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研发客服据业内消息，近日荷兰巨头 发布了今年二季度的营收数据报表，其中净销售额为 69 亿欧元，超过了之前预期的 66.9 亿欧元，同比上涨 19.4%。
此外，ASML 第二季度的毛利率为 51.3%，净利润 19 亿欧元，二季度净预订额为 45 亿欧元，其中 16 亿欧元为 EUV 光刻机。ASML 预计三季度净销售额在 65~70 亿欧元之间，毛利率约为 50%，预计年净销售额同比增长 30%。
ASML 总裁兼首席执行官 Peter·Wennink 认为由于宏观经济持续存在不确定性导致不同细分市场的客户目前更加谨慎，因此预计市场稍后会复苏。此外复苏斜率的形状仍不清楚，但大约 380 亿欧元的积压订单为 ASML 应对这些短期不确定性提供了良好的基础。
此外 Wennink 还预计第三季度净销售额将在 65~70 亿欧元之间，毛利率约为 50%。ASML 预计研发成本约为 10 亿欧元，SG&A 成本约为 2.85 亿欧元。由于 DUV 收入强劲，尽管由于不确定性增加，ASML 预计 2023 年将依旧强劲增长，与 2022 年同比净销售额将增长至 30%，毛利率将略有改善。
之前我们报道荷兰出口新规于 9 月 1 日后生效，届时 ASML 将不得不向政府申请出口许可证才能出口先进的浸润式 DUV 系统(即TWINSCANNXT：2000i及后续推出的浸润式光刻系统)。
具体来说，出口管制名单新增了 TWINSCAN NXT:2000i、NXT:2050i 及 NXT:2100i 等浸入式 DUV，这些设备最高可支持 5nm 工艺，台积电就使用 SAQP 和氩氟浸没 (ArFi) 光刻实现了 7 nm 量产。
ASML 在售的浸没式光刻机主要有三大型号：TWINSCAN NXT:2050i、TWINSCAN NXT:2000i 和TWINSCAN NXT:1980Di。TWINSCAN NXT:1980Di 的分辨率可以达到≤38nm，每小时可以生产275片晶圆。
尽管其分辨率在 38nm 左右，但是通过多重曝光理论上依然可以支持 7nm 左右，只是这样步骤更为复杂、成本更高，良率也会随之变差，据说台积电的第一代7nm工艺也是基于 NXT:1980Di 实现的。
目前在业内 NXT:1980Di 更多还是被用于 ≤45nm以下成熟制程的生产，2018 年长江存储和华力二期(华虹六厂)订购的 NXT:1980Di 成功进厂安装，支持了两家晶圆厂的生产。
2018 年下半年 ASML 正式出货的更为先进的浸润式 NXT:2000i 通过多重曝光则可以支持到 7nm 及 5nm 制程工艺需求，同年 12 月 NXT2000i 首次进入中国，正式搬入 SK海力士位于无锡的工厂。
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