首台国产自主光刻机

必须在真空环境中传输，机械精确度要达到皮秒级，光学透镜平整度达到皮米级。 中国开展了光刻机自主研发，2000年开始，我国团队参观ASML，遭到嘲笑。2007年上海微电子制造出首台国产光刻机，ASML态度...

半导体行业分析师张宏周二对《环球时报》表示，上海微电子装备集团（以下简称，上海微电子）一直致力于研发 浸没式光刻机，预计首台国产 SSA/800-10W 光刻机将于 2023 年底交付。 这将...

设备（特别是EUV光刻机）等领域仍存在一定差距，但在刻蚀、CVD、PVD、封装测试设备等领域，中国企业已经取得了一定的市场份额，并逐步实现国产化替代。 市场...

向塔斯社报告了这一点。 他表示，“我们组装并制造了第一台国产光刻机。作为泽廖诺格勒技术生产线的一部分，目前正在对其进行测试。”俄罗斯接下来的目标是在2026年制造可以支持130nm工艺的光刻机。 去年10...

350nm，俄罗斯光刻机制造完成;5月25日消息，据外媒报道称，俄罗斯首台光刻机已经制造完成并正在进行测试。俄罗斯联邦工业和贸易部副部长瓦西里-什帕克指出，该设备可确保生产350nm（0.35μm...

交付入厂仪式在增城区广东越海集成技术有限公司（以下简称“越海集成“）举行。 本次交付入厂的国内首台大芯片先进封装专用光刻机由星空科技自主研制，可以为Chiplet和2.5D/3D大芯片的集成制造提供光刻...

易制造。 据悉，俄罗斯的自主光刻机采用11.2nm的激光光源，而非ASML标准的13.5nm。这种波长将与现有的EUV设备不兼容，需要俄罗斯开发自己的光刻生态系统，这可...

上游最为核心设备分别为光学镜头、光学光源和双工件台。 上海微电子装备股份有限公司曾披露，将在2021-2022年交付第一台28nm工艺的国产的沉浸式光刻机。但是，到现在也没人见过这台国产光刻机，主要...

日本成功引入首台ASML EUV光刻机...

国产光刻机巨头，更新上市进展？;近日，上海微电子装备（集团）股份有限公司（SMEE，简称 “上海微电子”）IPO动态消息震动产业界，概念股乘势而起，那么实际情况究竟如何？ 并未...

国产厂商引入首台光刻机设备！;据宁波前湾新区管理委员会7月15日消息，近日宁波冠石半导体有限公司迎来关键节点，引入首台电子束掩模版光刻机。据悉，该设备是光掩模版40nm技术节点量产及28nm技术...

ASML持续布局中国，又一台光刻机进入中国工厂;据重庆两江新区消息，12月27日，锐石创芯滤波器生产基地项目一期首台ASML光刻机入厂。 锐石创芯是一家专注于高性能的4G/5G射频...

经过蚀刻在晶圆上形成图形。 尽管与国际大厂相比，我国在光刻机研发方面仍存在不小的差距，但近年来，随着首台28nm国产光刻机成功交付，中国在光刻机技术上也取得了里程碑式的突破。 值得一提的是，除了自研光刻机之外，我国...

、良率和稳定性接近世界先进水平。国家主导的项目也取得了重大进展，自主研制的首台EUV光刻机成功通过验收。这一系列的突破为我国光刻机行业的发展提供了有力支撑。 ASML公司对华出口限制的影响 ASML公司...

的技术难度和成本高筑进入壁垒。 中国在不断的研究新技术，以期在光刻机上有突破，从而实现先进光刻机的独立自主，最终摆脱对ASML的依赖。 如今上海微电子已经成功研发出第一台国产28纳米DUV光刻机，且已...

内第一、全球第三的193nm ArF准分子激光器企业。 根据相关报道，2018年科益虹源自主设计开发的国内首台高能准分子激光器出货，打破了国外厂商的长期垄断。 2020年4月份，科益虹源集成电路光刻...

佳能产日本首台半导体光刻机PPC-1发售50周年;佳能于1970年发售了日本首台半导体光刻机PPC-1，今年是佳能正式投入半导体光刻机领域50周年。半导...

载板、类载板曝光工艺的直写光刻设备，并实现了市场销售。同时。加快国产替代进程，助力我国 IC 载板、类载板产业生态的建设，提高公司整体营收规模及盈利水平。 此外值得一提的是，今年9月，芯碁微装首台...

技术装备推广应用指导目录（2024年版）》。在《首台（套）重大技术装备推广应用指导目录（2024年版）》电子专用装备目录下，集成电路设备方面包括：氟化氩光刻机，光源193纳米，分辨率≤65nm，套刻...

佳能交付首台新型纳米压印光刻机;近日，佳能宣布成功交付首台新型纳米压印（NIL）光刻机，设备将被送往美国得克萨斯电子研究所（TIE）。 资料显示，TIE设立于2021年、是由...

技术装备推广应用指导目录（2024 年版）》（以下简称“《目录》”）。 该《目录》列表中提到和氟化氪光刻机氟化氩(ArF)光刻机。其中氟化氪光刻机光源248纳米，分辨率≤110nm，套刻≤25nm...

ASML首席技术官：明年交付首台High-NA EUV光刻机;据外媒Bits & Chips报道，ASML首席技术官Martin van den Brink日前受访时表示，目前...

三星被曝最快 2024 年底前开始安装首台 ASML High-NA EUV 光刻机;8 月 16 日消息，首尔经济日报昨日（8 月 15 日）报道，三星将于 2024 年第 4 季度至 2025...

Riken：日本首台“国产”量子计算机将于本月底上线，拥有 64 个量子比特;IT之家 3 月 10 日消息，理化学研究所 Riken 周四表示，首台国产将于本月底上线，各大公司、大学...

日本首台“国产”量子计算机将于本月底上线 拥有64个量子比特;日本理化学研究所 Riken 周四表示，日本首台国产量子计算机将于本月底上线，各大公司、大学都可以利用这台量子计算机开展研究。 图源...

上海微电子推出新一代先进封装光刻机，首台将于年内交付;据上海微电子装备集团消息，9月18日，上微举行新产品发布会，宣布推出新一代大视场高分辨率先进封装光刻机。 图片来源：上海...

首台ASML光刻机搬入！中国再添一座12英寸车规级晶圆厂; 为了遏制中国科技发展，美方不仅施压荷兰光刻机制造商，还一直试图要求该公司禁止对华销售部分旧款光刻机，以及...

盖泽半导体首台国产SiC外延膜厚测量设备顺利交付;近日，据华矽盖泽半导体科技（上海）有限公司（以下简称“盖泽半导体”）消息，其自主研发生产的SiC外延膜厚测量设备GS-M06Y已正...

一场“国产光刻机”的奇葩说; 关于“中国研制成功世界首台分辨力最高紫外超分辨光刻装备”的新闻已经过去好几天了，新闻的热度与这天气一样，慢慢转凉。笔者...

大生产线需求，初步建成较完备的集成电路核心装备自主供给体系。 一是集成电路装备，瞄准光刻、刻蚀、湿法、沉积、离子注入、量测检测等工艺环节，推进先进光刻机、高端刻蚀机、晶圆清洗设备、离子...

氧化硅氮化硅氟化硅氮氧化硅等离子薄膜沉积设备；芯源微中标1台聚合物涂胶显影机；阿斯麦中标2台i-line光刻机、1台KrF光刻机。 官方信息显示，上海积塔半导体此次是为特色工艺生产线项目招标。该项目2017年签约落户上海临港，2018年8月开...

最新，国产光刻胶通过验证！; 据“中国光谷”消息，光谷企业近日在半导体专用光刻胶领域实现重大突破：武汉太紫微光电科技有限公司推出的T150 A光刻胶产品，已通过半导体工艺量产验证，实现配方全自主...

胶已进入三星电子量产线的东进世美肯，也在准备为下一代的极紫外光刻机，也就是高数值孔径的极紫外光刻机（high-NA EUV）研发光刻胶。 相关媒体在报道中表示，东进世美肯研发高数值孔径极紫外光刻机投产后所需的光刻...

29亿元！Intel晒史上最贵开箱：全球首台高NA光刻机已装机;近日，Intel发布了一条特殊的开箱视频，堪称史上最贵：他们从ASML拿到的全球第一台高NA EUV光刻机，已经...

尔和台积电方面，近期ASML新任首席执行官傅恪礼Christophe Fouquet透露，英特尔的第二台High NA EUV光刻机已经顺利完成组装，而台积电的首台High NA EUV光刻机...

用于舰载超压传感器。 这不是俄罗斯首次对外公布有关光刻机的消息， 2022年10月，俄罗斯科学院下诺夫哥罗德应用物理研究所就宣布朝光刻机领域展开工作，该研究所希望能开发俄罗斯首台本土光刻机，用以生产7纳米...

此前已经披露，将在 2024 年内交付台积电的首台 High NA EUV 光刻机，价值达 3.8 亿美元（IT之家备注：当前约 27.62 亿元人民币）。 台积电的先进代工竞争对手中，英特...

俄罗斯绕过制裁 为35年前的光刻机续命; 9月9日消息，据国外媒体报道称，俄罗斯近日绕过了制裁，为本国存在了35年的续命。 报道中提到，尽管...

入光学系统校准阶段。这是ASML生产的首台High NA EUV光刻机，价值高达3.5亿欧元，英特尔计划用该款设备生产1.8nm以下的先进制程芯片。 媒体报道，除了英特尔以外，台积电、三星、美光等厂商也向ASML...

胶生产线建设，主要先进光刻设备，如ASML浸没式光刻机等已经完成安装并投入使用。 南大光电进一步表示，2020年底，公司自主研发的ArF光刻胶产品成功通过下游客户的使用认证，成为通过产品验证的第一只国产...

于武汉东湖的格蓝若智能技术股份有限公司（以下简称“格蓝若”）宣布，其与华中科技大学合作研发的国内首套超精密主动减振器在光谷成功面世。两年前，格蓝若与华中科技大学陈学东院士团队展开合作，成功突破了超精密主动减振器关键技术壁垒，实现国产自主...

锐石创芯滤波器生产基地项目一期首台光刻机入厂;据重庆两江新区消息，12月27日，锐石创芯滤波器生产基地项目一期首台光刻机入厂仪式在两江新区水土新城举行，标志...

很吸引眼球的传闻。 然而，实际上我们从1988年首台机器运到中国，到2023年底，ASML在中国的光刻机加上量测的机台装机量接近1400台。 ...

芯片等工艺水平并不高，这各等级的芯片中国已经实现了从光刻机到芯片的完全自主化生产。真正困难的在于7nm的芯片，也就是华为遭到断供的手机芯片。 这种工艺的手机芯片，不仅需要荷兰ASML先进的EUV光刻机...

。 首先是中国的国产替代逐渐成长，ASML担心自己的市场被抢。在后道光刻机产品中，上海微电子的光刻机产品，在国内的市场占有率达到了80%，全球也拥有接近40%的市场。 中国芯片制造企业以现有的DUV...

下一代EUV光刻机什么样？ASML来解答;近日，ASML发布了2022年第四季度及全年财报，并且披露了未来的技术发展路线，其中ASML在下一代EUV光刻机——High NA EUV光刻机...

支持 Intel 14A、10A 两代工艺的 ASML High NA EUV 光刻机上，继英特尔今年 4 月完成全球首台商用 High NA EUV 光刻机的组装后，英特尔的第二台 High NA...

两代工艺的 ASML High NA EUV 光刻机上，继英特尔今年 4 月完成全球首台商用 High NA EUV 光刻机的组装后，英特尔的第二台 High NA EUV 光刻机也即将运抵俄勒冈州研发晶圆厂。...

另一家中国光刻机厂商浮出水面！;作者：电子创新网张国斌 编者注：目前中国本土只有ABM Inc.与SMEE为自主研发、设计、且拥有包括核心零部件和重要子系统自主知识产权的光刻机整机集成制造商。这是...

IC国家标准发布 俄罗斯首台光刻机完成 三星传出罢工 1 NAND Flash厂商营收排名 根据TrendForce集邦咨询研究，受惠于AI 服务器自二月起扩大采用Enterprise...