8月24日，中微半导体设备（上海）股份有限公司（以下简称“中微公司”）发布其2021年半年报，其上半年实现营收净利双增长。

净利润同比增长233.17%

报告显示，2021年上半年，中微公司实现营业收入13.39亿元，同比增长36.82%；实现归属于上市公司股东的净利润3.97亿元，同比增长233.17%。

图片来源：中微公司公告截图

报告指出，2021年上半年度营业收入同比增长36.82%，主要系：受益于半导体设备市场发展及公司产品竞争优势，上半年刻蚀设备收入为8.58 亿元，同比增长约83.79%，毛利率达到44.29%。由于下游市场原因，上半年MOCVD设备收入为2.19亿元，同比下降约10.08%，但本期MOCVD设备的毛利率达到30.77%，较去年同期有大幅度提升。

此外，2021年上半年度公司新签订单金额达18.89亿元，同比增长超过70%，且有部分Mini-LED MOCVD设备规模订单已进入最后签署阶段。

2021年上半年度归属于上市公司股东的净利润较上年同期增加约2.78亿元，增长约233.17%，主要系：（1）扣除非经常性损益后的净利润较上年同期增加约0.21 亿元；（2）本期产生公允价值变动损益1.71亿元，包括公司2020年投资青岛聚源芯星股权投资合伙企业（有限合伙）3亿元而间接持有中芯国际集成电路制造有限公司科创板股票，因本期中芯国际集成电路制造有限公司股价变动导致公司产生公允价值变动收益约0.74亿元；以及经评估师事务所评估，其他非流动金融资产（非上市公司股权投资）本期产生公允价值变动收益约0.98亿元；（3）计入当期损益的政府补助（非经常性损益）较上年同期增加约1.44亿元。 

报告指出，报告期内，公司继续保持较高的研发投入，与国内外一流客户保持紧密合作，相关设备产品研发进展顺利、客户端验证情况良好。2021年上半年公司研发投入为2.86亿元，相较去年同期增长38.1%。

此外，公司在持续改善量产机台的运行时间和生产效率的同时，研发团队和客户紧密合作，进行更多的关键制程的工艺开发和验证，进一步提高产品的技术先进性和市场竞争力，以拓宽机台的生产能力并赢得更多的制程量产机会。

主要产品进展情况

半年报中，中微公司披露了其主要产品的进展情况。

根据报告，报告期内，公司CCP刻蚀设备产品批量应用于国内外一线客户的集成电路加工制造生产线，并持续提升市场占有率，在部分客户市场占有率已进入前三位。

在先进逻辑电路方面，公司成功取得5纳米及以下逻辑电路产线的重复订单。在存储电路方面，公司的刻蚀设备在64层及128层3D NAND的生产线得到广泛应用。随着3D NAND芯片制造厂产能的迅速爬升，该等产品的重复订单稳步增长。同时，公司积极布局动态存储器的应用，并开始工艺开发及验证。公司积极与主流客户合作，定义下一代CCP 刻蚀机的主要功能及技术指标，正开发更先进的CCP刻蚀机产品。

6月15日，中微公司推出首台用于8英寸晶圆加工的CCP刻蚀设备，丰富了现有的刻蚀设备产品线。

公司ICP刻蚀设备已经逐步趋于成熟，Primo nanova®产品在10家客户的生产线上进行验证，已有超过70个工艺在客户的生产线上达到指标要求，且持续扩大应用验证范围。6月，公司ICP设备Primo Nanova®第100台反应腔顺利交付，经过客户验证的应用数量也在持续增加。

根据客户的技术发展需求，公司正在进行下一代产品的技术研发，以满足5纳米以下的逻辑芯片、1X 纳米的DRAM芯片和128层以上的3D NAND芯片等产品的ICP刻蚀需求，并进行高产出的ICP刻蚀设备的研发。公司研发的具有高输出率特点的双反应台ICP刻蚀设备Primo Twin-Star®也已在客户端完成认证，并收到来自国内领先客户的订单。

MOCVD设备方面，报告期内，公司正式发布用于高性能Mini-LED量产的MOCVD设备Prismo UniMax™，拓展了MOCVD设备产品线，该设备已收到来自国内领先客户的批量订单。同时，公司正在与更多客户合作进行设备评估。

封面图片来源：拍信网