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研发客服7月8日，在北京亦庄创新发布会上，中电科电子装备集团有限公司发布了离子注入机、化学机械抛光设备、湿法设备等多项技术上的创新成果，为国内外芯片制造企业提供一站式解决方案。
作为集成电路制造前道工序中的关键设备，离子注入机的研发难度仅次于光刻机。由于离子注入机对洁净度要求很高。在芯片制造过程中，通常有70多道离子注入工序，因此，这种装备的注入能量要控制得很精准，还要在很多工艺技术上精益求精。
△Source：北京亦庄
据中电科电子装备集团有限公司战略计划部主任李进透露，中电科已实现了离子注入机全谱系产品国产化，可为芯片制造企业提供离子注入机一站式解决方案。
此外，中电科的化学机械抛光设备(CMP)和湿法设备作为集成电路制造核心、关键设备，也取得了新突破。
北京亦庄发文称，中电科200mm抛光设备已经进入到中芯国际、华虹宏力、台积电、联电等大线，被中芯国际誉为“唯一置换率100%的国产设备供应商”。
并且，中国电子科技集团自主研发的湿法设备和先进封装设备也取得了多项突破。据李进介绍，电科装备8英寸CMP设备国内市场占有率已达70%，12英寸CMP进入客户验证阶段，性能表现优异；湿法设备已进入到8英寸集成电路外延片加工和芯片制造领域。
多年来，中国电子科技集团攻克了数百项集成电路制造装备关键技术，支撑了半导体和新兴电子元器件产业的快速发展，为国内外用户提供了1万多台（套）电子制造装备。
封面图片来源：拍信网
文章来源于:全球半导体观察 原文链接
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