技术咨询
代买器件
商务客服
研发客服据韩媒最新报道，三星电子正准备在2025年初引入其首款High NA EUV（极紫外）光刻机设备，这或许标志着这家三星电子在先进半导体制造领域取得重大进步。
ASML独家提供的极紫外光刻机对于2nm以下更先进制程的工艺至关重要，三星此前曾设定了到2027年实现1.4nm工艺商业化的目标，行业人士表示，三星将加快其1nm芯片商业化的开发工作。
据悉，每台High NA EUV光刻机售价约3.5亿美元（约合人民币25亿元），远高于ASML标准EUV系列的1.8亿~2亿美元。High NA系统具有8mm分辨率，晶体管密度是Low NA系统的三倍。具体而言，High NA EUV技术超越了现有的EUV系统，能够创建更精细的电路设计，使其适用于运行在5nm以下的芯片，如CPU和GPU等系统半导体。
虽然标准EUV对5nm及以下工艺有效，但High NA EUV可以进一步实现2nm以下的电路尺寸，从而提高性能并减少曝光次数，从而降低生产成本。比利时微电子研究中心IMEC与ASML合作的最新研究表明，一次High NA EUV曝光可以产生完整的逻辑和存储电路。
据报道，三星首款High NA EUV设备——ASML的EXE:5000型号预计将于2025年初上市。鉴于半导体设备安装的复杂性（通常涉及漫长的测试阶段），EXE:5000预计将于2025年第二季度投入运营。
据悉，在全球范围内，3纳米以下制程的竞争者目前仅有台积电、英特尔和三星三家晶圆代工厂。他们之间的竞争正在升温，加速竞相获得2nm以下工艺的High NA EUV设备。英特尔于2023年12月率先获得该设备，台积电于2024年第三季度紧随其后。
封面图片来源：拍信网
文章来源于:全球半导体观察 原文链接
本站所有转载文章系出于传递更多信息之目的，且明确注明来源，不希望被转载的媒体或个人可与我们联系，我们将立即进行删除处理。
相关文章
光刻机龙头ASML公布2022全年财报佳绩，预计2023年净销售额同比增长超25%(2023-01-30)
光刻机龙头ASML公布2022全年财报佳绩，预计2023年净销售额同比增长超25%;当地时间，2023年1月25日，荷兰光刻机龙头ASML发布了2022年第四季度和全年业绩。2022年第......
ASML发布2020年财报：净利润达36亿欧元(2021-01-21)
ASML发布2020年财报：净利润达36亿欧元;1月20日，光刻机龙头ASML公布2020年全年财报。2020年，ASML共售出258台光刻系统，包括236台新系统和22台二手系统。总营收达140......
三家光刻机龙头企业积极回应半导体市场需求(2022-08-23)
三家光刻机龙头企业积极回应半导体市场需求;当前半导体产业链分化现象日益明显，消费电子市场芯片亟待"去库存"，然而车用芯片等市场仍旧供不应求，上游半导体设备供应紧俏引发关注，其中光刻机......
传华为徐直军跳槽国产光刻机大厂？多方表态(2021-02-01)
资委批准，徐直军将被调到上海微电子担任董事长兼总经理”。
资料显示，上海微电子是国产光刻机的龙头企业，成立于2002年，大股东是上海电气。
截图自上海微电子官网
风口浪尖的华为，再度曝出重大人事变动，势必......
最近申请的一项光刻装置专利到底是什么呢？公开图纸，我们也造不出来？(2022-11-28)
上游最为核心设备分别为光学镜头、光学光源和双工件台。
上海微电子装备股份有限公司曾披露，将在2021-2022年交付第一台28nm工艺的国产的沉浸式光刻机。但是，到现在也没人见过这台国产光刻机，主要......
国产光刻机获重大突破，ASML如何应对？(2023-10-19)
国产光刻机获重大突破，ASML如何应对？; 中国科学院院士、中国科学院党组书记白春礼于4月13日访问长春光机所，调研EUV光源等技术，高度肯定光电关键核心技术攻关成果。国产光刻机......
精彩呈现，半导体材料厂商在这个春天百花齐放(2021-03-23)
了国内许多优秀的半导体企业，尤其是在半导体材料方面，不仅有沪硅产业这样的龙头，也有南大光电和晶瑞股份这样知名的国产光刻胶企业。
接下来，
跟随小编一起逛一逛那些
参加2021 SEMICON......
光刻机龙头ASML公布2022全年财报佳绩，预计2023年净销售额同比增长超25(2023-01-30)
光刻机龙头ASML公布2022全年财报佳绩，预计2023年净销售额同比增长超25;当地时间，2023年1月25日，荷兰龙头发布了2022年第四季度和全年业绩。2022年第四季度的净销售额为64亿欧......
新技术加持，国产光刻机有望获得新突破(2016-12-12)
新技术加持，国产光刻机有望获得新突破;
光刻机是集成电路制造的关键核心设备，为了在更小的物理空间集成更多的电子元件，单个电路的物理尺寸越来越小，主流光刻机在硅片上投射的光刻电路分辨率达到50......
光刻胶国产化的6道坎(2021-05-06)
来验证产品性能，因为光刻机价格昂贵，买了一台光刻机相当于请了一个吞金兽，对于国产光刻胶企业来说，压力倍增。
再者，由于光刻胶的应用环境复杂且多样，有时甚至需要针对每个工厂进行特别定制，很难......