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研发客服据宁波前湾新区管理委员会7月15日消息，近日宁波冠石半导体有限公司迎来关键节点，引入首台电子束掩模版光刻机。据悉，该设备是光掩模版40nm技术节点量产及28nm技术节点研发的重点设备。
光掩模版是集成电路制造过程中光刻工艺所使用的关键部件，类似于相机“底片”，光线经过掩膜版后，可在晶圆表面曝光形成电路图形。目前，我国高精度半导体光掩模版产品主要仍依赖于进口，国产化率极低。
据了解，冠石半导体主要从事45nm~28nm半导体光掩模版的规模化生产。当前，冠石半导体一期洁净车间设计产能为月产5000片180nm~28nm集成电路掩模版。据冠石相关负责人介绍，企业正加速推进海外布局战略，并在世界一流半导体光掩模版制造技术班底的加持下，预计今年底，企业将陆续实现为国内外中高端集成电路掩模版提供制版服务。
此次引入电子束掩模版光刻机，冠石半导体将成为国内技术能力先进的独立光掩模版生产企业，可填补国内高阶制程光掩模空白，打破国外高端光掩模版的垄断局面，提高我国半导体光掩模产业的安全和可控性。
公开媒体此前报道，南京冠石科技股份有限公司于2023年5月16日与宁波前湾新区管理委员会签署《投资协议书》，投资建设半导体光掩膜版制造项目。该项目实施主体为宁波冠石半导体有限公司，项目总投资约20亿元，先期投资16亿元，拟用地约68.8亩，建设周期计划为60个月，主要生产45nm~28nm成熟制程的半导体光掩膜版。
封面图片来源：拍信网
文章来源于:全球半导体观察 原文链接
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