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，以及用于EUV设备的空白或预曝光掩膜的检查设备。 值得注意的是，在刻蚀设备方面，Eric Chen指出，日本对硅锗（SiGe）的湿法刻蚀和干法刻蚀设备都有限制。相比之下，对于......
半导体的产品可完全覆盖WLP生产线的清洗设备、涂胶设备、显影设备、湿法刻蚀设备、湿法去胶设备，以及先进电镀设备。用于WLP的设备已获得国内本土厂商的广泛认可，这两......
国产刻蚀设备凭什么后发赶超？（附厂商盘点）;刻蚀设备的一些基本知识 1.基本原理 前道的晶圆加工包括十余道工艺，有氧化、扩散、退火、离子注入、薄膜沉积、光刻、刻蚀、化学机械平坦化（CMP）等。其中最关键的三类主设备......
于平板显示、光伏、半导体领域的高精密清洗、显影、湿法刻蚀、光阻剥离等高端湿制程设备的生产及研发，并同步延伸自动化、智能化、绿色化配套，如废液在线回收系统、机器人运用等。 封面图片来源：拍信网......
北方华创：12英寸CCP晶边干法刻蚀设备已在客户端实现量产;北方华创在投资者互动平台表示，公司前期已经发布了首台国产12英寸CCP晶边干法刻蚀设备研发成功有关信息，目前已在客户端实现量产，其优......
北方华创：12英寸CCP晶边干法刻蚀设备已在客户端实现量产;9月17日，北方华创在投资者互动平台表示，公司前期已经发布了首台国产12英寸CCP晶边干法刻蚀设备研发成功有关信息，目前......
总投资10亿元，基侑电子半导体刻蚀设备生产项目正式签约;据微讯广丰消息，6月19日，半导体刻蚀设备生产项目签约仪式举行。 半导体刻蚀设备生产项目由昆山基侑电子科技有限公司（以下简称“基侑......
年上半年刻蚀设备收入为8.58亿元，较去年同期增长约83.79%，毛利率达到44.29%。 【编辑注：根据产生等离子体方法的不同，干法刻蚀主要分为电容性等离子体刻蚀(CCP)和电感性等离子体刻蚀(ICP......
盛美上海推出Ultra C bev-p面板级边缘刻蚀设备;9月4日，盛美上海宣布推出用于扇出型面板级封装（FOPLP）应用的新型Ultra C bev-p面板边缘刻蚀设备。该设备专为铜相关工艺中的边缘刻蚀......
为主，刻蚀设备产品涵盖了等离子体刻蚀机、干法刻蚀机等，同时目前该公司的TSV设备可以使用在先进封装领域，并已布局其他应用于先进封装的设备产品，将根据客户需求情况逐步导入市场。 华海......
导体制造中最常用的工艺之一。 中微公司专注于研发干法刻蚀（等离子体刻蚀）设备，用于在晶圆上加工微观结构。干法刻蚀通过等离子释放带正电的离子来撞击晶圆以去除（刻蚀）材料。根据所要去除材料和加工器件结构的不同，可分为电介质刻蚀......
步骤多达上百个，是半导体制造中最常用的工艺之一。中微公司专注于研发干法刻蚀(等离子体刻蚀)设备，用于在晶圆上加工微观结构。干法刻蚀通过等离子释放带正电的离子来撞击晶圆以去除(刻蚀)材料。根据......
部件的研发及生产，产品主要应用于泛半导体薄膜工艺、刻蚀工艺等关键工艺环节，也是国内首家将面板领域CVD设备、干法刻蚀设备电极部件国产化的企业。 此外，据统计，2023年合......
先进传感器中试线成功通线。 该中试线以国产设备为主，具备晶圆键合、晶圆减薄、干湿法刻蚀、物理和化学气相沉积、原子层沉积、化学机械研磨、湿法清洗、自动化量测等先进传感器和晶圆级3D集成技术的核心工艺能力，同时......
延展到其嘉芯半导体子公司，覆盖除光刻机之外的几乎全部前道大类；盛美上海从清洗，电镀等业务逐步覆盖，炉管，沉积及其他前道品类；屹唐半导体从干法去胶设备向快速热处理设备、干法刻蚀设备其他工艺段设备发展等等。 四 观招......
证券公告显示，至纯科技已具备生产8-12寸高阶单晶圆湿法清洗设备和槽式湿法清洗设备的相关技术，目前已可以提供28nm节点的全部湿法工艺设备，首批次单片湿法设备已交付并顺利通过验证。 投资中微公司 刻蚀设备......
, 这个光刻机大概可以量产28nm工艺的芯片。 除了光刻机，其他集成电路生产设备还包括硅外延炉、湿法清洗机、氧化炉、涂胶显影机、高能离子注入机、低能离子注入机、等离子干法刻蚀机、特征金属膜层刻蚀......
3D闪存芯片；其干法刻蚀设备主要可用于65nm到5nm逻辑芯片、10nm系列DRAM芯片以及32层到128层3D闪存芯片制造。2019年屹唐半导体的营收落在中微公司之后，作为国内干法去胶的龙头企业，加之在干法刻蚀设......
栅极间距版性能下降，但研究员认为藉制造优化，应可解决问题。 三星成功处是解决电气隔离堆叠的 n 和 p 两种 MOS 元件漏电，关键是使用以化学品新型刻蚀取代湿法刻蚀。与英特尔单个晶体管使用三个纳米片不同，三星......
迈入全新发展阶段。 2023年10月项目主体结构正式封顶，仅仅三个月时间便再度迎来首批设备正式入场的重大节点。本次入场的22台设备是薄膜泥酸理光子芯片中试线的关键组成部分，主要用于光刻干法刻蚀、薄膜沉积、湿法......
于为客户提供半导体装备与工艺整体解决方案。 芯源微所开发的涂胶机、显影机、喷胶机、去胶机、湿法刻蚀机、单片清洗机等产品，已形成完整的技术体系和丰富的产品系列，其产品可广泛应用于半导体生产、高端封装、MEMS、LED、OLED、3D......
发的涂胶机、显影机、喷胶机、去胶机、湿法刻蚀机、单片清洗机等产品，已形成完整的技术体系和丰富的产品系列，可根据用户的工艺要求量身定制。产品适应不同工艺等级的客户要求，广泛应用于半导体生产、高端封装、MEMS、LED......
降低硅氧键的密度。即使对于在不同温度下沉积的薄膜，相比于薄膜中的碳密度或碳总量，交联碳的量才是影响刻蚀选择性的主要因素。此外，这些SiCO薄膜在稀氢氟酸和热磷酸等典型湿法化学物质中的湿法刻蚀速率为零，因此可提供近乎无限的湿法刻蚀......
、新型Ultra C bev-p面板边缘刻蚀设备。 5月22日，盛美上海宣布推出用于先进封装的带框晶圆清洗设备。该设备可在脱粘后的清洗过程中有效清洗半导体晶圆。公司......
供应商，还有半导体材料事业部，供应半导体产业用的消耗品，化学品等等。可生产的半导体设备有CMP设备，湿法刻蚀设备和ALD设备。还供应化学品供应系统。 5. AP system......
中微公司ICP刻蚀设备Primo nanova®系列第500台付运;3月21日，中微公司宣布，公司电感耦合等离子体（ICP）刻蚀设备Primo nanova®系列第500台反......
中微半导体首台8英寸CCP刻蚀设备顺利付运;近日，中微半导体设备（上海）股份有限公司（以下简称“中微半导体”）首台8英寸甚高频去耦合反应离子（CCP）刻蚀设备Primo AD-RIE 200顺利......
中微半导体中标华虹半导体12台刻蚀设备;据招标平台信息显示，4月1日，中微半导体设备（上海）股份有限公司（以下简称“中微半导体”）中标华虹半导体（无锡）有限公司12台刻蚀机。 图片......
刻蚀设备收入增长58.49% 中微公司2020年营收22.73亿元;3月31日消息，昨日中微公司发布其2020年年报，报告期内，中微公司实现营业收入22.73亿元，较上年增长16.76%。归属......
于提供半导体装备与工艺整体解决方案。 芯源微所开发的涂胶机、显影机、喷胶机、去胶机、湿法刻蚀机、单片清洗机等产品，已形成完整的技术体系和丰富的产品系列，产品适应不同工艺等级的客户要求，广泛应用于半导体生产、高端......
微所开发的涂胶机、显影机、喷胶机、去胶机、湿法刻蚀机、单片清洗机等产品，已形成完整的技术体系和丰富的产品系列，产品适应不同工艺等级的客户要求，广泛应用于半导体生产、高端封装、MEMS、LED、OLED......
中微公司尹志尧：公司12英寸刻蚀设备已进入5纳米芯片生产线;4月6日消息，中微公司举行了2020年度业绩说明会。会上，中微公司董事长、总经理尹志尧表示，公司的等离子体刻蚀设备......
实现技术全覆盖。其中值得注意的是，面板级封装是AI芯片未来发展的必由之路，盛美已经率先推出了面板级电镀、负压清洗、边缘刻蚀设备，有望......
韩国吉佳蓝公司将在中国无锡，建设刻蚀设备研发制造基地;据无锡日报报道，7月25日，韩国吉佳蓝公司与无锡市签署合作协议，在无锡高新区落户中国总部项目，将在无锡建设半导体刻蚀设备......
中微公司ICP刻蚀设备Primo nanova®第100台反应腔交付;中微公司官微消息显示，6月9日，中微公司在上海总部举办电感耦合等离子体（ICP）刻蚀设备Primo nanova®第100台反......
市场发展及公司产品竞争优势，2021年刻蚀设备收入为20.04亿元，较2020年增长约55.44%，毛利率达到44.31%；由于下游市场原因以及本年新签署的Mini-LED MOCVD设备规模订单尚未确认收入，2021年MOCVD......
材料公司还将在当天在“CMP和CMP后清洗(CMP and Post CMP Cleaning)”及“干法、湿法刻蚀和清洗(Dry & Wet Etch and Cleaning)”等分......
布局省内首条产线，山东有研刻蚀设备用硅材料项目通线量产;10月16日，山东有研刻蚀设备用硅材料项目通线量产，这是全省首条集成电路刻蚀设备用硅材料生产线，在填补省内技术空白同时，还将......
中微公司：正进行高产出的ICP刻蚀设备的研发;6月1日，中微公司发布2021年5月投资者调研报告。中微公司称，公司主要盈利模式为从事半导体设备的研发、生产和销售，通过向下游集成电路、LED芯片、先进......
量产工艺也由最早的半导体光刻工艺，及后来的热扩散和湿法刻蚀工艺，到目前的钝化接触和激光开槽工艺，和最新的全钝化和铜电极工艺，量产转换效率越来越高，生产成本越来越低。这也意味着，国内......
实现迭代升级和技术突破。8月，推出用于扇出型面板级封装（FOPLP）应用的新型Ultra C bev-p面板边缘刻蚀设备；3月，湿法设备4000腔顺利交付；5月，顺利推出用于先进封装的全新产品带框晶圆清洗设备......
%。 图片来源：中微公司公告截图 报告指出，2021年上半年度营业收入同比增长36.82%，主要系：受益于半导体设备市场发展及公司产品竞争优势，上半年刻蚀设备收入为8.58 亿元，同比......
封装等先进封装技术。 装备材料，加强装备材料创新发展，突破光刻设备、刻蚀设备、薄膜设备、离子注入设备、湿法设备、检测设备等集成电路前道核心工艺设备；提升12英寸硅片、高端掩膜板、光刻胶、湿化学品、电子......
神工股份拟定增不超3亿元于集成电路刻蚀设备用硅材料扩产项目等;4月23日，神工股份披露预案，公司拟定增募集资金不超过3亿元，用于集成电路刻蚀设备用硅材料扩产项目、补充流动资金。 根据预案，本项目主要以刻蚀......
排名世界第二，毫秒级快速热处理设备在其细分领域也是世界前三，而全球已经有100多台屹唐半导体的等离子刻蚀设备（即干法刻蚀）运行在最先进存储器量产生产线上。 屹唐......
。 从全球刻蚀设备市场份额来看，泛林半导体、东京电子和应用材料三家企业的合计占据了全球刻蚀设备市场的90%以上。其中泛林半导体独占52%的市场份额，东京电子与应用材料分别占据20%和19%的市......
、干法刻蚀设备在内的集成电路制造设备及配套工艺解决方案。 据招股书介绍，屹唐半导体主要设备相关技术达到国际领先水平，产品已应用在多家国际知名集成电路制造商生产线上并实现大规模装机。该公司干法去胶设备......
、湿法刻蚀和清洗（Dry & Wet Etch and Cleaning）”等分论坛展示相关主题的学术海报。 6月30日 功率及化合物半导体产业国际论坛——应用材料公司ICAPS产品......
中微上半年扣非净利增超600%！;中微半导体今日披露2022年上半年财报。据公开资料，中微半导体是我国半导体制造设备厂商，主要开发离子体刻蚀设备和化学薄膜设备，在2018年年初就已宣布成功研发5nm......
数据看，大陆设备厂商在薄膜沉积、刻蚀、湿法清洗、涂胶显影等环节上占据优势。其中，在刻蚀设备上，北方华创和中微公司上半年合计中标60余台，远超泛林半导体与东京电子总和。根据中微公司创始人尹志尧预计，在刻蚀设备......

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华林嘉业科技有限公司
清洗腐蚀台、晶圆湿法刻蚀机、湿台、台面腐蚀机、显影机、晶片清洗机、炉前清洗机、硅片腐蚀机、全自动动清洗台、兆声波清洗机、片盒清洗设备、理片机、装片机、工作台、单晶圆通风柜、倒片器、导片机,硅片边缘腐蚀机、硅片
北京华林嘉业科技有限责任公司
液晶玻璃基板清洗刻蚀设备;LED晶片清洗腐蚀设备,硅片切片后清洗设备，划片后清洗设备,太阳能电池制绒酸洗设备,硅晶圆片清洗甩干机湿法清洗机,硅片清洗机,硅刻蚀机、通风橱、边缘腐蚀机、石英管清洗机,钟罩
北京华林伟业公司
、RCA湿法清洗机，磷硅玻璃清洗设备，液晶湿制成设备（PR前清洗设备.PI前清洗设备.TOP前清洗设备.显影刻蚀设备）,二手设备维护翻新业务等.
其他继电器 深圳市昊光机电应用科技有限公司
星型CD/DVD激光刻录机，激光系统等 2、微结构电铸系统：包括各类清洗设备、精密电铸设备、DI水系统 3、真空镀膜机：EVA真空镀膜机、MRC943系列真空溅射镀膜机、超高真空设备 4、等离子刻蚀设备
继电器 深圳市昊光机电应用科技有限公司
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电源、电池 深圳市昊光机电应用科技有限公司
星型CD/DVD激光刻录机，激光系统等 2、微结构电铸系统：包括各类清洗设备、精密电铸设备、DI水系统 3、真空镀膜机：EVA真空镀膜机、MRC943系列真空溅射镀膜机、超高真空设备 4、等离子刻蚀设备
郑州军政科贸有限公司
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淄博光润燃气设备有限公司（湿法脱硫、煤气发生炉）
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，微电子行业，连接器等行业，广收客户好评，在这些行业应用中积累了许多的工艺知识，可为类似的客户提供更全面的工艺方案，并为其配置合理的机型，力求用最低的成本取得最优的效率，我们从小型到中型及大型等离子清洗及刻蚀设备
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