对华出口先进芯片制造技术的限制将产生不明的后果。在这篇采访中他指出：“我不会猜测反限制措施，但中国不会简单地咽下这口气。” 谈践在报道中还谈到，在去年秋季宣布限制芯片公司对中国的出口后，中国已向世界贸易组织（WTO）对美国提出正式申诉。但荷兰政府通过的抵制活动助长了这一点。“这不仅会破坏国际贸易规则，还会破坏 ASML 的全球技术领导地位。”谈践说。在他看来，荷兰是一个小国，一直是自由贸易的旗手。可以通过向中国出售产品并将收益进行再投资来保持领先地位。 但在这些事件发生了以后，谈践表示，中国别无选择，只能尝试制造类似的机器。 身为欧洲最大半导体生产设备制造商，ASML自2019年以来一直被限制向中国出售其最先进，对制造某些先进芯片至关重要的极紫外光刻机（EUV）。美国上个月也与荷兰和日本达成限制对中国出口先进芯片制造机器的协议，削弱中国建设芯片的产能。 谈践说，美国及其盟友的做法与国际贸易规则相冲突，破坏全球范围内的增长和供应链的稳定。他说：“如果荷兰真的这样做，将对我们的经济合作和我们的关系产生负面影响。” 中国是荷兰仅次于德国的第二大进口来源国，进口商品包括一些再出口的商品，以及其在国内安装的大部分太阳能电池板。 当被要求作出回应时，荷兰外贸部长的发言人提到了 Schreinemacher 早些时候的声明。他称中国对出口限制的抗议“可以理解”，但也表示希望两国关系保持良好。 3月16日，在商务部召开的例行新闻发布会上，有媒体提问：近日荷兰外贸与发展合作大臣施赖纳马赫尔向荷兰议会致函称，将限制半导体技术的出口，以保护国家安全。请问商务部对此有何评论？ 对此，商务部新闻发言人束珏婷表示，中荷双方近期就双边经贸合作及相关问题保持沟通。 近年来，个别国家为维护自身霸权，不断泛化国家安全概念，滥用出口管制措施，甚至不惜牺牲盟友利益，胁迫一些国家对中国采取贸易保护做法，人为推动产业脱钩断链，严重阻碍了世界经济复苏和发展。 束珏婷同时表示，我们希望荷方从自身长远利益和公平公正市场原则出发，恪守国际经贸规则，不滥用出口限制措施，同中方共同维护全球产业链供应链稳定，维护中荷两国和双方企业共同利益。 作为全球光刻技术的领导者，ASML成立于1984年，目前在16个国家和地区超过60个城市设有办公室，员工超过3.5万人。 如今，ASML占据了全球60%以上光刻机市场份额，也是全球唯一一家能够供应7nm及以下先进制程所需的EUV光刻机厂商。1988年至今，ASML在中国大陆的全方位光刻解决方案下的装机量已超过1000台，相应员工数量也超过了1500人。 数据显示，在2021年，中国大陆就已是ASML第三大市场，约占其2021年全球营业额14.7%（即27亿欧元），2021年中国大陆的出货量占其全球出货量的16%。 在2022年9月的一次专访中，谈及在中国市场发展，ASML中国区总裁沈波曾对记者表示：“我们认为，中国对于全球发展半导体产业是非常重要的组成部分，抛开非市场的外在因素，从公司本身角度而言，我们对于中国市场的投入和支持是非常坚定的。”