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研发客服据报道，中国将于年底推出首款 ，这标志着中国芯片产业在经历了美国主导的多年打压和围堵后实现了跨越式发展。
本文引用地址：据《证券日报》报道，北京半导体行业分析师张宏周二对《环球时报》表示，上海微电子装备集团（以下简称，上海微电子）一直致力于研发 浸没式光刻机，预计首台国产 SSA/800-10W 光刻机将于 2023 年底交付。
这将是该行业的重大突破，将生产满足常用设备要求的国产芯片。截至周二发稿，上海微电子尚未回应《环球时报》的采访请求。
上海微电子成立于 2002 年，是中国领先的光刻机制造商之一，约占国内市场 80% 的份额。外媒称该公司是荷兰世界领先光刻机制造商 ASML 的中国唯一潜在竞争对手。
上海微电子的网站指出，它已经开发出能够制造 90nm 节点标准芯片的光刻设备，这种技术适合生产低端芯片。
上海微电子副理事长何荣明表示，2002 年中国专家出国考察时，一些外国工程师说：「即使我们给你所有的图纸，你也不一定能生产出光刻机」。回国后，他带领团队经过 5 年的研发，在关键的曝光工艺上取得了重大突破。
报道称，这一成就是在美国说服日本和荷兰等盟友共同遏制中国科技行业增长的关键时刻达成的，尽管这会使两国企业将遭受巨大的经济损失。
日本 3 月下旬宣布对外汇和对外贸易法的部令进行修订草案，增加了 23 种需要政府批准才能出口的芯片制造设备和工具。该规定于 7 月 23 日生效。荷兰政府于 7 月初宣布了一项部长令，限制某些先进半导体设备的出口，出口管制将于 9 月 1 日生效。
一位业内人士表示，为了应对美国主导的打压，中国企业被迫自己制造工具，以避免受到美国的挤压。此外，该人士表示，随着大多数企业越来越倾向于采用国产产品，行业内已经形成了良性循环。
例如，进口芯片的成本为 20 元（2.8 美元），而国产芯片的成本高达 200 元。即使价格较高，也无法阻止中国企业更愿意使用国产芯片来降低市场风险。随着对国产芯片的需求大幅增加，它们的价格将会下降，性能也会随着时间的推移而提高，从而形成积极的反馈循环。
2022 年 11 月 15 日，国家知识产权局公开了华为突破性的新专利「反射镜、光刻装置及控制方法」，代表着极紫外（EUV）光刻机核心技术的重大进步。
「但技术的演进需要多年的持续研发，我们需要耐心和坚定。」张宏说，他还指出，芯片生产不是一个国家能够独立完成的事情，中国应该寻求与主张全球化的国家合作。
最先进的 EUV 光刻机拥有超过 45 万个零部件，超过 F1 赛车的零部件数量 20 多倍。即便是在全球 EUV 光刻机制造领域占据主导地位的 ASML，其零部件产量也仅占总零部件数量的 15%。其余的必须来自全球供应链。
2020-2023 年间，中国晶圆厂设备需求强劲，整体采购额大幅增长。根据芯谋研究调研数据显示，2020 年中国晶圆厂设备采购额为 154.1 亿美元，到 2023 年这一数字将达到 299 亿美元，较 2020 年上涨 94%。中国晶圆厂显著加大采购数量，带动整个中国设备市场强劲增长，但限于设备制造周期，设备产能增幅呈平稳释放之势。
2020 年，美国、日本和荷兰三家占据中国设备采购市场 86% 的份额。2023 年，这三方依然占据了中国市场前三名，占比仍高达 83%。相比三年前国内制造企业给于本土设备很多机会，但美日荷占比之和仍然超过 80%，国际企业绝对主导中国设备市场的格局没有改变。
2020-2023 年间，中国本土厂商的销售额从 9.9 亿美元增长至 33 亿美元，市场占比从 7% 增加至 11%。销售额达到三年前的 3 倍多，市场份额增幅高达 57%。本土设备需求井喷，帮助本土设备企业取得不小进步。美国设备在国内半导体设备市场份额下降，但将继续长期占据主导地位。这三年中美国厂商在中国市场的销售额保持增长，但市场份额从 53% 下降至 43%。相应的日本、荷兰等厂商在中国设备市场的销售额和市场份额都有所提升。
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