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研发客服3月21日，中微公司宣布，公司电感耦合等离子体（ICP）刻蚀设备Primo nanova®系列第500台反应腔于近日顺利付运国内一家先进的半导体芯片制造商。本批次运付的ICP刻蚀设备Primo nanova®系列产品，均来自该客户的重复订单。
此次付运的Primo nanova®是中微公司针对先进的工艺节点与生产线的各种关键应用，基于电感耦合（ICP）技术研发的12英寸刻蚀设备，适用于先进的逻辑芯片、DRAM存储芯片以及3D NAND存储芯片的刻蚀。
中微公司开发的等离子体刻蚀设备和化学薄膜设备是制造各种微观器件的关键设备，可加工微米级和纳米级的各种器件。据悉，中微公司等离子体刻蚀设备已被广泛应用于国际一线客户先进工艺的众多刻蚀应用，中微公司开发的用于LED和功率器件外延片生产的MOCVD设备已在客户生产线上投入量产，目前已在全球氮化镓基LED MOCVD设备市场占据优势地位。
此外，数据显示，2023年，中微公司营业收入约62.64亿元，较2022年增加约15.24亿元，同比增长约32.15%。其中，2023年刻蚀设备收入约47.03亿元，同比增长约49.43%。占公司营业收入约 75.1% 的刻蚀设备在2021年和2022年分别增长了55.4%和57.1%。中微公司2023年新增订单总金额约83.6亿元，较2022年增加约20.4亿元，同比增长达32.3%，其中刻蚀设备新增订单达69.5亿元，同比增长约60.1%。
封面图片来源：拍信网
文章来源于:全球半导体观察 原文链接
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