资讯
俄罗斯：2024年将制造350nm光刻机(2023-11-06)
俄罗斯：2024年将制造350nm光刻机;根据俄罗斯媒体报道指出，俄罗斯本身正在研发生产芯片的光刻机。其工业和贸易部副部长Vasily Shpak在接受媒体访问时指出，2024年将开始生产350纳米光刻机......
俄罗斯要建 10 台超级计算机，还要自研光刻机?(2023-10-11)
3.5 版本，甚至在许多情况下提供了优于 ChatGPT 4.0 的回答。
据俄罗斯cnews报道，圣彼得堡创建了一个光刻综合体，该综合体包括用于无掩模纳米光刻......
俄罗斯正在开发可替代光刻机的芯片制造工具？(2023-10-10)
于蚀刻生产无掩模芯片，这将有助于俄罗斯在微电子领域技术领域获得主动权。
该设备综合体包括用于无掩模纳米光刻和等离子体化学蚀刻的设备，其中一种工具的成本为500万卢布（约36.7万元人民币），另一......
成本几十万，俄罗斯也要自研“光刻机”？(2023-10-10)
成本几十万，俄罗斯也要自研“光刻机”？;据俄罗斯cnews报道，圣彼得堡创建了一个国内光刻综合体，在其中包括了一个在基板上进行无掩模图像采集和硅等离子化学蚀刻的设备。开发人员声称，第一台用于无掩模纳米光刻......
(2023.3.20)半导体周要闻-莫大康(2023-03-20)
再努力出货，供应客户是长江存储（复购）、合肥长鑫、燕东微及青島芯恩，每台约9000万人民币。上海微SWEE目前每年的出货能力是6-7台。
现阶段90纳米光刻机的另部件国产化率已达70-80%，基本......
(2023.3.20)半导体周要闻－莫大康(2023-03-22)
再努力出货，供应客户是长江存储（复购）、合肥长鑫、燕东微及青島芯恩，每台约9000万人民币。上海微SWEE目前每年的出货能力是6-7台。
现阶段90纳米光刻机的另部件国产化率已达70-80%，基本......
俄罗斯正在开发可替代光刻机的芯片制造工具(2023-10-10)
有助于在微电子领域技术领域获得主动权。本文引用地址：该设备综合体包括用于无掩模纳米光刻和等离子体化学蚀刻的设备，其中一种工具的成本为500万卢布（约36.7万元人民币），另一种工具的成本未知。
开发人员介绍，传统光刻......
国产光刻机工厂落地雄安？中国电子院澄清(2023-09-20)
国产光刻机工厂落地雄安？中国电子院澄清;近期，一则“7纳米光刻机实现国产化”消息在业界刷屏，消息指出清华大学EUV项目实现了光刻机国产化，并表示该项目已在雄安新区落地。
对此，9月18日中......
ASML登上全球半导体曝光设备龙头，两个转折点都与台积电有关(2021-11-19)
提高精准度。但相对研发困难度也会增加。台积电表示，光源还可以继续用193纳米，但换个介质试试，不再以空气当介质。于是ASML尝试以水为介质，光源通过水会产生折射，使193纳米光源实际效果可能比157......
纳米压印光刻，能让国产绕过 ASML 吗(2023-03-20)
）。
日本最寄望于纳米压印光刻技术，并试图靠它再次逆袭，日经新闻网也称，对比 EUV 光刻工艺，使用纳米压印光刻工艺制造芯片，能够降低将近四成制造成本和九成电量，铠侠 (KIOXIA）、佳能和大日本......
新技术加持，国产光刻机有望获得新突破(2016-12-12)
线宽，双线间距低至约50纳米的超分辨光刻。未来将这一技术工程化应用到光刻机上，能够突破光学衍射极限对投射电路尺寸的限制从而实现超分辨光刻，有望使国产集成电路光刻机......
一场“国产光刻机”的奇葩说(2022-12-29)
专家组都说了：‘该光刻机在365纳米光源波长下，单次曝光最高线宽分辨力达到22纳米。项目在原理上突破分辨力衍射极限，建立了一条高分辨、大面积的纳米光刻装备研发新路线，绕过国外相关知识产权壁垒。’这里......
佳能产日本首台半导体光刻机PPC-1发售50周年(2020-01-16)
佳能产日本首台半导体光刻机PPC-1发售50周年;佳能于1970年发售了日本首台半导体光刻机PPC-1，今年是佳能正式投入半导体光刻机领域50周年。半导......
成本几十万元，俄罗斯自研光刻机又突破了？(2023-10-11)
成本几十万元，俄罗斯自研光刻机又突破了？;假期期间，俄媒CNews报道称，圣彼得堡已开发出两个用于生产微电子纳米结构的装置，可能解决俄罗斯在微电子领域方向的主权问题，包括两个设备，一个是在基板上进行无掩模的光刻......
可绕过EUV量产5nm！佳能CEO：纳米压印设备无法卖到中国(2023-11-07)
芯片。
此前佳能一直专注于制造不太先进光刻机产品。直到2014年，佳能收购了Molecular Imprints股份有限公司，开始押注纳米压印技术。
近十年来，佳能一直在与日本光罩等半导体零组件制造商大日本......
集成电路产业规模达2500亿，上海：14nm先进工艺实现规模量产(2022-09-15)
联动”，先进工艺产能、核心芯片能级、关键设备和基础材料配套支撑能力不断提升，14纳米先进工艺规模实现量产，90纳米光刻机、5纳米刻蚀机、12英寸大硅片、国产CPU、5G芯片等实现突破。
吴金......
21年来首次！佳能扩产光刻机设备！(2022-10-08)
以低成本制成尖端微细电路的新一代设备。
目前，佳能公司与大日本印刷、铠侠正共同开发纳米压印设备，在学术界，日本研究者也已经演示了10纳米分辨率的纳米压印技术，据估计如使用纳米压印制造先进制程芯片，成本将比现有EUV光刻机......
日本佳能：我们能造2nm芯片！不需要ASML光刻机(2023-12-26)
日本佳能：我们能造2nm芯片！不需要ASML光刻机;日本光刻机大厂（Canon）在今年10月13日宣布推出可以制造尖端芯片的纳米压印（Nanoprinted lithography，NIL）设备......
EUV光刻机争夺战打响，国产光刻技术难题有何解？(2021-01-29)
我们会投入资金进行相关工艺的探索和开发。”
极紫外光刻产业：不仅只有EUV
光刻机供应商除ASML之外，还有日本厂商尼康和佳能。随着EUV变得越来越重要，ASML的优势正变得越来越明显。佳能和尼康仅能在“深紫外线”（DUV）光刻......
挑战ASML ？佳能推出纳米压印技术(2023-10-13)
实现最小线宽为10nm的电路图案，相当于2nm节点。
半导体制造领域，光刻机是昂贵且关键的设备，而纳米压印设备被多家日本半导体设备厂商视作替代光刻机的“下一代设备”，担负......
年产1100吨光刻材料，这个光刻胶项目即将投产(2021-03-23)
大UBC大学等高校科研机构合作建设了光刻材料研发实验室，成功研发出世界最先进的193纳米光刻胶单体并实现规模化生产，成为中国唯一的高端光刻胶单体材料研发和规模化生产企业。
此外，为助......
清华大学科研团队新成果：有望为EUV光刻光源提供新技术路线(2021-02-26)
成电路芯片制造中最复杂和关键的工艺步骤。光刻机的曝光分辨率与波长直接相关，半个多世纪以来，光刻机光源的波长不断缩小，芯片工业界公认的新一代主流光刻技术是采用波长为13.5纳米光源的EUV（极紫外光源）光刻......
存储市场吹响EUV光刻机集结号(2024-07-05)
生产导入EUV（极紫外光）设备，其DRAM芯片产品皆采用DUV（深紫外光）光刻机制造。
近期，媒体报道美光计划于2024年开始在其10纳米级的1γ制程技术上进行EUV光刻技术的试生产，预计......
佳能押注“纳米压印”技术，价格比 ASML EUV 光刻机“少一位数”(2023-11-06)
佳能押注“纳米压印”技术，价格比 ASML EUV 光刻机“少一位数”;11 月 6 日消息，日本佳能一直在投资纳米压印（Nano-imprint Lithography，NIL）这种......
ASML堵了EUV光刻机的路，但国产光刻机有3大新方向(2023-02-24)
压印技术，完全有替代EUV光刻机的可能性，目前国内也在研究这个技术。
不过研究最好的还是日本的佳能，佳能在NIL技术上专利全球最多，且已经有了量产机器，目前在改进精度，希望国产加油，也能够赶紧推出NIL光刻机......
日本尼康宣布全新ArF浸没式光刻机：精度小于2.1纳米(2023-12-11)
日本尼康宣布全新ArF浸没式光刻机：精度小于2.1纳米;
12月10日消息，宣布，将于2024年1月正式推出ArF 193纳米浸没式“NSR-S636E”，生产效率、套刻......
2025年2纳米晶圆厂全力加速建设(2025-02-06)
所将带来的经济效益，小池淳义表示，从开始量产的2027年至2036年期间，预估累计将达18万亿日元。
据悉，Rapidus将在2纳米晶圆厂中引入10台极紫外 （EUV） 光刻机。此前，媒体......
ASML正计划搬离荷兰？向外扩张转移业务成为最优解(2024-03-14)
10%，连耗电量也是传统EUV的10%。美光对外宣布将首先采用日本佳能的纳米压印NIL光刻机，进一步降低DRAM生产成本。一旦存储巨头美光获得成功，佳能的NIL光刻机将会迅速推广，届时ASML的EUV......
DUV光刻机遭进一步限制，中国仍有破局之路(2023-01-30)
DUV光刻机遭进一步限制，中国仍有破局之路;
【导读】针对近期荷兰、日本加入对华半导体设备出口管制的动向，知名行业分析师Dylan Patel认为，三方所达成的合作意向依然非常初步，本质......
佳能交付首台新型纳米压印光刻机(2024-09-29)
系统FPA-1200NZ2C，佳能表示这款设备可以实现最小线宽为14纳米的电路图案，相当于当前生产先进逻辑半导体用到的5纳米节点。
另据佳能透露，经由改良、期待未来NIL光刻机......
佳能光刻机现在是什么水平？探访进博会上的光学大厂(2022-11-16)
，压在晶圆上面就是多少纳米”；同时，“纳米压印的图案每一层都一次压印成形，不像传统光刻会用到SADP/SAQP（多重曝光）等复杂工艺”。
其特点在于制造成本更低，而且耗电量也远低于EUV光刻机......
近500亿元！EUV光刻机巨头挣翻了(2024-07-18)
近500亿元！EUV光刻机巨头挣翻了;7月17日，全球最大的光刻设备厂商阿斯麦（ASML）公布2024年第二季度业绩。根据数据，ASML Q2总净销售额 62.43亿欧元（约491亿元人民币），净利......
全球光刻机市场竞争加剧，ASML财报引发关注...(2024-10-26)
足对人工智能相关的高带宽内存(HBM)和第五代双倍数据速率随机存取存储器(DDR5)的需求。
佳能交付首台新型纳米压印光刻机
在光刻机市场竞争中，佳能的策略是专注于KrF和i-line，而不涉及EUV......
全球2nm晶圆厂建设加速！(2024-04-02)
于下半年开始试产，2025年二季度小量生产。
英特尔方面，去年年底ASML已将全球首台高数值孔径 High NA EUV EXE:5200交付给了英特尔，助力后者生产2nm芯片。随后英特尔开启了光刻机......
全球2nm晶圆厂建设加速！(2024-04-01)
后者生产2nm芯片。随后英特尔开启了光刻机调试工作，并且进展顺利。
今年2月英特尔和ASML技术支持团队联合宣布已打开EXE:5000光刻机的光源，并使光线到达抗蚀剂。业界表示，这是光刻机......
美国芯片大厂或将采用纳米压印光刻机！(2024-03-08)
美国芯片大厂或将采用纳米压印光刻机！;
业内消息，近日美国存储芯片大厂计划首先采用日本的纳米压印（NIL），旨在通过佳能的纳米压印光刻机设备来进一步降低生产DRAM存储......
绕过EUV光刻机技术！佳能开始销售5nm芯片生产设备(2023-10-16)
体设备厂佳能就与存储芯片大厂铠侠，以及光罩等半导体零组件制造商大日本印刷株式会社(DNP)合作，在日本三重县四日市的铠侠工厂内研发基于纳米压印(NIL)
的量产技术，可以不使用EUV光刻机，就能......
日本入局，全球2纳米制程争夺战升级！(2022-06-16)
媒报道，他将与光刻机巨头ASML进行接洽，争取EUV光刻机优先供货。据悉，3/2纳米工艺的实现高度依赖于ASML的新一代的EUV光刻机。业界消息显示，ASML在2021年出货的48台EUV设备中，三星......
2022国产芯片原厂图鉴(2022-12-13)
丽国厂商把持的工艺设备。据方正证券的电子首席分析师陈杭表示，目前光刻机大致分为两类：一是DUV深紫外线光刻机，其可以制造0.13微米到7纳米的芯片；二是EUV极紫外线光刻机，适合7nm到3nm以下芯片。目前DUV光刻机......
芯片先进制程之争：2nm战况激烈，1.8/1.4nm苗头显露(2023-12-22)
。Rapidus的目标是在2027年在日本国内量产2nm制程芯片，目前正寻求产业链的合作。
2nm关键设备EUV，厂商“抢疯了”
随着EUV光刻机在7nm以下制程的重要性日益增强，半导......
俄罗斯媒体：中国在微芯片竞争中逐渐赶上(2023-08-08)
俄罗斯媒体：中国在微芯片竞争中逐渐赶上;俄罗斯《消息报》8月7日文章，原题：重大成就：中国在微芯片竞争中逐渐赶上 据中国媒体报道，上海微电子有望年底前推出28纳米浸没式光刻机。尽管中国的新光刻机......
华虹宏力中紫外步进式光刻机项目中标结果公示(2022-07-21)
华虹宏力中紫外步进式光刻机项目中标结果公示;7月18日，中国招标投标公共服务平台官网公示，上海华虹宏力半导体制造有限公司（以下简称“华虹宏力”）中紫外步进式光刻机项目中标结果。标的物为中紫外步进式光刻机......
Rapidus本月接收EUV光刻机，对2nm量产有信心(2024-12-16)
Rapidus本月接收EUV光刻机，对2nm量产有信心;日本经济新闻的报道，日本新创半导体制造商Rapidus的会长东哲郎，在本月11日于SEMICON Japan会议的开幕式上致词时表示，对该......
欧洲IMEC 也参与，日本 Rapidus 宣布推进2nm半导体生产(2023-01-11)
各半导体厂家依然会继续“争抢”光刻机。据说，由于很难采购到光刻机，三星电子领导人在2020年秋季奔赴ASML谈判后，于2021年成功引进了15台。
近日，一家由日本开发银行、伊藤......
尼康起诉ASML侵权，曾经光刻巨头的最后挣扎？(2017-04-25)
头争霸的格局。值得注意的是2016年Q1的ASML销售额中，有35%销往中国，除了三星在西安的超大型3D 10纳米级NAND芯片厂扩产外 和intel在大连的芯片厂升级外，中国本土厂商也买到了ASML的光刻机......
约1340亿元半导体项目敲定；东芝一工厂突发停电(2022-09-21)
芯片能级、关键设备和基础材料配套支撑能力不断提升，14纳米先进工艺规模实现量产，90纳米光刻机、5纳米刻蚀机、12英寸大硅片、国产CPU、5G芯片等实现突破。
吴金城指出，上海......
晶圆代工厂“头疼”？阿斯麦Hyper-NA EUV售价或超7.24亿美元(2024-07-02)
晶圆代工厂“头疼”？阿斯麦Hyper-NA EUV售价或超7.24亿美元;近日，据朝鲜日报报道，阿斯麦（ASML）将针对1纳米以下制程，计划在2030年推出更先进Hyper-NA EUV光刻机......
华中科技大学机械学院刘世元教授团队成功研发计算光刻EDA软件(2022-11-30 14:23)
学科负责人。通过3年多的奋斗，他组建了SMEE第一个控制工程实验室，解决了扫描投影光刻机中掩模台、工件台、曝光剂量等同步控制的技术难题。“20年前参加国家的重大专项，100纳米分辨率光刻机的研制，回到学校以后就一直在从事计算光刻......
ASML发布2020年财报：净利润达36亿欧元(2021-01-21)
亿欧元，毛利率为48.6%，净利润达36亿欧元。
EUV光刻机是当前顶尖芯片制造的关键设备，主要用于生产7纳米及更先进制程的芯片。2020年，ASML共销售31台EUV，较前一年增加5台，创收45......
俄罗斯绕过制裁 为35年前的光刻机续命(2024-09-10)
俄罗斯绕过制裁 为35年前的光刻机续命;
9月9日消息，据国外媒体报道称，俄罗斯近日绕过了制裁，为本国存在了35年的续命。
报道中提到，尽管......
相关企业
;哈尔滨绿安仕环保科技有限公司;;哈尔滨绿安仕环保科技有限公司,绿安仕环保. 哈尔滨绿安仕环保科技有限公司,绿安仕环保. 公司代理进口优质的日本纳米光触媒系列产品，将日本经过多年研究研制成功的纳米
;宁波市海曙区威力三星贸易有限公司;;欧、日、美、德等二手进口工控拆机配件、半导体行业设备及配件、机械行业设备等，如尼康光刻机NSR1505-G4备品备件，莱宝真空泵、真空阀、UV紫外线光源机、日本
;苏州汶颢芯片科技有限公司;;苏州汶颢芯片科技有限公司主营微流控芯片、光刻胶、光刻机、注射泵、烘 箱、干燥箱、培养箱、烧结箱、消毒箱、试验箱、水槽、油槽、马弗炉、振（震）筛机、破碎机等。公司
;上海方晟光电科技有限公司;;上海方晟光电科技有限公司是一家专业从事纳米光学技术开发的高科技公司。其产品应用于汽车仪表、医疗器械、广告超薄灯箱、会展展示、居家装潢、婚纱影楼等行业。s
;潮安县庵埠镇盈泰贸易商行;;广东潮安庵埠镇盈泰贸易商行座落于中国著名包装生产基地庵埠镇，自设工场生产PET纳米光片,采用1.8米宽的大型真空镀铝设备电镀,达到纳米级镀铝层,基材
;怡合瑞丰科技发展有限公司;;注册于香港，代理美国ABM公司的光刻机及其他半导体设备。可以为客户提供先进的凸点制造等封装工艺与设备
范围的招商、推广、服务工作。 奥因公司是专业从事纳米光催化材料及其应用技术、系列产品的研发、生产及营销，集产、学、研为一体的高新技术企业。 公司突破传统研究思路，坚持自主创新，研究出采用逐步推进的化学修饰法使纳米光
中型体视显微镜、SX系列学生显微镜、NK系列连续变倍生物显微镜、光学元器件、塑料非球面镜片及各种激光镜头，产品均通过美国和欧洲的安全认证,远销美国、巴西、荷兰、德国和日本等二十多个国家和地区。2002年与上海交大联合开发各种系列纳米光
表面刻字|机械刻字|标码机,金属打字机|气动标记打印机|标刻设备|标刻机，金属电印打标机,电腐蚀打标机,电化学打标机，电蚀刻打标机，金属印字机,金属打字机，高速激光打标机,激光标记机,激光标刻机,激光刻
;上海百事佳激光技术有限公司;;上海百事佳激光技术有限公司主营激光加工设备的设计和制造。主体产品有激光刻字机、激光焊接机、激光划片机和激光打孔机。公司的技术人员主要来自研究所和大学。公司