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研发客服近期，一则“7纳米光刻机实现国产化”消息在业界刷屏，消息指出清华大学EUV项目实现了光刻机国产化，并表示该项目已在雄安新区落地。
对此，9月18日中国电子院官微进行了澄清。该项目不是国产光刻机工厂，而是北京高能同步辐射光源项目（HEPS），而且项目位于北京怀柔雁栖湖畔。
HEPS可以看成是一个超精密、超高速、具有强大穿透力的巨型X光机。它产生的小光束可以穿透物质、深入内部进行立体扫描从分子、原子的尺度多维度地观察微观世界HEPS，是进行科学实验的大科学装置。
据悉，上述项目在2019年始建设，将在2025年底投入使用，是我国第一台高能量同步辐射光源，也是世界上亮度最高的，第四代同步辐射光源之一。
项目由全国勘察设计大师、国投集团首席科学家娄宇带队，中国电子院多个技术科研和设计团队协同合作，从项目可研立项到项目落地攻克了多项技术和工艺难关。目前高能同步辐射光源配套工程已全面完工。
封面图片来源：拍信网
文章来源于:全球半导体观察 原文链接
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