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2025间在其上面进行研发，并有望在2025到2026年间进行大规模量产。据悉，High-NA光刻机可以在关键层上做更小的CD。 据悉，High-NA光刻机可以在关键层上做更小的CD，但是......
为Hyper-NA EUV有望在这个十年结束后成为现实，即客户将在2024到2025间在其上面进行研发，并有望在2025到2026年间进行大规模量产。据悉，High-NA光刻机可以......
佳能可能解决了这些问题。 纳米压印是一种微纳加工技术，它采用传统机械模具微复型原理，能够代替传统且复杂的光学光刻技术。简单而言，像盖章一样造芯片，把栅极长度只有几纳米的电路刻在印章上，再将印章盖在橡皮泥上，得到......
位于荷兰费尔德霍芬的ASML在周一发布的一份声明中表示，荷兰政府最近部分撤销了其NXT：2050i和NXT：2100i光刻系统在2023年装运的许可证。 周二，ASML股价下跌2.6%。 ASML销售光刻机，这是......
ASML产品路线图曝光，EUV光刻机出货已超200台; 【导读】资深半导体行业分析师Scotten Jones日前综合SEMICON West等渠道信息，综述了ASML高端......
系统FPA-1200NZ2C，佳能表示这款设备可以实现最小线宽为14纳米的电路图案，相当于当前生产先进逻辑半导体用到的5纳米节点。 另据佳能透露，经由改良、期待未来NIL光刻机可......
部分高端DUV出口许可被提前吊销！ASML：少数中国客户受影响; 当地时间2024年1月1日，光刻机大厂发布声明称，荷兰政府最近已经部分吊销了2023年发货NXT:2050i和NXT:2100i......
出，2023年NXT：2050i、NXT：2100i光刻系统的出货许可证突然被撤销，不过这没有太多可以担心的地方，因为2023年基本已交付了中国大陆客户预付的积压订单，至于2023年之后是否能继续出口DUV......
ASML两款光刻机出口许可被撤销;1月2日，全球龙头在官网发布声明称，荷兰政府最近撤销了此前颁发给其2023年发货NXT:2050i和NXT:2100i的部分出口许可证，这将......
丨佳能官网 总结来说，EUV光刻机之所以成为现在的王者，是因为它本身可以投入大规模生产，而且成本和良率极佳。虽然我们有其它光刻路径能走，但唯一比较接近希望的也只有纳米压印光刻。科学还在不断向前发展，纳米......
我们提到了已经具备了4纳米的先进封装技术，而在先进封装光刻机上，上海微电子已经做到了自研自产，所以在小芯片这个全新的赛道上，我们已经做到了全部的国产化，而且属于全球的领先水平。 不得不说，这一切太快了，标准......
在本次官方禁令范围内。该机器可支持中芯国际、华虹等国内半导体来生产 28nm 以上的成熟工艺。 据悉，该光刻机是 ASML 现有效率比较低的光刻机，支持 NA 1.35 光学器件、分辨率可以达到 <38......
ASML声明：2050、2100光刻机出口许可证被部分撤销;1月2日消息，日前，荷兰光刻机巨头ASML在其官网发布声明，称部分光刻机出口许可证被撤销。 根据声明，荷兰政府最近部分撤销了2023年......
日本尼康宣布全新ArF浸没式光刻机：精度小于2.1纳米; 12月10日消息，宣布，将于2024年1月正式推出ArF 193纳米浸没式“NSR-S636E”，生产效率、套刻......
创建“各种微电子设备运行”所需的纳米结构。该工艺的第一阶段使用基础掩模光刻机，第二阶段则使用用于硅等离子化学蚀刻的机器。 第二阶段采用第一阶段中创建的基材图案，俄媒称其目的是直接用于形成纳米......
代替。可以帮助芯片制造商继续向7nm及以下更先进制程工艺推进的同时，进一步提升效率和降低曝光成本。 目前，EUV光刻机可以支持芯片制造商将芯片制程推进到3nm制程左右，但是......
ASML声明：2050、2100光刻机出口许可证被部分撤销;1月2日消息，日前，荷兰巨头在其官网发布声明，称部分出口许可证被撤销。本文引用地址：根据声明，荷兰政府最近部分撤销了2023年NXT......
相信如果这个设备能够成功量产的话，将具有革新意义，压倒性地降低逻辑电路生产成本”。 “这个设备目前还在做量产评价，目前十几纳米已经成功实现。”“我们相信将来是能够做到的。” 3.面对半导体光刻机供不应求的市场现状，佳能......
上涨 19.4%。 此外，ASML 第二季度的毛利率为 51.3%，净利润 19 亿欧元，二季度净预订额为 45 亿欧元，其中 16 亿欧元为 EUV 光刻机。ASML 预计三季度净销售额在 65~70......
外），但它又贵又难造，除了全力研发，国产有没有其它的路可以走？本文引用地址：事实上，光刻技术本身存在多种路线，离产业最近的，当属纳米压印光刻（Nano-Imprint Lithography，简称 NIL......
出口管制名单新增了 TWINSCAN NXT:2000i、NXT:2050i 及 NXT:2100i 等深紫外光（DUV）浸入式光刻设备。这一系列设备最高可支持 5 nm 工艺，如台积电就使用 SAQP 和氩......
特尔PowerVia与晶体管开发分开的方案更为复杂，在面积缩放层面更为有效。 此前ASML首次财务官Roger Dassen在接受采访时表示，High-NA EUV光刻机可以......
限制 DUV，ASML 出口新规或将于近日实施！; 业内消息，荷兰政府的半导体新规预计最快会在下周开始实施，届时 的 DUV 光刻机将被限制出口。 2023 年 3 月，荷兰......
美国芯片管控引ASML吐槽：倒逼中国厂商造出更先进光刻机;快科技6月7日消息，近日，公司CEO公开表示，美国严厉的芯片管控规定，只会倒逼中国厂商进步更快。本文引用地址： CEO表示，多年来，公司......
一直在与日本光罩等半导体零组件制造商大日本印刷株式会社(DNP)和存储器芯片制造商铠侠(Kioxia)合作研发纳米压印工艺。该技术可以不使用EUV光刻机，就能使制程技术推进到5nm。 佳能表示，这套......
可能会禁运的是浸没式193nm光刻机，目前全球仅有ASML和尼康两家公司生产。 而浸没式光刻机可以被用于16nm至7nm先进制程芯片的制造，也被业界广泛应用在45nm及以下的成熟制程当中。因此，如果一旦浸没式光刻机......
日本佳能：我们能造2nm芯片！不需要ASML光刻机;日本光刻机大厂（Canon）在今年10月13日宣布推出可以制造尖端芯片的纳米压印（Nanoprinted lithography，NIL）设备......
规模量产得等到刚刚宣布的Intel 14A节点上，时间预计2025-2026年左右 。 该光刻机可以实现8nm的分辨率，而现有低NA光刻机单次曝光只能做到13nm，同时晶体管密度几乎可以增加3倍。 大家......
技术装备推广应用指导目录（2024 年版）》（以下简称“《目录》”）。 该《目录》列表中提到和氟化氪光刻机氟化氩(ArF)光刻机。其中氟化氪光刻机光源248纳米，分辨率≤110nm，套刻≤25nm......
ASML堵了EUV光刻机的路，但国产光刻机有3大新方向;众所周知，当前全球只有一家能够生产，甚至可以说很长一段时间内，全球也只有能够生产，不会有第二家。本文引用地址：原因在于把的路堵住了，这条......
俄罗斯正在开发可替代光刻机的芯片制造工具？;近期，俄罗斯国际新闻通讯社报道，俄罗斯在开发可以替代光刻机的芯片制造工具。 据悉，圣彼得堡理工大学的研究人员开发出了一种“光刻复合体”，可用......
的另一个原因是，DUV光刻机对美国技术依赖较低。DUV光刻机使用的是深紫外光源，而全球能够提供深紫外光源技术的供应商有三家，分别是美国Cymer、日本Gigaphoton和中国的科益虹源。 也就是说，DUV光刻机可以......
ASML高端DUV光刻机可以出口：还能支持7nm;对于ASML光刻机接下来怎么出口的问题，现在官方终于给出了答案。 ASML在最新的声明中指出，这些新的出口管制措施侧重于先进的芯片制造技术，包括最先进的沉积设备和浸润式光刻......
线宽，双线间距低至约50纳米的超分辨光刻。未来将这一技术工程化应用到光刻机上，能够突破光学衍射极限对投射电路尺寸的限制从而实现超分辨光刻，有望使国产集成电路光刻机......
将于明年年底推出初始版本，量产型号将于2024年底或2025年初推出。 相比DUV浸没式光刻机采用193nm波长的深紫外光，EUV光刻系统中使用的极紫外光波长仅为13.5nm。EUV单次曝光就可以替代DUV的多......
EUV没有直接联系的工序数也会增加。 国内设备厂芯源微日前表示，公司前道涂胶显影机与国际光刻机联机的技术问题已经攻克并通过验证，可以与包括ASML、佳能等国际品牌，以及上海微电子（SMEE）的光刻机......
ASML加大中国市场开拓：7nm高端DUV光刻机可出口; 4月18日消息，据台系设备厂商透露，近期由于客户大砍资本支出、缩减订单，最重要是大客户台积电也大砍逾4成EUV设备......
ASML高端DUV光刻机可以出口：支持7nm; ASML在最新的声明中指出，这些新的出口管制措施侧重于先进的芯片制造技术，包括最先进的沉积设备和浸润式光刻系统。 ASML强调，新的出口管制措施并不针对所有浸润式光刻......
生产导入EUV（极紫外光）设备，其DRAM芯片产品皆采用DUV（深紫外光）光刻机制造。 近期，媒体报道美光计划于2024年开始在其10纳米级的1γ制程技术上进行EUV光刻技术的试生产，预计......
芯片的制造设备引进韩国，重点是与这家荷兰公司建立合作伙伴关系，以便它可以更好的利用下一代光刻机设备。 ASML将在未来几个月内推出能制造2纳米节点芯片的设备。其最新的High-NA EUV光刻机......
据时代的需求在不断扩大应用范围。今后，佳能将继续扩充半导体光刻机的产品阵容和可选功能，以支持各种尺寸和材料的晶圆以及下一代封装工艺。此外，在尖端领域为满足电路图案进一步微细化的需求，佳能也在致力于推进纳米......
内存生产设备，将产能提升到每月7万片晶圆。 在这些设备中，最重要的就是EUV光刻机了，三星从14nm级别的内存芯片开始引入EUV光刻机，EUV光刻机可以减少多重曝光工艺，提供工艺精度，从而可以......
称如果该项目继续推进，中芯国际、华虹等中国半导体企业可以继续使用荷兰的设备生产 28 纳米及更成熟工艺的芯片。 消息称该特别版 DUV 光刻机基于 Twinscan NXT: 1980Di 光刻系统改造，而......
国大陆市场占有率达到85%。此外，公司LED系列光刻机全球市占率55%。不止如此，根据官方信息，上海微电子的600系列光刻机可用于IC前道制造，满足IC前道制造90nm、110nm、280nm关键层和非关键层的光刻......
量测速度和准确度，可以满足3纳米制程的要求。与以前的系统相比，主要的增强功能包括更快的工作台和更快的波长切换，这可以实现高精度的套准测量和使用多个波长的设备匹配。 ASML预计，下一代EUV光刻机......
美国芯片大厂或将采用纳米压印光刻机！; 业内消息，近日美国存储芯片大厂计划首先采用日本的纳米压印（NIL），旨在通过佳能的纳米压印光刻机设备来进一步降低生产DRAM存储......
足对人工智能相关的高带宽内存(HBM)和第五代双倍数据速率随机存取存储器(DDR5)的需求。 佳能交付首台新型纳米压印光刻机 在光刻机市场竞争中，佳能的策略是专注于KrF和i-line，而不涉及EUV......
俄罗斯：2024年将制造350nm光刻机;根据俄罗斯媒体报道指出，俄罗斯本身正在研发生产芯片的光刻机。其工业和贸易部副部长Vasily Shpak在接受媒体访问时指出，2024年将开始生产350纳米光刻机......
，与发布GPU芯片这类常规操作相比，显然英伟达宣布跨界进军芯片制造更易引发业界关注。 英伟达cuLitho旨在将计算光刻提速并降低功耗，助力2纳米以及更先进制程芯片的生产。英伟达透露，cuLitho......
装置，截止2022年10月，RAS科学家已经创建了第一个设备演示样品。通过该设备，可以在基板上获得分辨率高达 7 nm 的单个图像。 当时的报道还指出，IPF RAS计划在六年内打造出国产7纳米光刻机......

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