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研发客服近日，晶洲装备二期湿制程智能装备生产项目洁净车间迎来竣工，即将投产。该项目的落成，使晶洲在一期项目的基础上扩容生产建筑面积近万平方米，总建筑积达5万平方米，月产泛半导体装备可达百台以上，进一步提升了晶洲泛半导体装备的研发及制造能力。
据晶洲装备表示，以显示制程的湿法刻蚀机为例，晶洲曾获江苏省首台(套)重大装备认证的G6湿法刻蚀机宽4米、高4.5米、长达30米，这样一个体积庞大的大型装备，洁净度要求却非常高，设备内部洁净度要求达到Class10，即每立方米空间直径0.5微米~5微米的颗粒物不能超过10个，而人体细胞的平均直径在10-20微米，相当于每立方米空间不能有超过10个细胞大小的颗粒物。
资料显示，苏州晶洲装备科技有限公司2011年成立于苏州常熟高新技术产业开发区辛庄工业园，业务范围集研发、设计、制造、销售及售后为一体，专注于平板显示、光伏、半导体领域的高精密清洗、显影、湿法刻蚀、光阻剥离等高端湿制程设备的生产及研发，并同步延伸自动化、智能化、绿色化配套，如废液在线回收系统、机器人运用等。
封面图片来源：拍信网
文章来源于:全球半导体观察 原文链接
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