近期，上海新阳的光刻机设备采购进展显著。数天前，上海新阳公告披露，其采购的ASML-1400光刻机设备顺利交付并已进入合作方场地；如今，公告再披露其旗下参股子公司购得ASML XT 1900 Gi型二手光刻机一台。

3月12日，上海新阳发布关于采购购ASML XT 1900 Gi型光刻机的公告。公告显示，近日，公司旗下参股子公司上海芯刻微材料技术有限责任公司（以下简称“芯刻微”）委托盛吉盛（宁波）半导体材料有限公司（以下简称“盛吉盛”）代理投标，成功中标，购得ASML XT 1900 Gi型二手光刻机一台，该设备可用于研发分辨率达28nm的高端光刻胶。

公告指出，3月11日，芯刻微公司向盛吉盛支付10%首期货款购入该光刻机，剩余90%六个月内付清。后续公司将启动设备的运输及相关安装调试等工作。

图片来源：上海新阳公告截图

据了解，芯刻微原是上海新阳的全资子公司，2020年8月，上海新阳与与芯刻微、上海超成材料科技有限公司（以下简称“超成科技”）签署《增资及股权转让协议》。增资及股权转让完成后，上海新阳持有芯刻微38%的股权，超成科技持有芯刻微62%的股权，超成科技是上海新阳的控股股东新加坡新阳旗下全资子公司。

上述增资及股权转让完成后，未来芯刻微将仅进行ArF湿法光刻胶项目的研发，所有与ArF干法光刻胶相关的资产、人员、合同权利义务等将转移至上海新阳。上海新阳将继续投入资金进行ArF干法光刻胶的研发及产业化项目。

上海新阳表示，集成电路制造用ArF湿法光刻胶产品技术要求高、投资需求大，公司为加速集成电路制造用高端光刻胶全品类的国产化进程，减少上市公司业绩压力，通过参股子公司芯刻微进行ArF湿法光刻胶的研发，并与协议各方承诺未来通过向公司进行股权转让或技术转让等方式避免可能的同业竞争。

对于这次芯刻微购得ASML XT 1900 Gi型二手光刻机设备，上海新阳在公告中指出，公司作为国内集成电路制造关键工艺材料供应商，自立项进行光刻胶项目研发以来，将突破集成电路高端光刻胶国外垄断，实现集成电路高端光刻胶材料的国产化作为发展目标，在ArF干法、KrF厚膜及I线光刻胶方面已有技术与产品的突破。

通过子公司芯刻微开展的ArF湿法光刻胶项目研发也已引进了核心技术专家团队，为ArF湿法光刻胶项目的开发提供了技术保障，现公司采购的ASML浸没式光刻机设备是对公司ArF湿法光刻胶技术先进性的设备保障，对加快公司集成电路制造用光刻胶产品研发项目进度有积极影响，有利于进一步提升公司光刻胶产品的核心竞争力，加速落实公司发展战略，提高公司抗风险能力和可持续发展能力。

不过，公告亦提示称，本次购买的光刻机尚须经过运输、装机、调试及投入相关配套设施，若以上环节出现工作疏漏或失误则存在造成所购买的光刻机投入使用的过程较长甚至无法投入使用的风险。光刻胶产品在集成电路材料中技术难度大，质量要求最高，开发周期长， 且核心技术及原材料几乎被国外厂商所垄断。因此，存在着研发失败和研发计划滞后的风险。

封面图片来源：拍信网