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俄罗斯:2024年将制造350nm光刻机(2023-11-06)
俄罗斯:2024年将制造350nm光刻机;根据俄罗斯媒体报道指出,俄罗斯本身正在研发生产芯片的光刻机。其工业和贸易部副部长Vasily Shpak在接受媒体访问时指出,2024年将开始生产350纳米光刻机......
俄罗斯要建 10 台超级计算机,还要自研光刻机?(2023-10-11)
3.5 版本,甚至在许多情况下提供了优于 ChatGPT 4.0 的回答。
据俄罗斯cnews报道,圣彼得堡创建了一个光刻综合体,该综合体包括用于无掩模纳米光刻......
新技术加持,国产光刻机有望获得新突破(2016-12-12)
线宽,双线间距低至约50纳米的超分辨光刻。未来将这一技术工程化应用到光刻机上,能够突破光学衍射极限对投射电路尺寸的限制从而实现超分辨光刻,有望使国产集成电路光刻机......
俄罗斯正在开发可替代光刻机的芯片制造工具?(2023-10-10)
于蚀刻生产无掩模芯片,这将有助于俄罗斯在微电子领域技术领域获得主动权。
该设备综合体包括用于无掩模纳米光刻和等离子体化学蚀刻的设备,其中一种工具的成本为500万卢布(约36.7万元人民币),另一......
(2023.3.20)半导体周要闻-莫大康(2023-03-20)
再努力出货,供应客户是长江存储(复购)、合肥长鑫、燕东微及青島芯恩,每台约9000万人民币。上海微SWEE目前每年的出货能力是6-7台。
现阶段90纳米光刻机的另部件国产化率已达70-80%,基本......
(2023.3.20)半导体周要闻-莫大康(2023-03-22)
再努力出货,供应客户是长江存储(复购)、合肥长鑫、燕东微及青島芯恩,每台约9000万人民币。上海微SWEE目前每年的出货能力是6-7台。
现阶段90纳米光刻机的另部件国产化率已达70-80%,基本......
成本几十万,俄罗斯也要自研“光刻机”?(2023-10-10)
成本几十万,俄罗斯也要自研“光刻机”?;据俄罗斯cnews报道,圣彼得堡创建了一个国内光刻综合体,在其中包括了一个在基板上进行无掩模图像采集和硅等离子化学蚀刻的设备。开发人员声称,第一台用于无掩模纳米光刻......
俄罗斯正在开发可替代光刻机的芯片制造工具(2023-10-10)
有助于在微电子领域技术领域获得主动权。本文引用地址:该设备综合体包括用于无掩模纳米光刻和等离子体化学蚀刻的设备,其中一种工具的成本为500万卢布(约36.7万元人民币),另一种工具的成本未知。
开发人员介绍,传统光刻......
国产光刻机工厂落地雄安?中国电子院澄清(2023-09-20)
国产光刻机工厂落地雄安?中国电子院澄清;近期,一则“7纳米光刻机实现国产化”消息在业界刷屏,消息指出清华大学EUV项目实现了光刻机国产化,并表示该项目已在雄安新区落地。
对此,9月18日中......
挑战ASML ?佳能推出纳米压印技术(2023-10-13)
右将该设备用于3D NAND量产。
国内已有多家上市公司积极布局该技术,这些公司集中在消费电子行业,近期在互动易平台回复纳米压印相关业务的上市公司包括美迪凯、利和兴、水晶光电、汇创达、歌尔股份、苏大维格等。
......
集成电路产业规模达2500亿,上海:14nm先进工艺实现规模量产(2022-09-15)
联动”,先进工艺产能、核心芯片能级、关键设备和基础材料配套支撑能力不断提升,14纳米先进工艺规模实现量产,90纳米光刻机、5纳米刻蚀机、12英寸大硅片、国产CPU、5G芯片等实现突破。
吴金......
最近申请的一项光刻装置专利到底是什么呢?公开图纸,我们也造不出来?(2022-11-28)
装置基础上进行了优化,进而达到匀光的目的。
EUV光刻机的中文名字就叫极紫外光刻,它以波长为10-14纳米的极紫外光作为光源的光刻技术,可使曝光波长一下子降到14纳米以下的特征尺寸。
但问题是EUV光刻机......
纳米压印光刻,能让国产绕过 ASML 吗(2023-03-20)
)。
日本最寄望于纳米压印光刻技术,并试图靠它再次逆袭,日经新闻网也称,对比 EUV 光刻工艺,使用纳米压印光刻工艺制造芯片,能够降低将近四成制造成本和九成电量,铠侠 (KIOXIA)、佳能和大日本印刷等公司......
年产1100吨光刻材料,这个光刻胶项目即将投产(2021-03-23)
大UBC大学等高校科研机构合作建设了光刻材料研发实验室,成功研发出世界最先进的193纳米光刻胶单体并实现规模化生产,成为中国唯一的高端光刻胶单体材料研发和规模化生产企业。
此外,为助......
国产光刻机巨头,更新上市进展?(2023-11-13)
国产光刻机巨头,更新上市进展?;近日,上海微电子装备(集团)股份有限公司(SMEE,简称 “上海微电子”)IPO动态消息震动产业界,概念股乘势而起,那么实际情况究竟如何?
并未......
一场“国产光刻机”的奇葩说(2022-12-29)
专家组都说了:‘该光刻机在365纳米光源波长下,单次曝光最高线宽分辨力达到22纳米。项目在原理上突破分辨力衍射极限,建立了一条高分辨、大面积的纳米光刻装备研发新路线,绕过国外相关知识产权壁垒。’这里......
成本几十万元,俄罗斯自研光刻机又突破了?(2023-10-11)
成本几十万元,俄罗斯自研光刻机又突破了?;假期期间,俄媒CNews报道称,圣彼得堡已开发出两个用于生产微电子纳米结构的装置,可能解决俄罗斯在微电子领域方向的主权问题,包括两个设备,一个是在基板上进行无掩模的光刻......
Q1 全球半导体设备厂商营收排行:AMAT 第一,光刻机巨头 ASML 第四(2022-08-15)
Q1 全球半导体设备厂商营收排行:AMAT 第一,光刻机巨头 ASML 第四;CINNO Research 最新报告显示,2022 年第一季度全球上市公司半导体设备业务营收排名 TOP10 营收......
370亿项目搬入光刻机(2024-03-12)
370亿项目搬入光刻机;3月11日,广州增芯科技有限公司12英寸先进智能传感器及特色工艺晶圆制造量产线项目(以下简称“增芯项目”)迎来工厂最核心设备--光刻机搬入,标志......
佳能交付首台新型纳米压印光刻机(2024-09-29)
系统FPA-1200NZ2C,佳能表示这款设备可以实现最小线宽为14纳米的电路图案,相当于当前生产先进逻辑半导体用到的5纳米节点。
另据佳能透露,经由改良、期待未来NIL光刻机......
清华大学科研团队新成果:有望为EUV光刻光源提供新技术路线(2021-02-26)
成电路芯片制造中最复杂和关键的工艺步骤。光刻机的曝光分辨率与波长直接相关,半个多世纪以来,光刻机光源的波长不断缩小,芯片工业界公认的新一代主流光刻技术是采用波长为13.5纳米光源的EUV(极紫外光源)光刻......
可绕过EUV量产5nm!佳能CEO:纳米压印设备无法卖到中国(2023-11-07)
可绕过EUV量产5nm!佳能CEO:纳米压印设备无法卖到中国;
11月6日消息,据彭博社报道,佳能公司正计划将其新的基于“纳米压印”技术的芯片制造设备的价格定为ASML的EUV光刻机的1/10......
ASML登上全球半导体曝光设备龙头,两个转折点都与台积电有关(2021-11-19)
提高精准度。但相对研发困难度也会增加。台积电表示,光源还可以继续用193纳米,但换个介质试试,不再以空气当介质。于是ASML尝试以水为介质,光源通过水会产生折射,使193纳米光源实际效果可能比157......
佳能押注“纳米压印”技术,价格比 ASML EUV 光刻机“少一位数”(2023-11-06)
价值上亿美元。这种设备是几十年大量研究和投资的产物,对于大规模生产速度快、能耗低的先进芯片至关重要。
但只有少数现金充裕的公司有能力购买极紫外光刻机。这给佳能最新上市的纳米压印芯片制造设备带来了希望。
自今......
绕过EUV光刻机技术!佳能开始销售5nm芯片生产设备(2023-10-16)
绕过EUV光刻机技术!佳能开始销售5nm芯片生产设备;
10月14日消息,光刻机大厂佳能(Canon)公司近日通过新闻稿宣布,其已经开始销售基于“纳米印刷”(Nanoprinted......
莫大康:7nm的关键,EUV禁运怎么办?(2017-08-28)
危言耸听。但是也不必担心,因为只有工艺制程达到7纳米及以下时才会使用EUV光刻机。
对于这样的现状,首先心态要放正确。西方继续压制中国半导体业的进步,这个政策在相当长时间内还会持续下去。然而......
美国与荷兰日本达成“最强”对华限制协议?将倒逼中国自研半导体设备(2023-02-02)
的技术难度和成本高筑进入壁垒。
中国在不断的研究新技术,以期在光刻机上有突破,从而实现先进光刻机的独立自主,最终摆脱对ASML的依赖。
如今上海微电子已经成功研发出第一台国产28纳米DUV光刻机,且已......
ASML完成第100台EUV光刻机出货(2021-01-06)
纳米及更先进制程,必须借助光刻设备转印半导体电路图案。追逐先进制程的芯片制造厂商中,台积电和三星均已引入光刻机。目前,台积电和三星已进入5nm工艺的量产阶段,台积电代工的产品包括苹果A14、M1、华为......
大基金2021年下半年投资转变,有的放矢,逐渐进入全面投资阶段(2021-10-21)
大基金2021年下半年投资转变,有的放矢,逐渐进入全面投资阶段;大基金作为行业的风向标,其投资方向转变颇受市场关注。今年以来,大基金多次减持上市公司股份,至今年十月合计减持14家上市公司,金额......
芯碁微装8.25亿元定增申请获上交所受理(2022-11-04)
芯碁微装8.25亿元定增申请获上交所受理;近日,芯碁微装发布公告称,公司于2022年10月28 日收到上交所出具的《关于受理合肥芯碁微电子装备股份有限公司科创板上市公司发行证券申请的通知》(上证......
全球光刻机市场竞争加剧,ASML财报引发关注...(2024-10-26)
氪(KrF)以及i线三种波长的光刻机,扩展产品线并追赶竞争对手。
10月22日尼康宣布,公司正在研发一款面向半导体先进封装工艺应用、“兼具高分辨率及高生产性能”的1.0微米(即1000纳米)分辨率数字光刻机......
上海新阳再购得一台二手光刻机!(2021-03-12)
胶全品类的国产化进程,减少上市公司业绩压力,通过参股子公司芯刻微进行ArF湿法光刻胶的研发,并与协议各方承诺未来通过向公司进行股权转让或技术转让等方式避免可能的同业竞争。
对于......
蒋尚义回归后首次亮相;华天科技募资51亿发力这几大项目(2021-01-24)
KrF光刻机的协议,用于制造先进的硅基氮化镓功率器件。
资料显示,英诺赛科科技有限公司成立于2015年12月,是一家致力于第三代半导体硅基氮化镓芯片制造的企业。公司成功建成投产全球首条200mm硅基......
约1340亿元半导体项目敲定;东芝一工厂突发停电(2022-09-21)
芯片能级、关键设备和基础材料配套支撑能力不断提升,14纳米先进工艺规模实现量产,90纳米光刻机、5纳米刻蚀机、12英寸大硅片、国产CPU、5G芯片等实现突破。
吴金城指出,上海......
DUV光刻机遭进一步限制,中国仍有破局之路(2023-01-30)
光刻机。
如果目标是阻止中国扩大其14纳米工艺技术大规模量产,那么必须阻止所有可以实现节点上最小金属间距64纳米的工具,理论上,连KrF光刻机......
俄罗斯绕过制裁 为35年前的光刻机续命(2024-09-10)
俄罗斯绕过制裁 为35年前的光刻机续命;
9月9日消息,据国外媒体报道称,俄罗斯近日绕过了制裁,为本国存在了35年的续命。
报道中提到,尽管......
2023年最新国产半导体设备厂商名录(2023-02-21)
年2月1日,近100家半导体产业相关公司发布了2022年业绩预告,其中半数以上企业实现了净利润同比增长,且多为设备和材料类的半导体上市公司。增速大于100%的公司中就有拓荆科技、芯源微、华海清科、长川......
日本佳能:我们能造2nm芯片!不需要ASML光刻机(2023-12-26)
洗富士夫此前曾表示,该公司的纳米压印设备的“价格将比ASML的EUV光刻机低一位数(即仅有10%)”。
在客户方面,佳能表示目前收到了半导体厂商、大学、研究所的很多咨询,以期待作为EUV设备的替代产品,使纳米......
ASML正计划搬离荷兰?向外扩张转移业务成为最优解(2024-03-14)
技术领域一直处于垄断地位,而佳能纳米压印光刻技术的出现,有望打破这一局面,使芯片制造更加多元化,从而推动整个行业的发展。
ASML公司作为光刻机领域的龙头企业,面临着前所未有的竞争压力。新技......
四家半导体大厂重磅合作!计算光刻技术从幕后到台前(2023-03-23)
,与发布GPU芯片这类常规操作相比,显然英伟达宣布跨界进军芯片制造更易引发业界关注。
英伟达cuLitho旨在将计算光刻提速并降低功耗,助力2纳米以及更先进制程芯片的生产。英伟达透露,cuLitho......
中国半导体厂商再引入ASML光刻机!(2022-11-28)
中国半导体厂商再引入ASML光刻机!;近日,上海鼎泰匠芯科技有限公司(以下简称“鼎泰匠芯”)洁净室交付,首台ASML光刻机设备搬入。
鼎泰......
ASML堵了EUV光刻机的路,但国产光刻机有3大新方向(2023-02-24)
的效果。
第一条路是电子束光刻——用电子束在硅片上进行雕刻。
这条路的优点是精细,分辨率高,比EUV光刻机还要高,美国公司Zyvex Labs生产出了这样的光刻机,实现0.768nm芯片的光刻,但缺......
英伟达、台积电、ASML、新思科技官宣合作,剑指计算光刻技术(2023-03-27)
成像与芯片设计差距,从而使光刻效果达到预期状态。
据光刻机龙头ASML介绍,计算光刻将算法模型与光刻机、测试晶圆的数据相结合,从而生成一个和最终曝光图案完全不同的掩模版设计,但这正是ASML想要达到的,因为......
英特尔拿到首台2nm光刻机 重回领先地位?(2023-12-28)
月,英特尔便抢先向阿斯麦下定TWINSCAN EXE:5200,直接将下一代光刻机上市作为“超车”的冲锋号,但因为时间上等不及,只能改用已有的0.33 NA NXE:3600D/3800E叠加......
机构:Q3全球半导体设备厂商营收TOP10出炉!(2022-11-30)
机构:Q3全球半导体设备厂商营收TOP10出炉!;
【导读】CINNO Research日前发布了2022年第三季度全球上市公司半导体设备制造商业务营收排名,其中......
“中国芯片标准”发布第6天,国产4纳米芯片传来好消息,这太快了(2022-12-22)
我们提到了已经具备了4纳米的先进封装技术,而在先进封装光刻机上,上海微电子已经做到了自研自产,所以在小芯片这个全新的赛道上,我们已经做到了全部的国产化,而且属于全球的领先水平。
不得不说,这一切太快了,标准......
ASML 一季度财报解读,EUV未出货订单累积到21台(2017-04-20)
能负担起最新制程研发的基本只剩四家:GlobalFoundries,Intel,三星和台积电。这几家公司采购新一代光刻机的计划对整个行业的推动都极为重要,接下来几代制程工艺极紫外光刻机是核心,Intel,三星,台积电都曾对ASML投资......
佳能发售面向后道工艺的3D技术i线半导体光刻机新产品(2022-12-07)
品特征〉
1.通过新投射光学系统和照明光学系统的提升,实现0.8μm的高解像力和拼接曝光超大视场
为了减少投射光学系统的像差,新产品首次将应用于前道工艺光刻机的校正非球面玻璃搭载在后道工艺的光刻机上......
佳能发售面向后道工艺的3D技术i线半导体光刻机新产品(2022-12-07)
向半导体芯片制造的前道工艺和后道工艺中,在不断扩充搭载先进封装技术的半导体光刻机产品阵营,持续为半导体设备的技术创新做出贡献。
※1. 使用了i线(水银灯波长 365nm)光源的半导体光刻设备。1nm(纳米)是10亿分......
EUV光刻机争夺战打响,国产光刻技术难题有何解?(2021-01-29)
EUV没有直接联系的工序数也会增加。
国内设备厂芯源微日前表示,公司前道涂胶显影机与国际光刻机联机的技术问题已经攻克并通过验证,可以与包括ASML、佳能等国际品牌,以及上海微电子(SMEE)的光刻机......
相关企业
;哈尔滨绿安仕环保科技有限公司;;哈尔滨绿安仕环保科技有限公司,绿安仕环保. 哈尔滨绿安仕环保科技有限公司,绿安仕环保. 公司代理进口优质的日本纳米光触媒系列产品,将日本经过多年研究研制成功的纳米
;苏州汶颢芯片科技有限公司;;苏州汶颢芯片科技有限公司主营微流控芯片、光刻胶、光刻机、注射泵、烘 箱、干燥箱、培养箱、烧结箱、消毒箱、试验箱、水槽、油槽、马弗炉、振(震)筛机、破碎机等。公司
;上海方晟光电科技有限公司;;上海方晟光电科技有限公司是一家专业从事纳米光学技术开发的高科技公司。其产品应用于汽车仪表、医疗器械、广告超薄灯箱、会展展示、居家装潢、婚纱影楼等行业。s
;vimicro;;nasdaq上市公司
;蓝微电子;;上市公司
;厦门钨业;;上市公司
;以限国际;;上市公司
;怡合瑞丰科技发展有限公司;;注册于香港,代理美国ABM公司的光刻机及其他半导体设备。可以为客户提供先进的凸点制造等封装工艺与设备
范围的招商、推广、服务工作。 奥因公司是专业从事纳米光催化材料及其应用技术、系列产品的研发、生产及营销,集产、学、研为一体的高新技术企业。 公司突破传统研究思路,坚持自主创新,研究出采用逐步推进的化学修饰法使纳米光
;UT斯达康;;美国上市公司