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必须在真空环境中传输，机械精确度要达到皮秒级，光学透镜平整度达到皮米级。 中国开展了光刻机自主研发，2000年开始，我国团队参观ASML，遭到嘲笑。2007年上海微电子制造出首台国产光刻机，ASML态度......
），包括干涉光刻、激光直写光刻、基于空间光调节器的光刻技术等。 但是这些技术为什么只用来造掩模版呢？因为这些技术"慢"到没朋友，有得必有失，虽然有了不用掩模的优点，但生产效率低是致命的。如果按照这个速度生产......
芯片制造工艺黑科技再现，那么中国是如何在限制下实现芯片自给自足？; 在日本研发成功无需光刻机的NIL工艺之后，近日美国一家企业Zyvex Labs 也宣布推出无需的，并且......
，在历史中胜出  为什么EUV光刻这么被大家所关注？对一颗芯片来说，光刻是制造过程中最重要、最复杂也最昂贵的工艺步骤，其成本占总生产成本30%以上，占据将近50%的生产周期。不止如此，卡中国......
对此坚决反对。 这些年，中国每年都会进口光刻机。在此背景下，荷兰的新措施肯定将对中国的芯片产业发展造成影响，但不至于很严重。首先，中国生产的大量芯片属于成熟制程，不一定需要特别先进的光刻机；其次，即使需要生产......
备受关注的汽车电子嘛 最最重要的一点是，物联网是个重要的方向啊，千万不要错过。 另外云计算也是不能错过的哟，后年吧带动的服务器和存储需求，是杠杠的，所以大家明白了为什么中国......
制造方面 生产方面，国内芯片工艺相对落后，光刻机被卡着脖子，高端的芯片生产不了。这里的芯片类型包括但不限于CPU、内存、Flash存储等，低端的可以做一些，高端的基本没戏。设计CPU已经很烧钱了，造CPU......
14nm及以下的芯片制造设备。美媒传出消息，称正在向荷兰方面施压，要求ASML停止向中国芯片企业出售用于成熟芯片制程的DUV等主流需求光刻机。不过，这次ASML反应不一样了，直接表示了拒绝态度。 全球......
半导体行业取得突破的背景下实施的。据了解，2022年夏天，中芯国际已经掌握7纳米芯片的生产工艺，这让中国成为全球半导体行业的领军者之一。 但中国目前的主要问题不是芯片本身，而是生产芯片的工具，它更具垄断性，其关键是光刻机......
成为最重要的三大前道设备之一，所以并不是有了光刻机就能造芯片，光刻只是芯片制造工艺流程的中的一个，还需要其他6大前道工艺设备的支撑，其重要程度与光刻机同等重要。误区二：中国最紧迫的是造出光刻机？误区......
电和荷兰贸易部发言人均未公开回应。 无独有偶，此前台积电也有类似的言论，意思就是为了不让国内取得最先进光刻机，也有机制立即摧毁芯片生产线。 台积电是ASML的重要客户，世界上最先进的芯片约有90%产自中国台湾。这一次，怎么看，美国......
需要耐心和坚定。」张宏说，他还指出，芯片生产不是一个国家能够独立完成的事情，中国应该寻求与主张全球化的国家合作。 最先进的 EUV 光刻机拥有超过 45 万个零部件，超过 F1 赛车的零部件数量 20 多倍。即便......
一场“国产光刻机”的奇葩说; 关于“中国研制成功世界首台分辨力最高紫外超分辨光刻装备”的新闻已经过去好几天了，新闻的热度与这天气一样，慢慢转凉。笔者......
, 这个光刻机大概可以量产28nm工艺的芯片。 除了光刻机，其他集成电路生产设备还包括硅外延炉、湿法清洗机、氧化炉、涂胶显影机、高能离子注入机、低能离子注入机、等离子干法刻蚀机、特征......
ASML光刻机搬入，中国首座12英寸车规级功率半导体自动化晶圆制造中心即将投入生产；与此同时，ASML也通过实际行动表明了自己不放弃中国市场的态度！ ▲首台设备搬入 造芯：预计......
光刻机已经落伍？硅光子将成中美新战场！; 半导体是人类科技发展的重要基础，也是中美科技博弈的重要领域。欧美凭借先进的一直掌握着半导体的话事权，但随着摩尔定律逼近极限，光刻机......
日起正式实行。荷兰作为全球最大的光刻机生产国6月30日宣布，进一步收紧光刻机出口政策，高端DUV光刻机9月1日起将限制向中国出口。 陈凤英在接受记者采访时表示，国际上很多稀有的关键金属都是由中国......
EUV极紫外光刻机，型号“Twinscan EXE:5000”。 NA数值孔径是光刻机光学系统的重要指标，直接决定了光刻的实际分辨率，以及最高能达到的工艺节点。 ASML现有最先进的EUV光刻机是NEX......
国产光刻机工厂落地雄安？中国电子院澄清;近期，一则“7纳米光刻机实现国产化”消息在业界刷屏，消息指出清华大学EUV项目实现了光刻机国产化，并表示该项目已在雄安新区落地。 对此，9月18日中国......
是制造过程中最重要、最复杂也最昂贵的工艺步骤，其成本占总生产成本30%以上，占据将近50%的生产周期。卡中国脖子的设备有很多，光刻机是国产化率成长最慢的一个。虽然如此，无论资本市场，还是自媒体，现在......
ASML下代EUV光刻机年底问世：1nm工艺; 据报道，在工艺进入7nm节点之后，EUV光刻机是少不了的关键设备，目前只有能制造，单台售价10亿人民币，今年底还会迎来下一代EUV光刻机，价格......
ASML CEO：中国厂商不可能造出7nm及以下先进光刻机;8月21日消息，据国外媒体报道称，ASML 首席执行官克里斯托夫-福凯接受采访时表示，世界需要中国生产的'传统芯片'，它们......
定律一直在发展，但到了7nm之后，这种规律就被打破了，比如5nm和3nm的发展速度就会大大降低，这也是为什么摩尔定律已经失效的原因。然而，比利时的IMEC却公布了一份最新的芯片生产技术路线图，上面写着2036年的......
俄罗斯已经有相应的规划了。 首先是自研光刻机。 光刻机是制造芯片的主要工具，有了光刻机才能将芯片图案曝光在晶圆表面。可即便是90nm制程的光刻机，也不是一朝一夕就能积累核心技术的。更何......
美国与荷兰日本达成“最强”对华限制协议？将倒逼中国自研半导体设备;据彭博社报道，、已经同意加入针对的半导体制裁。三国将组建反华技术封锁网络：或将全面禁止向出口DUV光刻机和配件、技术服务；将全面禁止出口半导体生产......
赛科首席执行官孙在亨介绍，英诺赛科于今年第二季度引进ASML光刻机，改善了光刻工艺窗口，进一步提高了产能和产线良率，随后在短短三个月内实现试生产，最终在10月进入正式量产阶段。 孙在亨表示，通过......
俄罗斯首台光刻机，真的制造成功了;2022年，俄罗斯科学院下诺夫哥罗德应用物理研究所 (IPF RAS)  宣布，正在开发俄罗斯首套半导体光刻设备，并对外夸下海口：这套光刻机能够使用7nm生产......
，最终将失去在该行业的竞争优势。中方是否理解荷方的这种担忧？ 毛宁：为什么正常地和中国开展贸易就会遭到损失？为什么会处于这样的境地？是不是因为某些国家把经贸问题作为工具和武器，向荷......
厂出现一起光刻胶规格不符导致大量晶圆报废的事件，直接导致10万片16nm、12nm工艺产品报废，最终致使台积电Q1营收减少 5.5 亿美元，毛利率减少 2.6个百分点。这也是为什么光刻......
大UBC大学等高校科研机构合作建设了光刻材料研发实验室，成功研发出世界最先进的193纳米光刻胶单体并实现规模化生产，成为中国唯一的高端光刻胶单体材料研发和规模化生产企业。 此外，为助......
提升了芯片制造的精度和效率。 据了解，Twinscan NXE：3800E光刻机在性能上实现了质的飞跃。与之前的型号相比，它的投影镜头具有0.33的数值孔径，大大提高了光刻的分辨率和精度。同时，新系......
设备的专利。 国际电子商情从“中国专利公布公告”上查询得知，该专利于2016年9月9日在中国专利局申请，申请人是华为技术有限公司，发明人为弗洛里安·朗诺斯。换言之，华为早在4年前就开始着手光刻机......
降低将近四成制造成本和九成电量。 目前唯一可靠的制造5纳米及以下芯片的方法（EUV机器）因为贸易制裁禁止进入中国。而日本公司的技术则完全省略了光刻过程，而是直接将所需的电路图案压印到硅片上。由于其创新性，它不......
:1980Di依然可以达到7nm，只是步骤更为复杂，成本更高，良率可能也会有损失，晶圆厂用这一台光刻机，大多是生产14nm及以上工艺的芯片，很少去生产14nm以下的工艺，因为良率低，成本高，没什么竞争力。 ......
于下半年开始试产，2025年二季度小量生产。 英特尔方面，去年年底ASML已将全球首台高数值孔径 High NA EUV EXE:5200交付给了英特尔，助力后者生产2nm芯片。随后英特尔开启了光刻机......
2nm芯片。随后英特尔开启了光刻机调试工作，并且进展顺利。 今年2月英特尔和ASML技术支持团队联合宣布已打开EXE:5000光刻机的光源，并使光线到达抗蚀剂。业界表示，这是光刻机......
着前所未有的工程、材料结构和制造方面的挑战。许多变化和误差的来源会阻碍光刻过程，必须加以控制，为确保芯片的生产满足所需的性能、体积和成本，传统的EUV光刻机技术可能已经走到了尽头。 高昂......
:1980Di依然可以达到7nm，只是步骤更为复杂，成本更高，良率可能也会有损失，晶圆厂用这一台光刻机，大多是生产14nm及以上工艺的芯片，很少去生产14nm以下的工艺，因为良率低，成本高，没什么竞争力。 ......
制造行业发展了几十年，台积电开创了代加工模式，承接来自世界各地的芯片订单。在台积电的生产线中，大部分的产能集中在12英寸晶圆。或许很多人不了解晶圆是什么，12英寸又是什么概念。 其实......
与ASML平分市场，日本这家工程机械企业不容忽视;据路透社报道，荷兰政府计划于当地时间6月30日宣布新法规，对ASML次顶级产品线深紫外DUV光刻机提出许可要求，此前，ASML极紫外EUV光刻机......
划将于2025年12月31日之前执行。 公开资料显示，在全球半导体光刻机市场，ASML、尼康、佳能占据90%以上的市场份额。除了光刻机龙头ASML外，日本两大光刻机......
中科院中紫外光刻设备研制成功，国产光刻机有望突破; 来源：内容来自 中科院网站 ，谢谢。 近日，一种新型的中紫外直接光刻机由中国......
三星拟新设至少10台EUV光刻机：展露要当世界第一的野心;最新消息显示，尽管全球经济将放缓，但仍计划扩大DRAM与晶圆代工的晶圆产能，明年在其P3晶圆厂新设至少10台极紫外光刻设备（），用于生产......
像是车载市场的需求”，“OLED特性带来新产品形态，我们认为是很值得被期待的。而且我们从合作伙伴和客户的布局来看，他们的生产稼动率也呈现出成长态势。” 5.对中国未来的市场怎么看？ “我在中国负责光刻机业务已经17、18年了......
年第四季度，ASML共卖出70台光刻机，其中中国大陆地区贡献了多达49％，环比还增加了10个百分点。 Peter Wennink此前还曾明确表态：“没有什么可以阻止我们为中国现有的已安装系统提供服务。” ......
国产刻蚀设备凭什么后发赶超？（附厂商盘点）;刻蚀设备的一些基本知识 1.基本原理 前道的晶圆加工包括十余道工艺，有氧化、扩散、退火、离子注入、薄膜沉积、光刻、刻蚀、化学机械平坦化（CMP）等。其中最关键的三类主设备是光刻机......
ASML计划离开荷兰，网友：请来中国;光刻机是近年最热的话题之一，众所周知，荷兰的光刻机巨头阿斯麦（ASML）掌握着全球半导体命脉，而在最近，这一巨头正在考虑将总部搬离荷兰。一时间，引发......
提供部分设备的维修服务。 在业绩电话会上，ASML首席执行官温宁克回应称，“目前没有什么可以阻止我们为在中国大陆安装的设备提供服务。” 光刻机是制造芯片的关键设备，中国大陆是ASML的第二大市场。 因此......
初的宽谱紫外向g线-i线-KrF-ArF-EUV(13.5nm)发展，提高极限分辨率来满足不断精进的光刻技术需求。当前，半导体市场对g线和i线光刻胶的使用量最大，KrF、ArF、EUV光刻胶主要配合高端的光刻机......
经历波折无数，未来也注定不会是平坦大道。它的魅力究竟在哪里，未来又会有哪些发展趋势呢？就让我们带着对浸入式光刻的疑问一探究竟吧。 为什么是浸入式光刻？ 自从摩尔定律被提出，人类......

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