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俄罗斯正在开发可替代光刻机的芯片制造工具？;近期，俄罗斯国际新闻通讯社报道，俄罗斯在开发可以替代光刻机的芯片制造工具。 据悉，圣彼得堡理工大学的研究人员开发出了一种“光刻复合体”，可用......
EUV有望在未来几年成为主流。 随着半导体制程工艺演变，工艺推进的成本也越来越高，如今能负担起最新制程研发的基本只剩四家：GlobalFoundries，Intel，三星和台积电。这几家公司采购新一代光刻机的......
实现更高的分辨率,提高芯片的质量和良率,帮助芯片制造实现更小的特征尺寸和更高的集成度,制造出更先进和更复杂的芯片,因此在先进制程中计算光刻的重要性愈发凸显。 cuLitho是否对传统计算光刻技术带来冲击?核心技术有哪些......
在不使用EUV光刻机的情况下，实现高精度的芯片制造。这一突破性的技术进步为全球半导体产业带来了新的选择和希望。 封面图片来源：拍信网......
俄罗斯正在开发可替代光刻机的芯片制造工具;近期，国际新闻通讯社报道，在开发可以替代的工具。据悉，圣彼得堡理工大学的研究人员开发出了一种“光刻复合体”，可用于蚀刻生产无掩模芯片，这将有助于在微电子领域技术......
俄罗斯开发出可替代光刻机的芯片制造工具：还要生产7nm芯片; 10月10日消息，这对于ASML来说是不是有点魔幻，俄罗斯号称开发出可以替代的芯片制造工具。 据俄罗斯国际新闻通讯社报道，圣彼......
，还将用于增加纳米压印光刻 (NIL) 机的产量。计划于 2025 年开始运营。 KrF 和 i-line 光刻是成熟的技术，但它们仍被广泛用于定义众多 IC 类型、MEMS 和平......
中，ASML公司还新增了71亿欧元的新订单，其中就有一套NA 0.55高数值孔径EUV光刻机的销售，这是ASML下一代光刻机，订购这个光刻机的是Intel，据说成本高达3亿美元，约合19亿元。 4年来......
日本尼康和荷兰ASML。然而，其对于半导体的生产相当重要。  Vasily Shpak表示，2024年就将拨款2114亿卢布用于俄罗斯电子产品的开发。俄罗斯决定开发350纳米到65纳米光刻机的......
经历波折无数，未来也注定不会是平坦大道。它的魅力究竟在哪里，未来又会有哪些发展趋势呢？就让我们带着对浸入式光刻的疑问一探究竟吧。 为什么是浸入式光刻？ 自从摩尔定律被提出，人类......
室的主要动机是促进 High NA EUV 光刻技术的尽可能快的行业引入和提升。 那么，在未来两到五年内，还有哪些其他发展会影响图案化领域？ 在imec看来，除了 EUVL 的创新之外，越来......
实现最小线宽为10nm的电路图案，相当于2nm节点。   半导体制造领域，光刻机是昂贵且关键的设备，而纳米压印设备被多家日本半导体设备厂商视作替代光刻机的“下一代设备”，担负......
或非是通向先进制程的必由之路。未来几年可能会出现所谓下一代光刻技术，如NIL（纳米压印光刻），EUV光刻机在制造晶体管时会遇到它的物理极限。NIL光刻机最大的好处是光源相对便宜，即不......
芯片的制造设备引进韩国，重点是与这家荷兰公司建立合作伙伴关系，以便它可以更好的利用下一代光刻机设备。 ASML将在未来几个月内推出能制造2纳米节点芯片的设备。其最新的High-NA EUV光刻机的......
中科院中紫外光刻设备研制成功，国产光刻机有望突破; 来源：内容来自 中科院网站 ，谢谢。 近日，一种新型的中紫外直接光刻机由中国科学院光电技术......
；氟化氩光刻机光源193纳米，分辨率≤65nm，套刻≤8nm。 目前来说，光刻机共经历了六代的发展，从最早的436nm波长，再到第二代光刻机开始使用波长365nm i-line，第三......
克还介绍了ASML新一代High-NA EUV光刻机的进展，预计将于2024年开始发货，每台设备的价格在3亿至3.5亿欧元之间。 众所周知，目前ASML是全球最大的光刻机供应商，同时......
以及局部光散射体(LLS)。以上两类技术都受到国家安全和反恐管制的约束。 目前全世界唯一能生产EUV光刻机的企业只有荷兰ASML公司，而ASML最大的两大股东资本国际集团(MSCI)和贝莱德集团(BlackRock......
摩尔定律束缚的不仅仅是芯片的物理极限，还有半导体设备的技术天花板 —— ASML透露“下一代的NA EUV光刻机可能是最后一代NA，当前半导体光刻技术之路或已走到尽头，不过正在研究其它可行性替代技术。”......
，完全有替代EUV光刻机的可能性，目前国内也在研究这个技术。 不过研究最好的还是日本的佳能，佳能在NIL技术上专利全球最多，且已经有了量产机器，目前在改进精度，希望国产加油，也能够赶紧推出NIL光刻机......
精神”？ 美国断供芯片，俄罗斯大炼自主「熊芯」决定从头开造光刻机......
一中已经说了，半导体制造工艺有7大环节，光刻只是其一，成本占比仅30%，其并不能代表最迫切的技术需求。事实上中国并不缺光刻机，而是缺其他6类（沉积、刻蚀、离子注入、清洗、氧化、检测）被美......
的制程节点受益。 Twinscan NXE:3800E光刻机的价格并不便宜，机器的复杂性和功能是以巨大的成本为代价，每台大概在1.8亿美元。不过比起新一代High-NA EUV光刻机的报价，显然还是要低很多。此前有报道称，业界......
是更大的产业链，毕竟会有更多的汽车芯片在国内完成生产制造，这对光刻机的需求自然也会进一步增加。 其次，ASML能够更多的出货，也是因为ASML的光刻机制造技术最为先进，其它厂商根本替代不了。据了......
以往机型的 160 片提升近 22%。 下一代光刻技术 （高数值孔径） EUV 采用了更宽的光锥，这意味着其在 EUV 反射镜上的撞击角度更宽，会导致影响晶圆吞吐量的光损失。因此 L 提高了光学系统的放大倍率，从而......
能负担起最新制程研发的基本只剩四家：GlobalFoundries，Intel，三星和台积电。这几家公司采购新一代光刻机的计划对整个行业的推动都极为重要，接下来几代制程工艺极紫外光刻机是核心，Intel，三星，台积电都曾对ASML投资......
投资Smart Photonics，以确保关键技术不外流，一度阻拦ASML向中国出口光刻机。 国际电子商情了解到，除生物科技、微米电子与半导体、纳米科技与先进材料之外，光子学 (photonics) 也是欧盟执委会近年推动的关键促成技术......
芯源微：前道涂胶显影机可与ASML等光刻机联机应用;近日，芯源微披露投资者关系活动记录表指出，公司前道涂胶显影机与国际光刻机联机的技术问题已经攻克并通过验证，可以与包括ASML、佳能......
的最新款EUV曝光机，以用于研发工作。Rapidus应该可以利用与imec的合作关系，获得ASML的最新一代光刻机的相关技术，并填补上述差距。 但是，另一个问题是Rapidus能否获得光刻机......
10亿一台仍供不应求！目前，全球最先进的光刻机是由荷兰ASML制造的EUV光刻机，台积电、三星的7nm制程均离不开它。EUV光刻机精密复杂，这些技术掌握在由42个国......
公司的态度再次发生变化，引发了国家的迅速回应。荷兰的决定被外媒认为将光刻机事情闹大了。本文将分别从公司态度的变化、荷兰及日本的对华出口管控、ASML公司的技术依赖和市场地位、我国光刻机技术的突破、ASML公司对华出口限制的影响以及中企自主掌握核心技术......
PPC-1 广告 50周年纪念标志 佳能光刻机的历史始于对相机镜头技术的高度应用。灵活运用20世纪60年代中期在相机镜头开发中积累的技术，佳能研发出了用于光掩膜制造的高分辨率镜头。此后......
其积压订单的 20%。ASML 预计今年来自中国的收入将大幅回升，但部分销售额最终可能会受到荷兰出口管制措施的影响。知情人士此前告诉彭博社，这些限制预计将阻止三台浸没式深紫外光刻机的发货。ASML 已经被禁止向中国公司出售其最尖端的技术......
再披露其旗下参股子公司购得ASML XT 1900 Gi型二手光刻机一台。 3月12日，上海新阳发布关于采购购ASML XT 1900 Gi型光刻机的公告。公告显示，近日，公司旗下参股子公司上海芯刻微材料技术有......
ASML宣布与比利时微电子研究中心合作 加速推进新一代光刻机;比利时微电子研究中心 (IMEC) 、阿斯麦 (ASML) 共同宣布，双方将在开发先进高数值孔径（High-NA）极紫外（EUV）光刻......
光刻机订单占了30% ASML喊话：绝对不能失去中国市场;4月27日消息，荷兰ASML公司是全球唯一能量产EUV光刻机的公司，同时也是成熟工艺所需的DUV光刻机的主要供应商，该公......
设备的专利。 国际电子商情从“中国专利公布公告”上查询得知，该专利于2016年9月9日在中国专利局申请，申请人是华为技术有限公司，发明人为弗洛里安·朗诺斯。换言之，华为早在4年前就开始着手光刻机......
的研发投入。 近日，中企更是公开了一项有关于EUV光刻技术的专利，也曝光了ASML加速对中企出货DUV光刻机的原因。 根据国家知识产权官网显示：传芯半导体公开了一项关键的技术......
是全球唯一能提供EUV光刻机的公司。EUV技术的引入，使得芯片制造商能够突破传统深紫外(DUV)光刻机的物理极限，从而继续推动摩尔定律的发展。尤其在5nm及以下工艺节点的生产中，EUV光刻机的......
人员。 外媒最新的报道就显示，阿斯麦在韩国的极紫外光刻机培训中心，已经开通。 新开通的极紫外光刻机培训中心，在首尔以南约42公里的龙仁市，占地1445平方米，设有洁净室、办公空间等，旨在培训维护和修理高精度和复杂极紫外光刻机的技术......
是全球唯一的EUV光刻机供货商，High NA EUV光刻机的发展已经接近当前技术的极限，下一代的0.75 NA的Hyper NA EUV光刻机理论上是可以实现，但是会面临更多更复杂的技术问题，同时......
统将为打印先进芯片提供领先的生产力。我们正在将光刻技术推向新的极限。” Twinscan NXE：3800E光刻机的推出，无疑将对全球芯片市场产生深远的影响。首先，这款新型光刻机的出现，将加速芯片制造业的技术......
%在德国，27%在日本，这就体现了全球化技术协作的结果。在其中，“我们有哪些环节拿得住的？是我国研发和产业发展的核心点。” 除了设备方面，晶圆制造、芯片研发设计也是产业所面临的难点。 “虽然......
/14nm推到10nm甚至7nm，但是到了7nm之后，这些技术就不能保证工艺可以向前推进了。从技术上来看，我们可以使用一种叫做八倍pattern的技术去延伸传统光刻，但这种方式具有不确定性，同时......
EUV、NIL等下一代光刻专利数量上，台积电远超三星电子; 【导读】TechInsights 1月27日发布报告称，在包括EUV在内的下一代光刻技术方面，台积......
双重图案化实现同等精度带来的额外步骤与风险。 多种 EUV 光刻机共用一个基础平台，在降低开发成本的同时，也便于将 Hyper-NA 机台的技术改进向后移植到数值孔径更低的光刻机上。 根据此前报道，ASML 最新的 0.33NA EUV 光刻机......
将持续联合客户共同开发更高等级的蚀刻液产品。 受让芯刻微32%股份，加码光刻胶业务 近年来，上海新阳正在重点布局第三大核心技术-光刻技术，并且已经立项开发集成电路制造用ArF（干法）、ArF（浸没式）、KrF（含厚膜）、I线等高端光刻......
过科创板上市委会议，这意味着其距离上市又进了一步；上海微电子则专攻光刻机，其技术在中低端领域已达相对较领先水平，产品已实现90nm制程覆盖。 在众多设备领域中，光刻机......
也宣布推出了无需光刻机的芯片制造工艺，意味着通过技术变革是可以在当前以光刻机作为主要芯片制造设备的工艺有更多途径，尤为可喜的是Zyvex的工艺可以做到比以ASML的第二代EUV光刻机......
。 荷兰阿斯麦（ASML）、日本尼康（Nikon）和日本东京电子（TEL）等巨头的对华出口，都将执行新的标准。在继续禁绝向中国企业出售EUV光刻机的基础上，新的联盟扩大了管制范围 —— 中国发展先进半导体所需的技术......

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