业内消息，近日多家外媒报道俄罗斯定下多个宏大科技领域的目标，其中包括在 2030 年之前建造 10 台的，此外还包括在圣彼得堡理工大学的光刻综合体以更低的成本研发出比 ASML 更高效的。

俄媒表示，俄罗斯将在“可信的基础设施团队”领导下重新定义计算能力，号称将突破算力极限，该项目计划每台超级计算机可容纳 1 万-1.5 万个英伟达 H100 GPU，整体预算约为 60 亿美金。

根据公开的信息，俄罗斯现阶段最强大的是 Yandex Chervonenkis，算力世界排名第 27，此外俄罗斯共有 7 台计算机跻身于世界前 500 名，其中有 3 台属于 Yandex。作为对比，美国拥有 150 台，中国拥有 134 台，德国拥有 36 台，日本则拥有 33 台。

俄罗斯科技巨头 Yandex 在上月初的一次采访中表示，自研的 YandexGPT 超越美国的 ChatGPT 只是时间问题。该公司称 YandexGPT 在生成俄语内容时的表现已经能够稳步超越 ChatGPT 3.5 版本，甚至在许多情况下提供了优于 ChatGPT 4.0 的回答。

据俄罗斯cnews报道，圣彼得堡创建了一个光刻综合体，该综合体包括用于无掩模纳米光刻和硅等离子体化学蚀刻的设备，其中包括了一个在基板上进行无掩模图像采集和硅等离子化学蚀刻的设备。

研发人员称第一台用于无掩模纳米光刻的机器成本约为500万卢布，而外国同类产品的价值高达数十亿卢布。圣彼得堡彼得大帝理工大学(SPbPU )的专家表示，已经开发了两套用于生产微电子纳米结构的装置，解决俄罗斯在微电子领域的技术主权问题已成为可能。

据悉，第一台用于无掩模纳米光刻的设备用于在基板上获得图像，而不使用特殊的掩模，传统光刻技术使用专门的光罩来获取图像。开发人员称该技术与传统光刻技术相比在成本和时间方面都更优，并且全自动化专用程序控制安装。

该光刻综合体由圣彼得堡理工大学开发，旨在创建“各种微电子设备运行”所需的纳米结构。该工艺的第一阶段使用基础掩模光刻机，第二阶段则使用用于硅等离子化学蚀刻的机器。

第二阶段采用第一阶段中创建的基材图案，俄媒称其目的是直接用于形成纳米结构，但也可以创建硅膜，随后可用于船舶表压传感器等。研发人员强调，使用这种设施创建的膜在可靠性和灵敏度方面优于液体或激光蚀刻生产的膜，并且完全是俄罗斯国产。

据悉，该机构不仅没有透露第二阶段的安装成本，也没有说明是否有任何具体的俄罗斯芯片制造商对其新设备感兴趣，而且现阶段还没有消息证明这些设备具体什么时候可以用于实际生产。

去年，俄罗斯科学院下诺夫哥罗德应用物理研究所(IPF RAS)已经开始进军光刻领域，其应用物理研究所正在开发俄罗斯第一台用于生产超小纳米微电子器件的光刻装置，并且已经创建了可在基板获 7nm 单个图像的设备演示样品。

当时俄媒就宣称该研究所将在未来几年内打造出国产 7nm 光刻机的工业样机，测试机将于2026年出现，并在 2028 年之前本土光刻机将获得更强大的辐射源并开始全面工业化应用。

俄罗斯科学院微结构物理研究所副所长 Nikolai·Chkhalo 表示，该演示器的光学系统是在俄罗斯科学院应用物理研究所组装的，已经超越了当今世界上现有的所有类似设备。比 ASML 的稳定，并且在同等辐射源功率下输出效率比后者高 1.5~2 倍。