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消息指台积电最快 2028 年 A14P 制程引入 High NA EUV 光刻技术;7 月 29 日消息，台媒《电子时报》（DIGITIMES）今日报道称，台积电最快在 2028 年推......
AI芯片需求快速成长，推动台积电积极部署High-NA EUV制程......
英特尔拿下首套High-NA EUV，台积电如何应对？;英特尔（intel）近日宣布，已经接收市场首套具有0.55数值孔径（High-NA）的ASML极紫外（EUV）光刻机，预计......
为假想敌的三星，更宣称将比台积电更早推出10nm的方案，也会更早导入EUV的设备，希望在几年内翻转晶圆代工产业被台积电独占利益的格局。GlobalFoundries也以新的22nm FD-SOI工程......
机设备，但可能超过7.24亿美元一台的售价会让台积电、三星、英特尔等半导体晶圆代工厂商望而却步。 约123亿美元，台积电今明两年订购60台EUV 在AI人工智能、汽车电子等产业的推动下，全球......
贡献的。而随着新一代的可生产5nm工艺的EUV （极紫外光）微影技术的导入，用电量还将会暴增，可达目前主流制程的1.48倍。这也或将导致整个台湾的用电荒！ 台积电董事长张忠谋曾在 2 年前......
放缓扩产进度？外媒：晶圆代工大厂将关闭部分EUV光刻机;外媒报导，先进制程产能利用率开始下滑，且评估下滑时间将持续一段时间，为节省EUV的巨大耗电，台积电计划年底开始，关机部分EUV光刻机设备。对此......
台积电CEO秘访ASML，High-NA EUV光刻机竞赛提前打响？;5月26日，举办“2024年技术论坛台北站”的活动，CEO魏哲家罕见的没有出席，原因是其秘密前往荷兰访问位于埃因霍温的总部，以及......
可怕的台积电，一口气买下5台EUV光刻机; 版权声明：本文内容来自经济日报，如您觉得不合适，请与我们联系，谢谢。 巴隆周刊（Barrons）报导，艾司摩尔（ASML）上周......
EUV光刻机也卖不动了 台积电40%订单被砍; 4月17日消息，随着PC、手机等行业需求下滑，行业自从2022年下半年开始牛熊周期转换，Q1季度业务业绩罕见低于预期，现在ASML的EUV光刻......
台积电大举拉货EUV; 【导读】台积电2nm先进制程产能将于2025年量产，设备厂正如火如荼交机，尤以先进制程所用之EUV（极紫外光曝光机）至为关键，今明两年共将交付超过60台EUV，总投......
晶圆代工霸占热搜榜;本周晶圆代工领域消息不断：台积电美国工厂发生爆炸、欧洲首座工厂动工时间揭晓；EUV光刻机再次受到关注，英特尔与台积电面对ASML新设备，态度不一；先进制程竞争愈演愈烈，台积电N3......
EUV、NIL等下一代光刻专利数量上，台积电远超三星电子; 【导读】TechInsights 1月27日发布报告称，在包括EUV在内的下一代光刻技术方面，台积电......
台积电和三星7nm竞赛正式开打，EUV成为关键; 版权声明：本文内容来自technews，如您觉得不合适，请与我们联系，谢谢。 三星、台积电10 纳米技术量产，7 纳米......
EUV光刻机日耗电3万度 台积电为电费上涨发愁;台积电日前发布了Q1季度财报，营收167.2亿美元，同比减少4.8%、环比减少16.1%，是3年来首次同比收入下滑，意味着牛市已经过去了。更严......
体大厂与ASML的合作也变得更加频繁和紧密。目前台积电与三星都在使用EUV设备进行制造，包括台积电7nm、5nm、3nm制程，三星于韩国华城建置的EUV Line (7nm、5nm及4nm)、以及3nm......
台积电年底前获首套High-NAEUV，生产领先2nm两代制程;日经亚洲的报导，全球最大半导体制造商台积电(TSMC)年底前会收到ASML最先进光刻机。高数值孔径极紫外(High NA EUV)光刻......
台积电发布Q1季度财报：EUV光刻机日耗电3万度; 4月21日消息，日前发布了Q1季度财报，营收167.2亿美元，同比减少4.8%、环比减少16.1%，是3年来首次同比收入下滑，意味......
镕不仅有可能访问总部设在荷兰埃因霍温的世界级半导体设备制造商阿斯麦（ASML）公司，讨论极紫外光线（EUV）光刻机供货问题。外界也解读，三星此举或许是为了抢购ASML的EUV设备以及下一代EUV光刻机的合作，以便与台积电......
三星若能争取到更多EUV机台，则今年至少可获得18台，台积电则至少确保22台。业界此前传出，去年ASML的EUV设备年度出货量为48台，其中15台由三星夺得，20台由台积电包办。 ASML是全......
专家们大多认为，EUV将能在2020年左右准备好应用于某些关键层的制造；三星在去年底表示，将在7纳米制程采用EUV微影，但并没有透露其应用的局限程度。 三星是否会在所谓的7纳米制程落后台积电......
日本抛橄榄枝：邀请台积电扩建二厂并引入EUV; 据业内消息，近日日本政府再次对抛出橄榄枝，希望台积电在日本建设第二座芯片代工厂，同时日本表示希望ASML公司在先进制程方面和台积电......
强调A16还不需用到High-NA EUV，成本更具竞争力，市场乐观看待台积电进入埃米时代第一战有丰硕战果。 台积电A16量产时间与成本或将领先竞争对手 根据台积电表示，A16先进......
EUV 光刻机耗能巨大，3 年后台积电将吃掉中国台湾 12% 电力;据彭博社报道，ASML 新一代 EUV 光刻机每台耗电约 1 百万瓦，约为前几代设备的 10 倍，依赖该设备生产芯片的三星、台积电......
16%，TEL的12亿美元则是占11%，Lam Research为10亿美元，占台积电采购额的9%，KLA则是占4%。 对于3纳米制程这样尖端的制程技术来说，曝光机显得尤为重要，而能提供EUV设备......
下制程工艺芯片的制造）。 业界预测，有望最早使用High-NA EUV设备的会是英特尔、台积电、三星、美光等头部客户，目前，科林研发、柯磊、HMI和JSR及TEL等正与ASML合作，开发High-NA EUV材料......
ASML登上全球半导体曝光设备龙头，两个转折点都与台积电有关;外媒报导，半导体制程一家独大的极紫外光曝光设备（EUV）厂商艾司摩尔（ASML），几乎成为各半导体制造商发展不可或缺的伙伴，尤其10纳米......
调还不需用到High-NA EUV，成本更具竞争力，市场乐观看待进入埃米时代第一战有丰硕战果。本文引用地址： 台积电量产时间与成本或将领先竞争对手 根据台积电表示，A16先进制程将结合超级电轨（Super......
纳米及更先进制程，必须借助光刻设备转印半导体电路图案。追逐先进制程的芯片制造厂商中，台积电和三星均已引入光刻机。目前，台积电和三星已进入5nm工艺的量产阶段，台积电代工的产品包括苹果A14、M1、华为......
台积电美国厂导入首台EUV？;据中国台湾媒体《经济日报》报道，台积电美国亚利桑那州厂导入当地第一台极紫外光（EUV）设备，随着建厂进入安装先进及精密设备的关键阶段，供应商持续招募，预计仍有2000......
台积电5nm制程出现过剩 EUV都要关掉4台;前不久AMD正式发布了锐龙7000处理器，定于9月27日开始上市，6核售价299美元起，16核的锐龙9 7950X还降价了100美元，性价比大增。由于......
财务官Roger Dassen在最近的一次电话会议上告诉分析师，公司两大客户台积电和英特尔将在今年年底前获得所谓的高数值孔径(高NA)极紫外(EUV)光刻系统。 英特......
设备购置方面，两者的资金投入悬殊。据韩媒此前的报道，2019年以台积电为首的中国台湾高科技制造业几乎席卷了光科设备大厂ASML的EUV设备，其金额占这家荷兰商总销售金额的51%，而韩......
未来还打算推出多种专门针对超小型和超低功耗应用的制造工艺。 超越10nm的台积电：7 nm DUV 和 7 nm EUV 如前所述，未来台积电的7nm工艺将会被应用到数百家公司的数以千计的不同的应用之中。 不过，台积电最初的计划并不是这样。台积电......
88%透光率护膜已量产？传三星自研透光率92%的EUV护膜;据韩国媒体报道，为缩小与对手台积电的市占差距，三星开始开发极紫外光（EUV）护膜。 光罩护膜是极紫外光（EUV）微影......
排名第四大的南亚科技也于4月宣布，投资3000亿元新台币在新北市兴建含EUV光刻设备的DRAM产线，预计2024年量产营运。 晶圆代工龙头台积电的EUV光刻设备产业影响力也有增加。今年第二季起，采用EUV光刻设备的7......
-2028 年时间段为 A14 制程采用 High-NA EUV 光刻技术，考虑到届时英特尔（以及可能其他芯片制造商）将采用和完善下一代数值孔径为 0.55 的 EUV 光刻机，台积电......
以从竞争对手夺回客户。”他称，三星电子公司有信心利用领先竞争对手的称作EUV平版印刷术生产芯片。 EUV是下一代技术，可能会降低成本和芯片制造复杂性。在引进EUV技术方面，三星电子公司和台积电......
现的解析度越高，芯片上安装的电晶体就越多。据悉，1台NA-EUV售价数亿欧元，预计年底前，ASML就会推出全球第1台高NA-EUV，并交付给英特尔。 目前，台积电与三星正在使用EUV设备......
紫外光微影（EUV）技术，产业界已打破前一代微影技术的尺寸限制，但产量仍是一个问题；EUV可使用较少层数的光罩，使成本达到理想的水准，但EUV功耗极大，为此，台积电已取得350W照明光源技术突破，将可支援5纳米......
三星研发下一代EUV关键技术,竞争台积电; 电子已开始开发先进的极端紫外线(EUV)pellicle，以缩小与制造竞争对手台积电的市场份额差距。 该公......
/5nm工艺，台积电的第二代7nm工艺和5nm工艺的量产均高度依赖于0.55数值孔径的EUV光刻机来进行生产。 目前英特尔、台积电、三星等头部的晶圆制造厂商正大力投资更先进的3nm、2nm技术，以满......
工艺的测试，以积累相关经验，后续将会被用于Intel 14A的量产。 报导指出，ASML已接获数十台High NA EUV光刻机的订单，其中大部分被英特尔预定，此外三星、台积电、SK海力士、美光......
客户兼具性价比的方案。 台积电位于南科的3纳米新厂已于今（2021）年夏天正式开厂运作，各家设备业者也紧锣密鼓进机，包括EUV曝光机等关键设备积极备战。以台积电公开揭露的信息来看，3纳米预计在2022年下......
年在日本北海道建立技术支持基地，并派遣约 50 名工程师协助在 Rapidus 的 2nm 芯片工厂中试生产线上搭建 EUV 光刻设备，提供调试、维护和检查方面的协助。 进展情况 台积电： 台积电......
可能面临订单削减，这导致该公司股价周三下跌。 ASML制造对于制造先进半导体至关重要的极紫外（EUV）光刻机。其客户包括台积电、三星......
现在排队至2026年。 此外，台积电将于今年年底从荷兰供应商ASML接收首批全球最先进的芯片制造机器，仅比美国竞争对手英特尔晚几个月。 高数值孔径极紫外(High NA EUV)光刻......
EUV设备争抢热度降温 ASML传首度遭砍单;受到半导体景气反转、存储器产业陷入困境与美锁中禁令等影响，加上近期台积电传出在台扩产计划将减速的重磅消息，全球半导体设备材料供应链如坐针毡。据台......
EUV设备争抢热度降温 ASML传首度遭砍单;受到半导体景气反转、存储器产业陷入困境与美锁中禁令等影响，加上近期台积电传出在台扩产计划将减速的重磅消息，全球半导体设备材料供应链如坐针毡。 据台......
制定的High-NA EUV路线图指出，台积电A14制程将于2026年上半年进行风险试产，最快2027年第三季度量产，量产初期仍主要采用ASML第三代标准型EUV设备NXE:3800E......

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