资讯

EUV光刻机工作相当于用波长只有头发直径一万分之一的极紫外光,在晶圆上“雕刻”电路,最后将让指甲盖大小的芯片包含上百亿个晶体管,这种设备工艺展现了人类科技发展的顶级水平。荷兰ASML公司......
使制程技术推进到5nm。 佳能表示,这套生产设备的工作原理和行业领导者 ASML 的光刻机不同,其并不利用光学图像投影的原理将集成电路的微观结构转移到硅晶圆上,而是更类似于印刷技术,直接......
一直在与日本光罩等半导体零组件制造商大日本印刷株式会社(DNP)和存储器芯片制造商铠侠(Kioxia)合作研发纳米压印工艺。该技术可以不使用EUV光刻机,就能使制程技术推进到5nm。 佳能表示,这套生产设备的工作原理......
佳能纳米压印光刻设备或应用于3D NAND工艺制造;据英国《金融时报》报道,佳能表示,首批客户将于今年或明年收到第一台NIL设备,不过这将用于试运行。 报道称,这些新设备的工作原理......
家组成的专利保护联盟手里。 ASML的EVU芯片光刻机工作流程: 在这台光刻机中,每秒在真空环境中,从底部容器流出5万滴......
国产光刻机工厂落地雄安?中国电子院澄清;近期,一则“7纳米光刻机实现国产化”消息在业界刷屏,消息指出清华大学EUV项目实现了光刻机国产化,并表示该项目已在雄安新区落地。 对此,9月18日中......
。 如此高的能耗主要是源于EUV光刻系统的工作原理,高能激光脉以每秒数万次的频率蒸发微小的锡液滴(温度为 500,000?C),以形成发出13.5纳米波长光光的等离子体。这一......
霸道至极!传美国对ASML施压:不准向中国厂商提供光刻机工具维修服务!;作者:电子创新网张国斌 据外媒报道两位知情人士表示,美国总统乔·拜登政府计划下周向荷兰施压,阻止......
ASML堵了EUV光刻机的路,但国产光刻机有3大新方向;众所周知,当前全球只有一家能够生产,甚至可以说很长一段时间内,全球也只有能够生产,不会有第二家。本文引用地址:原因在于把的路堵住了,这条......
,可以穿透普通的材料,工作环境要求不高,摆脱EUV光源需要真空环境、光刻能量不足的羁绊。 与动辄几千万美元的主流光刻机乃至一亿美元售价的EUV光刻机相比,超分辨光刻......
,CNews称,莫斯科电子技术学院 (MIET)承接贸工部开发制造芯片的光刻机项目,该项目由俄罗斯政府首期投资6.7亿卢布资金(约合5100万元人民币)。 研发光刻机计划达到EUV级别,但技术原理......
的5nm制程的先进半导体制造设备市场,则由ASML的EUV光刻机所垄断,单台价格约1.5亿美元。 对于接下来更为先进的及以下制程的芯片,ASML也推出了成本更为高昂的High-NA EUV光刻机,单台......
。 在过去的几年,ASML已经推出过几个版本的EUV光刻机,但目前来说,这些光刻机都是只能用于研究,ASML也将其光源功率共80瓦提升到123瓦特。而工作效率也提升到60~85wph。 业界......
NA EUV光刻机。此外,Christophe Fouque还确认,英特尔的第二套High NA EUV光刻机已经组装完成。 Christophe Fouquet表示,High NA EUV光刻机......
了28nm光刻机样机,EUV光刻机正在紧张攻关,已取得重大进展。 长春光机所克服了反射镜技术问题,双工作台精度达到5nm,EUV光源系统有重大突破,2025年,国产芯片可达70%资产率,国产EUV光刻机......
场竞争中,ASML的设备和技术占绝对领先地位,占据全球市场82.1%:90nm以下节点高端光刻机(如ArF、ArFi、EUV光刻3种高端机型)95%以上属ASML设备。 但是当前,宏观经济形势不稳定,如高......
半导体大厂持续加码EUV光刻机;随着半导体大厂先进制程芯片竞争日益升温,EUV光刻机成为市场“香饽饽”,引发业界关注。 目前,英特尔率先拿到了ASML High-NA EUV光刻机设备,并于近期宣布该台光刻机......
EUV光刻机“忙疯了”;据市场消息,目前,ASML High NA EUV光刻机仅有两台,如此限量版的EUV关键设备必然无法满足市场对先进制程芯片的需求,为此ASML布局步伐又迈一步。 当地......
全球只有5家客户 ASML今年将出货60台EUV光刻机; 随着工艺进入到5nm节点以内,对EUV的需求也不断增长,目前全球只有ASML一家公司能够生产EUV光刻机,今年......
的升级就势必与分辨率水平相关联。 光刻机演进过程是随着光源改进和工艺创新而不断发展的。EUV 作为 7nm 及更先进制程芯片的基础,采用了更加成熟化的极紫外光源,同时还采用了立体化的全数控光刻......
EUV光刻机“忙疯了”;据市场消息,目前,ASML High NA 仅有两台,如此限量版的关键设备必然无法满足市场对先进制程芯片的需求,为此ASML布局步伐又迈一步。本文引用地址:当地时间6月3日......
在纽约州立大学奥尔巴尼纳米技术中心建设首个基于美国《芯片与科学法案》的旗舰研发站点。 该站点名为“EUV加速器”,将重点推进最先进的EUV光刻技术的研发工作,并将获得8.25亿美元美国联邦资金支持。同时,该加速器将汇集整个生态系统的NSTC成员......
美国俄勒冈州希尔斯伯勒的英特尔半导体技术研发基地完成了业界首台High-NA EUV光刻机组装工作。随后开始在Fab D1X进行校准步骤,为未来工艺路线图的生产做好准备。 2011年英特尔首发了FinFET工艺,22nm FinFET工艺......
ASML下代EUV光刻机年底问世:1nm工艺; 据报道,在工艺进入7nm节点之后,EUV光刻机是少不了的关键设备,目前只有能制造,单台售价10亿人民币,今年底还会迎来下一代EUV光刻机,价格......
2021年出货42台EUV光刻机,ASML应对缺芯将有大招?;1月19日,全球光刻机巨头ASML发布2021年第四季度及全年财报。 2021年业绩强劲,柏林......
俄罗斯宣布自研EUV光刻机:比ASML更便宜、更容易制造!; 12月19日消息,据报道,俄罗斯已公布自主开发EUV(极紫外光刻)光刻机的路线图,目标是比ASML的光刻机更便宜、更容......
晶圆代工厂“头疼”?阿斯麦Hyper-NA EUV售价或超7.24亿美元;近日,据朝鲜日报报道,阿斯麦(ASML)将针对1纳米以下制程,计划在2030年推出更先进Hyper-NA EUV光刻机......
ASML第2代EUV光刻机开发传瓶颈,神队友救援力拼原时程问世;极紫外光刻机EUV)目前是先进半导体制程中,不论是DRAM或晶圆代工生产过程中,进一步提升效能的关键之一。而目前荷兰商ASML则是......
EUV光刻机缺货问题要持续3年,瓶颈居然是...;细致到可以深究成熟工艺的光掩模(photomask)短缺问题——据说也是近期才发现的,尤其是28nm及以上工艺的产能开始受到掩模短缺问题的影响。不过......
ASML首台High-NA EUV光刻机或将于年底前交付;据路透社报导,全球光刻机大厂ASML CEO Peter Wennink表示,尽管有些供应商遇到了一些阻碍,但今......
量测速度和准确度,可以满足3纳米制程的要求。与以前的系统相比,主要的增强功能包括更快的工作台和更快的波长切换,这可以实现高精度的套准测量和使用多个波长的设备匹配。 ASML预计,下一代EUV光刻机......
三星拟新设至少10台EUV光刻机:展露要当世界第一的野心;最新消息显示,尽管全球经济将放缓,但仍计划扩大DRAM与晶圆代工的晶圆产能,明年在其P3晶圆厂新设至少10台极紫外光刻设备(),用于......
存储市场吹响EUV光刻机集结号;AI浪潮下,存储市场DRAM芯片正朝着更小、更快、更好的方向发展,EUV光刻机担当重任。三大DRAM原厂中有两家已经引进EUV光刻机生产DRAM芯片,美光......
25亿一台!英特尔搞定2台史上最先进光刻机安装:展示内部画面不怕偷师; 10月10日消息,ASML新任CEO近日公开表示,两台High NA EUV光刻机(单台设备的售价约为3.5亿美......
ASML今年发货第一台高NA EUV光刻机:成本逼近30亿元;EUV光刻技术的推进相当困难,光刻机龙头ASML也是举步维艰,一点点改进。ASML宣布,将在今年底发货第一台支持高NA(数值孔径)的......
ASML首席技术官:明年交付首台High-NA EUV光刻机;据外媒Bits & Chips报道,ASML首席技术官Martin van den Brink日前受访时表示,目前......
出的 A14P 制程中引入 High NA EUV 光刻技术。 ▲ ASML EXE:5000 High NA EUV 光刻机 台积电目前正式公布的最先进制程为 A16,该工艺将支持背面供电网络(BSPDN......
日本成功引入首台ASML EUV光刻机......
品相关供应商,其中200家是关键供应商。所以,ASML能否顺利快速提升产能,还将很大程度上取决于供应链合作伙伴能否持续跟进。 业界资料显示,当下全球仅有阿斯麦(ASML)能制造出 EUV光刻机。过去......
又一台天价光刻机,即将出货!; 据韩媒最新报道,三星电子正准备在2025年初引入其首款High NA EUV(极紫外)光刻机设备,这或......
布林克(Martin van den Brink)近日称,这家光刻机制造商考虑推出一个通用 EUV 光刻平台。 范登布林克在本月 21~22 日举行的 2024 年度 imec ITF World 技术......
ASML新一代EUV光刻机,一台售价近27亿元;据路透社报道,半导体设备巨头ASML正在着手研发价值4亿美元(约合人民币26.75亿元)的新旗舰光刻机,有望2023年上半年完成原型机,最早2025......
下一代EUV光刻机什么样?ASML来解答; 【导读】近日,ASML发布了2022年第四季度及全年财报,并且披露了未来的技术发展路线,其中ASML在下一代EUV光刻机——High NA......
芯片之后,表示将目标定在2nm芯片。三星计划2025年实现应用在移动领域2nm工艺的量产,于2026和2027分别扩展到HPC及汽车电子。据媒体9月报道,三星正准备确保下一代EUV光刻机High-NA......
10亿一台的EUV光刻机卖不动了?ASML下调预期;作为半导体制造中的核心装备之一,光刻机至关重要,7nm以下工艺所需的EUV光刻机只有ASML公司能生产,售价达到10亿以上,不过今年EUV的势......
下一代EUV光刻机什么样?ASML来解答;近日,ASML发布了2022年第四季度及全年财报,并且披露了未来的技术发展路线,其中ASML在下一代EUV光刻机——High NA EUV光刻机......
支持 Intel 14A、10A 两代工艺的 ASML High NA EUV 光刻机上,继英特尔今年 4 月完成全球首台商用 High NA EUV 光刻机的组装后,英特尔的第二台 High NA......
两代工艺的 ASML High NA EUV 光刻机上,继英特尔今年 4 月完成全球首台商用 High NA EUV 光刻机的组装后,英特尔的第二台 High NA EUV 光刻机也即将运抵俄勒冈州研发晶圆厂。......
首套高数值孔径(High-NA)极紫外线(EUV)光刻机-EXE:5000。这代表着台积电对这项先进半导体技术不断变化的立场,从一开始持谨慎,到后来全面发展采用,为的......
下代EUV光刻机要来了 炬光科技:是ASML核心供应商的重要供应商;1月25日消息,针对投资提问ASML的新一代光刻机EXE:5200是否使用了炬光科技的产品,炬光科技回应称公司是ASML公司......

相关企业

;青岛美伦尔环境科技发展有限公司;;人造雾系统工作原理 人造雾系统工作原理:主要是利用造雾机组将水经过耐高压管线有专业喷头产生1-15微米的水滴,由此激发的雾滴能长时间悬浮在空气中,单一
;苏州汶颢芯片科技有限公司;;苏州汶颢芯片科技有限公司主营微流控芯片、光刻胶、光刻机、注射泵、烘 箱、干燥箱、培养箱、烧结箱、消毒箱、试验箱、水槽、油槽、马弗炉、振(震)筛机、破碎机等。公司
;北京太阳能热水器工程安装公司;;太阳能热水器工程就是利用太阳光热能量转换原理为我们提供热水的工程装置。   太阳能热水器工作原理
;怡合瑞丰科技发展有限公司;;注册于香港,代理美国ABM公司的光刻机及其他半导体设备。可以为客户提供先进的凸点制造等封装工艺与设备
刻字机等。激光雕刻机主要有激光雕刻机、激光切割机、激光裁床、激光打标机、激光刀模切割机、激光雕版机、激光刻章机等。每一种机器我们都有不同尺寸的机型可供选择。 公司产品涵盖了木工、石材、广告、工艺礼品、建筑
打标机,流水号,日期,编号,,电脑雕刻机, 金属标牌参数刻字机,标牌打标机,标牌压印机,铭牌雕刻机,铝合金标牌雕刻机, 电动雕刻笔|电动刻字笔|金属刻字|刻字机|金属雕刻机|激光刻字|激光打
订保养合约。 公司负责人曹立圳于1992年开始从事SMT/AI工作,最初工作于电子厂任设备工程师,1995年至2002年在WKK工作,任YAMAHA设备服务高级工程师,对YAMAHA各型设备的工作原理、性能、生产
;泰州市宏达科教器械厂;;内窥镜消毒储藏柜的工作原理: 挂镜橱:内镜消毒完毕后的存放关系到内镜下次使用的卫生和它的工作寿命,本厂所研 发的挂镜橱配有挂架,橱内装有紫外线消毒灯,底部设置有干燥剂储藏工作
头,钢字头冲字机,激光金属打标机,激光刻字笔,激光刻字机,简便式标签打印机,金属标牌雕刻机,金属标牌刻字机,金属表面印字,刻字,气动标记打印机,气动标记机,气动打号机,气动金属打号机,上海 打标机,手持
;上海威慷机械电子有限公司;;高剪切工作原理   在电动机的驱动下,高速旋转的转子叶片将物料从容器底部吸入精密的工作腔,这时强大的离心力将物料径向甩入转子与定子之间的精密狭窄的工作腔。同时