据韩国媒体报道，为缩小与对手台积电的市占差距，三星开始开发极紫外光（EUV）护膜。

光罩护膜是极紫外光（EUV）微影曝光时的关键零件，在光罩加装一层护膜，机器在上面绘制要刻上晶圆的电路，以免光罩受空气微尘或挥发性气体污染，同时减少光罩损坏率。目前，全球主要供应商是荷兰ASML、日本三井化学和韩国S&S Tech。

据悉，三星此前在 2021年的Foundry Forum就曾宣布要自研EUV护膜，并2023年初开发透光率达88%的EUV护膜。若按照三星计划进行，目前该公司EUV护膜应已量产，有助达成供应链多元化和稳定。不过三星要继续开发，因88%透光率护膜并不是品质最好的产品。

韩媒BusinessKorea报道，三星半导体研究所近期的招聘启事显示三星正积极开发透光率92%的EUV护膜。目前，市场市场研发透光率达90%以上EUV护膜主要为ASML和S&S Tech，后者于2021年成功开发透光率为90%的EUV护膜。

此外，三星也开始研究下一代High-NA EUV护膜，将采用新材料，也将与外部机构合作，开发评估碳纳米管和石墨烯制EUV护膜。同时三星也会推动自行开发的纳米石墨薄膜大量生产设施设计。

值得一提的是，台积电从2019年开始，就使用自行开发的EUV护膜，且2021年宣布产能比2019年提高20倍。市场人士表示，三星推动EUV护膜开发，就是为了追上台积电。

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