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ASML摊牌了:可远程瘫痪台积电光刻机;“阿斯麦和台积电有能力瘫痪制造芯片的机器。”昨日,外媒一篇报道中,阿斯麦(ASML)向荷兰官员保证,可以远程瘫痪(remotely disable)相应......
导指出,采用High-NA EUV光刻机对于台积电开发2纳米以下制程至关重要。因为High-NA EUV光刻机将数值孔径从0.33增加到0.55,可以进一步在晶圆上达到更高分辨率。而根据台积电......
作为全球最大的晶圆代工厂商,其在抢夺EUV光刻机方面也显示出了强大的购买力。据台湾地区媒体报道,2024-2025两年,台积电将接受60台EUV光刻机,预估总投资额将超新台币4000亿元(约122.7亿美......
用小芯片技术设计的芯片,采用的是不同的架构,依赖的是芯片制造的后道环节。传统方法现在依赖的是ASML的光刻机和台积电的制造技术,而小芯片技术则不然,所依赖的是先进封装光刻机和先进封装技术。 上面......
EUV光刻机设备,用于7nm、5nm、4nm等先进制程,且9月台积电还将开始量产最新的3纳米制程,这些都需要EUV光刻机设备协助。有市场消息表示,因首代3纳米制程客户可能仅剩苹果,使台积电......
当前有能力并且有意愿进入7纳米世代的晶圆厂仅剩台积电、三星和英特尔,加之EUV设备供给有限,ASML便成为三大半导体巨头争相拉拢的重要对象。 5nm/3nm:极紫外光刻成为必修课 随着......
只有这样才能得到所需要的曝光图案。 当下,台积电和EDA供应商新思正在将全新的NVIDIA cuLitho计算光刻技术软件库整合到最新一代NVIDIA Hopper架构GPU的软件、制造工艺和系统中。光刻机......
可怕的台积电,一口气买下5台EUV光刻机; 版权声明:本文内容来自经济日报,如您觉得不合适,请与我们联系,谢谢。 巴隆周刊(Barrons)报导,艾司摩尔(ASML)上周......
工艺不需要采用下一代High-NA EUV光刻机台积电让现有EUV发挥“余热”,通过提高生产效率的多重掩模和先进的基于纳米片的晶体管设计,找到了实现1.6nm的途径。尽管相对工艺步骤多、周期......
ASML今年将向台积电交付最新款光刻机 单价3.8亿美元;6月6日消息,荷兰制造商今年将向交付其最新款。据公司发言人莫尼克·莫尔斯(Monique Mols)透露,首席财务官罗杰·达森(Roger......
GAA制程等。在2nm制程上,台积电、三星、英特尔、Rapidus都已接洽ASML,其目的正是为了能使2nm制程量产的关键设备,即ASML手中最新的High-NA EUV光刻机。 ASML是一家全球最大的光刻机......
这并不是经济上可实现的极限,台积电N5工艺使用的28nm最小金属间距可以在没有EUV的情况下制造。使用ArFi光刻的SAQP理论上也可以实现。如果目标是阻止中国实现5nm制程技术,那么ArFi的出货就必须被阻止,ASML和......
四家半导体大厂重磅合作!计算光刻技术从幕后到台前;在3月22日召开的GTC大会上,英伟达宣布与台积电、ASML、新思科技(Synopsys)合作,将加速运算技术用于芯片制造环节的计算光刻中,并推出用于计算光刻......
纳米及更先进制程,必须借助光刻设备转印半导体电路图案。追逐先进制程的芯片制造厂商中,台积电和三星均已引入光刻机。目前,台积电和三星已进入5nm工艺的量产阶段,台积电代工的产品包括苹果A14、M1、华为......
可能面临订单削减,这导致该公司股价周三下跌。 ASML制造对于制造先进半导体至关重要的极紫外(EUV)光刻机。其客户包括台积电、三星......
全球2nm晶圆厂建设加速!;AI强势推动之下,先进制程芯片重要性日益凸显。当前3nm工艺为业内最先进的制程技术,与此同时台积电、三星、英特尔、Rapidus等厂商积极推动2nm晶圆厂建设,台积电......
报会议上,ASML表示,将维持55台EUV光刻机的产能预期。有供应链消息传出,三星今年将预定18台EUV光刻机,而台积电则最少预定22台。 此外,有业内人士认为,三星和台积电今年量产3纳米......
节点(1nm)。近期媒体报道,台积电拟在中国台湾中部的嘉义县太保市科学园区设厂,生产1nm芯片。 三星计划2027年底前推出1.4nm制程,据悉,三星SF1.4(1.4 nm)工艺,纳米......
年初定下440亿资本开支目标的台积电,无奈之下已连续两次削减了资本开支,每次都是40亿美元,合计高达80亿美元,同时台积电还鼓励员工休假,并关闭了部分EUV光刻机。 反观28nm及以......
媒报道,他将与光刻机巨头ASML进行接洽,争取EUV光刻机优先供货。据悉,3/2纳米工艺的实现高度依赖于ASML的新一代的EUV光刻机。业界消息显示,ASML在2021年出货的48台EUV设备中,三星和台积电......
还表示各项数据优于三星 。 三星、台积电都在使用EUV光刻机生产制造3nm芯片,但实际上已经有点力不从心了:三星采用了全新的GAA工艺,性能和功耗提升明显,但良品率成了最大的问题;台积电采用传统工艺,良品......
还对外交付了第二台High NA EUV光刻机,但未透露买家信息。 值得一提的是,ASML的订单已超过了十几台,但EUV设备的最大客户台积电却表示“不抢ASML新设备”。台积电......
三星3nm芯片将于Q2开始量产,压力给到台积电、英特尔?;近两年台积电、三星、英特尔在先进制程领域持续发力,而台积电和三星近期3nm节点工艺成果惹人注目。 三星 3nm芯片将于Q2开始......
佳能押注“纳米压印”技术,价格比 ASML EUV 光刻机“少一位数”;11 月 6 日消息,日本佳能一直在投资纳米压印(Nano-imprint Lithography,NIL)这种......
/S线距比), 考验光刻机的适配性与综合性能, 包含曝光面积、图形拼接、对位标记、分辨率、产能、工艺窗口等综合性价比, 这些指标决定先进封装的终端成本及竞争优势。台积电在10年前推出(28nm)先进......
成为推动摩尔定律进入埃时代的关键推动因素。 先进制程竞争开战:光刻机“挺忙的” 在芯片制造中,先进制程技术是当前行业研发的重点,掌握研发最新制程技术的大厂主要是台积电、三星、英特尔,从三大厂的动态来看,先进......
求在硅片上出完整图形,尺寸符合设计要求。根据ASML的经验,此类demo样机在台积电作工艺测试,也即不断地试错及改进,通常需要约两年的周期。 2022年已经出货多台90纳米,客户分别是中芯国际、长江存储、积塔、今年......
求在硅片上出完整图形,尺寸符合设计要求。根据ASML的经验,此类demo样机在台积电作工艺测试,也即不断地试错及改进,通常需要约两年的周期。 2022年已经出货多台90纳米,客户分别是中芯国际、长江存储、积塔、今年......
作业。这项技术对于2纳米以下节点制程的开发至关重要,台积电计划从A14节点制程开始采用High-NA EUV光刻机,并规划在2027年开始量产。  三星3纳米......
台积电、ASML谈2024年半导体市况;近期,晶圆代工龙头台积电与光刻机大厂ASML发布今年一季度财报,并对2024年半导体市况做出了展望。 台积电:半导......
出了全球首个采用全栅极(GAA)技术的3纳米半导体芯片制程技术后,三星一直在努力确保能采购更多EUV光刻机,目标是使该公司能在2024年上半年进入第二代3纳米制程技术,2025年进入2纳米制程技术,并在2027年进入1.4......
设备与自家晶圆代工服务的其他领先制程技术相结合时,打印尺寸比现有EUV机台缩小1.7倍,因2D尺寸缩小,密度提高2.9倍,协助英特尔推展制程蓝图。 三星SF1.4增加纳米片,改善性能与功耗 相对于台积电与英特尔,媒体报导,三星......
PowerRail)与纳米片晶体管,2026年量产。超级电轨将供电网络移到晶圆背面,晶圆正面释出更多讯号网络空间,提升逻辑密度和效能,适用复杂讯号布线及密集供电网络的高效能运算(HPC)产品。 相较台积电......
台积电和三星7nm竞赛正式开打,EUV成为关键; 版权声明:本文内容来自technews,如您觉得不合适,请与我们联系,谢谢。 三星、台积电10 纳米技术量产,7 纳米......
。 2nm可谓是台积电的一个重大节点,将采用纳米片晶体管(Nanosheet),取代FinFET,意味着台积电工艺正式进入GAA时代。针对2nm制程所用设备,台积电还将延续使用EUV光刻机。值得......
-2025两年,台积电将接受60台EUV光刻机,预估总投资额将超新台币4000亿元(约122.7亿美元),据悉,ASML年底将向台积电交货High-NA EUV。 图片来源:拍信......
预计将于2025年第二季度投入运营。 据悉,在全球范围内,3纳米以下制程的竞争者目前仅有台积电、英特尔和三星三家晶圆代工厂。他们之间的竞争正在升温,加速竞相获得2nm以下工艺的High NA......
俄罗斯首台光刻机,真的制造成功了;2022年,俄罗斯科学院下诺夫哥罗德应用物理研究所 (IPF RAS)  宣布,正在开发俄罗斯首套半导体光刻设备,并对外夸下海口:这套光刻机能够使用7nm生产......
%。 台积电指出,CFET晶体管现已在台积电实验室中进行性能、效率和密度测试,并已经实现了48nm的栅极间距 台积电在其CFET晶体管工艺中,尝试将纳米片中和锗的交替层进一步隔离。例如,台积电通过特定的蚀刻方法去除纳米......
份。IMS是一家专注于研发和生产电子束光刻机的公司,其产品被广泛应用于半导体制造、光学元件制造、MEMS制造等领域,具有高分辨率、高精度、高速度等优点。业界认为,台积电收购IMS可确......
半年开工。此举旨在和台积电抢夺2019年高通和苹果的手机芯片代工合同。 荷兰艾斯摩表示,EUV(极紫外)光刻机可用于7/6/5nm工艺,Intel、台积电、三星等都采购了相关设备。只是,目前......
出的 A14P 制程中引入 High NA EUV 光刻技术。 ▲ ASML EXE:5000 High NA EUV 光刻机 台积电目前正式公布的最先进制程为 A16,该工艺将支持背面供电网络(BSPDN......
售价3.8亿美元!ASML正式宣布,外媒:光刻机市场“变天”了!; 芯片规则实施之后,台积电与中企的合作被中断,而身为全球唯一能够制造EUV光刻机的ASML,自然也成为了美国的主要针对对象,在签......
亿美元左右。台积电3nm工艺的总投资高达500亿美元。目前在建厂方面至少已经花费200亿美元,可见投入之庞大。 “尽管欧洲与日本都表达了想要在下一个技术世代来临之际,以2纳米为切入点,发展......
方面,近期ASML新任首席执行官傅恪礼Christophe Fouquet透露,英特尔的第二台High NA EUV光刻机已经顺利完成组装,而台积电的首台High NA EUV光刻机......
工厂内的试产产线设置EUV光刻机设备,对工厂启用、维修检查提供协助。 2nm,2025年见分晓! 传统晶圆代工龙头企业台积电、三星电子以及新兴企业Rapidus都在积极布局2nm芯片,这三......
成本抬升,每片芯片价格将上涨高达50%。 建造一座月产量5万片晶圆的2纳米晶圆厂成本约280亿美元,同样产能3纳米晶圆厂成本约200亿美元,成本提高来自EUV光刻机增加,2纳米比起3纳米需更精细制程,要保......
芯片也计划在今年量产。 由于7纳米及更先进制程必须借助光刻设备转印半导体电路图案,EUV光刻机可视作观察先进制程大战的一个指标。光刻机龙头ASML在2019年出售了26台极紫外线EUV光刻设备,大概一半面向台积电......
下一代半导体的生产至关重要。不过,三星电子暂时没有透露ASML将提供的额外EUV光刻设备的细节。 据悉,3/2纳米工艺的实现高度依赖于ASML的新一代的EUV光刻机。业界消息显示,ASML在2021年出货的48台EUV......
技术,这让光刻工艺走上了一个新的高度,于是光刻行业进入了以 EUV 光刻机为主的极紫外光时代。 随着先进制程的进一步推进,全球半导体制造龙头台积电、三星、英特尔纷纷扩大 EUV 光刻机......

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;台积电上海有限公司;;台积电上海有限公司(台积电上海)位于上海市松江科技园区内,是台积电独资设立的子公司,也是其全球布局中重要的一环。台积电将运用以往丰富的成功经验,协助
;成都鑫南光机械设备有限公司;;成都鑫南光机械设备有限公司专业提供在微电子工艺生产方面使用的多种型号的光刻机;在真空器件生产方面使用的排气设备(真空排气台);在真空钎焊、陶瓷金属化、烧氢
;苏州汶颢芯片科技有限公司;;苏州汶颢芯片科技有限公司主营微流控芯片、光刻胶、光刻机、注射泵、烘 箱、干燥箱、培养箱、烧结箱、消毒箱、试验箱、水槽、油槽、马弗炉、振(震)筛机、破碎机等。公司
;怡合瑞丰科技发展有限公司;;注册于香港,代理美国ABM公司的光刻机及其他半导体设备。可以为客户提供先进的凸点制造等封装工艺与设备
家专门经营台湾艾笛森EDISON,美国科锐CREE,台湾琉明斯以及(台积电)彩钰等品牌大功率LED灯珠的专业光电子器件通路商!公司严格执行“系统管理,以人为本,诚实守信,交货快捷,优质服务”的宗旨。真诚
刻字机等。激光雕刻机主要有激光雕刻机、激光切割机、激光裁床、激光打标机、激光刀模切割机、激光雕版机、激光刻章机等。每一种机器我们都有不同尺寸的机型可供选择。 公司产品涵盖了木工、石材、广告、工艺礼品、建筑
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