资讯
鼎龙（仙桃）半导体材料产业园投产仪式举行(2023-11-20)
面积11.5万平方米，项目总投资约10亿元。历经15个月的建设，同步迎来千吨级半导体OLED面板光刻胶（PSPI) 、万吨级CMP抛光液（Slurry）和万吨级CMP抛光液......
SK 海力士开发出可重复使用的半导体 CMP 抛光垫技术(2023-12-27)
SK 海力士开发出可重复使用的半导体 CMP 抛光垫技术;12 月 27 日消息，根据韩媒 ETNews 报道，SK 海力士近日研发出了可重复使用的 CMP 抛光垫技术，不仅可以降低成本，而且......
鼎龙股份：目前已在28nm节点HKMG制程的铝制程抛光液产品上取得了突破(2022-09-29)
材料厂商购买可能会面临成本、质量、甚至不供应部分关键型号的“卡脖子”问题。鼎龙股份实现了研磨粒子的自主研发与制备，并在鼎龙仙桃光电半导体材料产业园万吨级抛光液生产车间的旁边也规划建设了万吨级研磨粒子的生产车间，这保......
上海芯谦拟投建一条年产10万片的半导体用抛光垫生产线(2021-08-16)
上海芯谦拟投建一条年产10万片的半导体用抛光垫生产线;8月16日，浦东时报刊登了芯谦集成电路和大硅片用抛光垫产业化项目环境影响报告书公众意见征求的登报公示。
公示内容显示，上海......
陶氏工厂发生爆炸，影响光刻胶供应？(2023-07-18)
应全球重要的CMP材料包括抛光垫、抛光液等。
从产业地位来看，陶氏化学在全球光阻剂市占率约17%，CMP抛光垫市占79%，CMP抛光液市占率约15%左右。
半导体业界人士表示，陶氏......
光刻胶供应商陶氏化学美国路易斯安那厂区发生爆炸，目前还在调查当中(2023-07-17)
%的光阻剂市场占有率、79%的CMP抛光垫市场占有率，以及15%的CMP抛光液市场占有率。因此，陶氏化学工厂爆炸引发了不少半导体业界人士的关注。
封面图片来源：拍信网......
首发｜安储科技完成Pre-A轮融资，为半导体领域提供更佳的抛光清洗方案(2024-03-19)
性能优异，清洗时间短，并可稀释使用，降低客户成本。
基于多年的半导体材料开发经验，在硅基制程CMP后清洗方面安储科技也开发了一系列清洗产品。 半导体制程中化学机械抛光（CMP）后表面易产生研磨粒子，有机......
鼎龙股份：氧化铝抛光液产品已通过客户端验证，并开启计划采购(2022-03-11)
显示，近日鼎龙股份控股子公司武汉鼎泽新材料技术有限公司的氧化铝抛光液产品在某家公司28nm节点HKMG工艺的Al CMP制程验证通过。
图片来源：鼎龙股份公告截图
鼎龙股份称，该产......
半导体设备企业晶亦精微科创板IPO成功过会(2024-02-06)
设备的研发、生产、销售及技术服务，主要产品为化学机械抛光（CMP）设备及其配件，并提供技术服务。公司前身为四十五所 CMP 事业部，四十五所是半导体专用设备的国家重点研制生产单位，参与......
逾10个，国内半导体产业项目遍地开花！(2024-10-30)
材料研发、制造和销售的科技型企业，主要产品与服务有抛光垫（PAD）、抛光液（Slurry）、金刚石修整盘、精密抛光头零部件及组装服务（Head Rebuild）等，是实现半导体......
半导体材料供应商盘点及市场竞争格局分析（附表格）(2021-08-12)
跟上因新冠疫情而产生的计划外的需求。
图2 全球半导体材料市场构成 制图：国际电子商情 数据来源：SEMI
硅片、掩膜版、光刻胶、电子特种气体、CMP抛光材料、湿化学品、溅射靶材是重要的半导体原材料。据SEMI此前......
鼎龙股份拟斥资2亿元成立先进材料研究院 重点布局半导体工艺材料等(2021-09-16)
产学研合作。
据介绍，鼎龙股份目前重点聚焦光电成像显示及半导体工艺和显示材料领域，其及子公司已开展多项半导体工艺材料、半导体显示材料及其上游原材料的研究项目，如：CMP抛光垫、抛光液、清洗液等，抛光......
“造芯”热潮下，关于半导体材料你知道多少？(2020-09-01)
材料业在封装基板、CMP抛光液、湿电子化学品、引线框等部分的技术标准达到先进水平，靶材、电子气体、硅片、化合物半导体、掩模版本土生产实现突破，光刻胶、抛光垫、碳化硅、高纯石英材料等与先进技术存在较大差距，在许......
8家碳化硅相关企业完成融资(2025-01-25)
碳化硅和氮化镓以及先进制程的纳米级氧化铈颗粒及铈基CMP抛光液自主研发、生产、销售、服务为一体的新材料公司，聚芯半导体专注于28nm、14nm及更先进制程国产化需求迫切的纳米二氧化铈CMP抛光材料领域。
其研......
中芯国际新专利已获授权！(2023-08-23)
知识产权局官网截图
中芯国际专利指出，目前在半导体器件的的制造工艺中，经常会在具有叠层结构的半导体器件表面上形成凸凹不平的结构，通常使用化学机械研磨(CMP)工艺平整凸凹不平的表面。化学机械研磨亦称为化学机械抛光......
永光抢进第三代半导体(2021-09-13)
永光抢进第三代半导体;永光跨入第三代半导体市场，受瞩目。化工厂永光积极开拓电子化学品市场，投入开发碳化硅（SiC）基板抛光制程的抛光液，传已小量出货给硅晶圆厂。
市场近期传出永光的碳化硅基板抛光制程抛光液......
中机新材与南砂晶圆签订战略合作框架协议(2024-05-27)
订了战略合作框架协议。
资料显示，中机新材专注于针对硬脆材料及先进制造所需的高性能研磨抛光材料的技术研发、生产及销售的高新技术企业。公司在第三代半导体SiC晶圆研磨抛光应用领域，并取得多项关键性技术突破。公司......
鼎龙股份：CMP抛光垫7月份的单月销量首次突破一万片(2021-08-19)
工艺材料业务板块的主要产品包括CMP抛光垫、清洗液及柔性显示基材PI浆料；打印复印通用耗材业务板块的主要产品包括彩色聚合碳粉、通用耗材芯片、显影辊、硒鼓、墨盒等。
报告指出，2021年上半年度，公司的光电半导体......
鼎龙股份：拟新建集成电路CMP用抛光垫项目及集成电路制造清洗液项目(2021-01-15)
股份是打印复印耗材龙头，近年向半导体材料领域持续拓展。公司主营打印复印通用耗材和光电半导体工艺材料。光电半导体工艺材料业务是公司近年重点布局的业务领域，主要产品包括：化学机械CMP 抛光垫、清洗......
中芯国际换帅；国内再添一集成电路学院；一工厂突发爆炸(2023-07-24)
%的CMP抛光垫市场占有率，以及15%的CMP抛光液市场占有率。
针对此次事件，陶氏化学路易斯安那运营部随后发表声明表示，陶氏化学紧急行动中心正在与当地和州政府机构密切合作，以应......
安集科技拟募集资8.80亿元，加码集成电路材料(2023-07-18)
安集集成电路材料基地自动化信息化建设项目、宁波安集新增2万吨/年集成电路材料生产项目、安集科技上海金桥生产基地研发设备购置项目等。
资料显示，安集科技成立于2006年，是国内领先的半导体抛光液......
华海清科：CMP设备已实现28nm制程所有工艺全覆盖，目前已批量供货(2022-09-07)
的几个关键工艺CMP设备已经在客户端同步开展验证工作。
华海清科用于第三代半导体的CMP设备已在多领域实现市场应用，目前有6英寸、8英寸及6英寸和8英寸兼容的不同型号可供客户选择。第三代半导体材料比较硬，抛光时需要提供更大的抛光......
鼎龙控股集团：子公司鼎汇微电子取得首张海外CMP抛光垫订单(2021-12-02)
垫产品一次性通过验证，彻底打消了某国际半导体巨头技术专家的疑虑，双方正式开启合作之路。这也意味着鼎龙控股集团将首次应用中国制造的CMP抛光垫，这也是鼎汇取得的首张海外订单，数量80片。
图片......
清华系！CMP厂商华海清科登上科创板(2022-06-09)
清科首次公开发行股份数量为2666.67万股，发行价格136.66元。本次共计募集资金36.44亿元，投资于高端半导体装备（化学机械抛光机）产业化项目、高端半导体装备研发项目、晶圆......
2023半导体制造工艺与材料论坛(2023-08-30 15:16)
材料的要求—适用于系统级封装（SiP)、堆叠封装、异构集成等新型封装架构的先进封装材料解决方案—集成电路领域化学机械抛光液—大尺寸硅片、先进光刻胶、聚酰亚胺、底部填充胶、高端塑封料、电镀液、键合胶等—基于智能剥离技术的化合物半导体......
稳健发展，安集科技2022年预增净利润：约165.42%~117.45%(2023-02-01)
步加速国产替代进程。
公司持续研发投入，在铜及铜阻挡层抛光液、介电材料抛光液、钨抛光液、基于氧化铈磨料的抛光液、衬底抛光液、功能性湿电子化学品和新材料新工艺的基础上，公司......
稳健发展，安集科技2022年预增净利润：约165．42%~117．45%(2023-02-01 14:46)
步加速国产替代进程。公司持续研发投入，在铜及铜阻挡层抛光液、介电材料抛光液、钨抛光液、基于氧化铈磨料的抛光液、衬底抛光液、功能性湿电子化学品和新材料新工艺的基础上，公司......
中电四公司公布常州承芯二期机电等一批项目重要进展(2022-10-21)
万华电子材料二期项目桩基已于8月19日开工。该项目是“半导体新材料制备与应用技术”项目，项目建成后，将助力化学机械抛光液和抛光垫市场国产化进程。
常州承芯二期机电项目已于9月28日提......
4家碳化硅厂商完成新一轮融资(2024-03-21)
于先进电子材料研发、生产和销售，主营产品为配方型功能电子化学品（如抛光液、清洗液， 湿法刻蚀液， 光刻胶剥离液等）以及电子特气安全存储负压钢瓶两大产品系列。
中科创星提到，碳化硅（SiC）作为宽禁带半导体......
取代CMP工艺，牛津仪器开发SiC衬底加工新方法(2022-08-26)
取代CMP工艺，牛津仪器开发SiC衬底加工新方法;近日，英国半导体设备厂商Oxford Instruments（牛津仪器）宣布开发了全新的SiC衬底加工新工艺，并验证了兼容HVM的SiC衬底等离子抛光......
半导体设备厂商华海清科科创板成功过会(2021-06-18)
书资料显示，华海清科成立于2013年，是一家拥有核心自主知识产权的高端半导体设备制造商，主要从事半导体专用设备的研发、生产、销售及技术服务，主要产品为化学机械抛光（CMP）设备。
据招股书介绍，华海......
近20个半导体项目迎最新进展！(2023-11-30)
材料产业园占地218亩，建筑面积11.5万平方米，项目总投资约10亿元。历经15个月的建设，同步迎来千吨级半导体OLED面板光刻胶（PSPI) 、万吨级CMP抛光液（Slurry）和万吨级CMP抛光液......
中电科8英寸抛光设备进入中芯国际、华虹宏力等大线(2021-07-09)
芯片制造企业提供离子注入机一站式解决方案。
此外，中电科的化学机械抛光设备(CMP)和湿法设备作为集成电路制造核心、关键设备，也取得了新突破。
北京亦庄发文称，中电科200mm抛光......
众硅科技完成近2亿元融资 加速12寸CMP设备商业化落地(2021-12-03)
从事集成电路高端设备——化学平坦化抛光（CMP）设备的研发、制造和销售，为国内半导体行业和其他先进科技领域提供技术和高效服务。
官方资料显示，众硅科技的CMP 8寸线成功实现抛硅工艺量产，自主研发出国内首台8寸抛......
国家奖项公布：华润微/士兰微等集成电路A股企业上榜(2024-07-01)
显示器件高分辨率喷印制造技术与装备》、《高压大容量直流开断半导体器件、关键技术与系列化直流断路器》等。
其中，《集成电路化学机械抛光关键技术与装备》项目......
首届SiC.GaN加工技术展览会全面启动(2024-07-16)
研究人员交流的展会。
参展商相信，他们将能够利用最新的技术和知识为参观者提供这些问题的最佳答案。在SiC.GaN加工技术博览会上，我们将能够展示与先进功率半导体晶圆加工相关的切片（切割）、研磨、抛光......
再破“卡脖子”难题！国内集成电路装备添重器(2021-10-08)
出华海清科股份有限公司，是目前我国唯一一家12英寸CMP商业机型的高端半导体设备制造商。
封面图片来源：拍信网......
半导体设备厂商吉姆西已开启辅导备案登记(2024-11-21)
设备平台型公司。公司主要从事各类半导体工艺设备、工艺辅助设备、CMP耗材等的研发、制造、销售及服务。企业自主品牌设备类产品主要为前道主工艺设备，如化学机械抛光设备（CMP）、湿法......
华为的“钻石芯片“专利，是什么？(2023-11-21)
么要用金刚石造芯片？
这是因为金刚石就是个六边形战士，甚至可以称之为“终极半导体材料”，造出来的芯片也天生更优秀。可以说，金刚石就是材料中的“天才”，国内业界会称其为“第四代半导体”，国外则主要用“超宽禁带半导体”的名......
持股10%，华为再投资一家半导体设备公司(2022-02-15)
显示，特思迪半导体是一家成立于2020年3月的半导体产业初创公司，专注于半导体领域高质量表面加工设备的研发、生产和销售。主要产品包括减薄、抛光、CMP、贴腊、刷洗等专用设备，重点应用于碳化硅、氮化......
中国半导体该如何崛起？材料/设备/软件国产化才是重点！(2020-06-19)
产业链基础薄弱，打造完整的供应链体系相当困难。究竟半导体产业链各环节的国产化程度如何？
（一）、上游材料主要被日美企业垄断
半导体上游材料主要由硅晶圆、光刻胶、光掩膜版、特种气体、CMP抛光......
国内又一批半导体产业项目迎新进展！(2024-03-27)
垫材料领域进行布局，主要聚集CMP抛光垫、CMP抛光液、清洗液产品，半导体显示材料领域的YPI、PSPI产品，并在半导体产业链下游的国内主流晶圆厂、显示面板厂放量销售并稳定供货。
鼎龙股份表示，公司将重点聚焦半导体......
立昂微：12英寸轻掺测试片实现批量出货、正片送样验证(2021-07-20)
微表示公司非常支持国内的设备厂商。目前硅片生产线拉单晶环节使用的单晶炉设备已全部实现国产化；外延环节，6英寸硅片基本实现全面国产化替代，8英寸、12英寸硅片抛光机和外延清洗设备主要仍依赖进口。公司的功率半导体......
应用材料公司全新技术助力领先的碳化硅芯片制造商，加速向200毫米晶圆转型并提升芯片性能和电源效率(2021-09-11)
部正在为 SiC 电源芯片市场开发更多具备 PVD*、CVD*、刻蚀和工艺控制的产品。应用材料公司在美国时间9月8日举办的 上，详细探讨了公司在助力 SiC 和其它特殊半导体技术发展中所发挥的作用。
*CMP......
华海清科集成电路高端装备研发及产业化项目奠基(2023-06-30)
目由子公司华海清科（北京）科技有限公司负责，用于开展高端半导体设备研发及产业化，将进一步扩大公司生产经营规模。
据通州区马驹桥镇官方消息，华海清科集成电路高端装备研发及产业化项目位于马驹桥镇智能制造基地，主要涉及化学机械抛光......
国际巨头签订长约，全球SiC争夺战持续(2021-09-16)
和外延片。
扩产方面，昭和电工8月23日宣布，将筹措约1100亿日元资金，其中约700亿日元将用于扩增SiC晶圆、研磨液(CMP Slurry)等半导体材料产能。
罗姆则计划在今后5年内投资600亿日......
多个芯片概念股涨停！涉及第三代半导体等领域(2022-02-23)
、PVD、清洗机等设备，氮化镓方面可以提供刻蚀、PECVD、清洗机等设备。
安集科技目前最新市值达130.94亿元，该公司主营业务为关键半导体材料的研发和产业化，目前产品包括不同系列的化学机械抛光液......
5家半导体企业科创板IPO迎来新进展！(2022-04-08)
设备扩产、先进半导体设备的技术研发与改进，以及ALD设备研发与产业化等项目。
华海清科/海光信息提交注册
01华海清科计划募集资金约10亿
4月6日，国产化学机械抛光......
华海清科北京厂区正式启用(2025-01-16)
京厂区位于北京市亦庄新城，总建筑面积为7万多平方米，用于开展高端半导体装备研发及产业化，启用后将进一步推动更多的湿法、减薄、化学机械抛光等先进半导体装备在此诞生，整体......
国产半导体设备厂商如何筑起专利墙？(2022-12-29)
国产半导体设备厂商如何筑起专利墙？;
在2019年3月20日的盛美半导体设备（下简称“盛美”）新品发布会上，公司董事长兼首席执行官王晖博士提到最多的一个词就是“专利......
相关企业
;惠州市惠阳区镇隆东安五金塑胶加工厂;;在许多先进的半导体元件制造中，化学机械抛光（CMP）是非常很需要的制造技术。化学机械抛光在特定的制造步骤间，让硅晶圆表面达到全面的平面化，使更
;济宁正邦金属表面技术;;全面酸洗钝化膏、铜抛光液、钝化液、电解抛光液
;郑州银利磨料磨具有限公司;;本厂始建于1986年，位于郑州市郑上路工贸园区，是研制生产抛光机设备，专用精抛光磨料磨具、精抛光液、防锈液、非金属上销、化工助剂辅料的专业厂家。 本厂
;邵荣;;主要经营金属表面处理、不锈钢电解抛光设备、不锈钢电解抛光机、不锈钢电解抛光液、不锈钢电解抛光机、点化学抛光、电化学抛光机械抛光等产品我公司真诚欢迎广大新老客户来电来人洽谈
;恩泽（天津）研磨有限公司;;主营产品磨具磨料、砂纸、砂布、砂布带、抛光轮、平面砂布轮、砂布卷、砂纸卷、百洁布、打磨片、抛光液、抛光蜡、抛光机、打磨机、口罩、羊毛球、气动工具、以品种齐全、价格
;佛山市南海区丹灶老唐抛光设备店;;本公司主要经营抛光机;研磨石;抛光液;清洗剂;防绣剂;研磨液;等。公司秉承"顾客至上，锐意进取"的经营理念，坚持"客户第一"的原则为广大客户提供优质的服务。欢迎惠顾！
的检测手段和良好的服务体系。 主要产品有：硝酸、盐酸、不锈钢酸洗钝化膏、除锈防锈剂、多用酸洗缓蚀剂、不锈钢酸洗钝化液、擦铝水、抛光膏、不锈钢光亮酸洗液、碳钢酸洗液、钝化液、化学抛光液、电解抛光液、除垢液、无酸
，弯管内 、 外壁抛光2、卫生级 ( 食品级 ) 无缝不锈钢管 外壁和内壁抛光，弯管内 、 外壁抛光 3、半导体工业用超纯净、高真空设备及配管的内壁抛光（研发中） 4、SMT 激光切割模板 5、汽车
;恩泽（天津市）科技有限公司;;公司的主营产品磨具磨料、砂纸、砂布、砂布带、抛光轮、平面砂布轮、砂布卷、砂纸卷、百洁布、打磨片、抛光液、抛光蜡、抛光机、打磨机、口罩、羊毛球、气动工具、以品
服务均受到客户好评。 本公司主要产品包括不锈钢电解抛光设备、不锈铁电解抛光设备、环保电解抛光液、半自动电解抛光设备、全自动电解抛光设备、电解抛光生产线、三相高频电镀开关电源、单相高频电镀开关电源、PP/PVC电镀槽、多功