光刻机专利

器、能量探测器、掩膜版、掩膜台、物镜、内部封闭框架和减震器等11个模块的组件。 即便的光刻机专利是全世界最先 进的，没有这些上下游产业链支持，也是白搭。尤其是光刻机...

。 国际电子商情从“中国专利公布公告”上查询得知，该专利于2016年9月9日在中国专利局申请，申请人是华为技术有限公司，发明人为弗洛里安·朗诺斯。换言之，华为早在4年前就开始着手光刻机...

独家供应商，每台EUV光刻机中包含了三万多个由蔡司提供的组件。蔡司在EUV技术方面拥有超过2000项核心专利，其掌握的技术可以在高性能先进芯片生产中发挥重要作用。 未来，三星...

压印技术，完全有替代EUV光刻机的可能性，目前国内也在研究这个技术。 不过研究最好的还是日本的佳能，佳能在NIL技术上专利全球最多，且已经有了量产机器，目前在改进精度，希望国产加油，也能够赶紧推出NIL光刻机...

麦和卡尔蔡司在未经尼康许可的前提下，在阿斯麦的光刻系统中使用尼康的专利技术。” 当前，光刻系统被广泛应用于制造半导体，而阿斯麦又主导着半导体光刻机市场。评级机构“惠誉评级”（Fitch...

10亿一台仍供不应求！目前，全球最先进的光刻机是由荷兰ASML制造的EUV光刻机，台积电、三星的7nm制程均离不开它。EUV光刻机精密复杂，这些技术掌握在由42个国家组成的专利...

的时间。1984年，正是他在一项美国专利中定义了浸入式光刻机最基本的结构特征，即在最后一级物镜与光刻胶之间充入一层透明的液体。只可惜这项专利诞生的“过早”，真正意义上的浸入式光刻...

芯片等工艺水平并不高，这各等级的芯片中国已经实现了从光刻机到芯片的完全自主化生产。真正困难的在于7nm的芯片，也就是华为遭到断供的手机芯片。 这种工艺的手机芯片，不仅需要荷兰ASML先进的EUV光刻机...

%，而尼康当年光刻机业务亏损达到70亿日元，双方当初的十年之约也已到期，尼康又卷土重来。 2017年，尼康就就浸没式光刻相关11项欧洲专利和2项日本专利分别在荷兰海牙 、德国曼海姆和日本东京对ASML...

微电子和中科院光电所技术创新优势明显，位列前三位。作为半导体设备行业龙头，它们也是当前设备领域国产替代的主力军。北方华创一直致力于生产薄膜沉积、刻蚀两种核心工艺设备。上海微电子以光刻设备研发为核心，其专利布局主要集中于光刻机...

取得了巨大的成功，ASML成为光刻机市场的老大，台积电则在芯片居于全球领先水平，而日本的佳能和尼康则迅速衰落。 自进入5G时代后，我国在诸多科技领域赶上甚至对西方形成了反超，比如华为，这是全球5G核心专利...

格科微12寸CIS项目正式搬入ASML先进ArF光刻机;3月26日，格科微官微宣布，目前公司“12英寸CIS集成电路特色工艺研发与产业化项目”推进迅速。厂房和洁净车间建设已经基本完成，今年2月16...

形成积极的反馈循环。 2022 年 11 月 15 日，国家知识产权局公开了华为突破性的新专利「反射镜、光刻装置及控制方法」，代表着极紫外（EUV）光刻机核心技术的重大进步。 「但技术的演进需要多年的持续研发，我们...

初的宽谱紫外向g线-i线-KrF-ArF-EUV(13.5nm)发展，提高极限分辨率来满足不断精进的光刻技术需求。当前，半导体市场对g线和i线光刻胶的使用量最大，KrF、ArF、EUV光刻胶主要配合高端的光刻机...

工程院院士吴汉明：本土可控的55nm芯片制造，比纯进口的7nm更有意义;4月26日消息，日前，在中国工程院主办的“中国工程院信息与电子工程前沿论坛”上，中国工程院院士吴汉明对光刻机、产业...

突破了纳米材料应用的极限，二是不需要光刻机。 首先，传统的芯片是基于硅打造的，目前量产的最先进的硅基芯片是5nm，而即使未来能够做到1nm，那也就是极限了。但量子是已知物理中最小的单位，如果要追求更小、更精...

这种原材料主要掌握在国外企业手中，全球的年产量为6万吨，国内产业约为5000吨。而且，均苯四甲酸二酐的纯度关乎于聚酰亚胺的成败，如果纯度不够，更容易产生副反应，导致生产的聚酰亚胺纯度不达标。 专利壁垒 如今的光刻...

国产刻蚀设备凭什么后发赶超？（附厂商盘点）;刻蚀设备的一些基本知识 1.基本原理 前道的晶圆加工包括十余道工艺，有氧化、扩散、退火、离子注入、薄膜沉积、光刻、刻蚀、化学机械平坦化（CMP）等。其中最关键的三类主设备是光刻机...

一场“国产光刻机”的奇葩说; 关于“中国研制成功世界首台分辨力最高紫外超分辨光刻装备”的新闻已经过去好几天了，新闻的热度与这天气一样，慢慢转凉。笔者...

和大日本印刷等公司则规划在 2025 年将该技术实用化。[1] 在本文中，你将了解到：纳米压印光刻能绕开光刻机吗，纳米压印光刻对比光刻机有哪些优劣势，纳米压印光刻是国产的另一种出路吗。 付斌 | 作者 李拓...

事关EUV光刻技术，中国厂商公布新专利;近日，据国家知识产权局官网消息，华为技术有限公司于11月15日公布了一项于光刻技术相关的专利，专利申请号为202110524685X。 集成...

霸道至极！传美国对ASML施压：不准向中国厂商提供光刻机工具维修服务！;作者：电子创新网张国斌 据外媒报道两位知情人士表示，美国总统乔·拜登政府计划下周向荷兰施压，阻止...

技术装备推广应用指导目录（2024 年版）》（以下简称“《目录》”）。 该《目录》列表中提到和氟化氪光刻机氟化氩(ArF)光刻机。其中氟化氪光刻机光源248纳米，分辨率≤110nm，套刻≤25nm...

另一家中国光刻机厂商浮出水面！;作者：电子创新网张国斌 编者注：目前中国本土只有ABM Inc.与SMEE为自主研发、设计、且拥有包括核心零部件和重要子系统自主知识产权的光刻机整机集成制造商。这是...

佳能产日本首台半导体光刻机PPC-1发售50周年;佳能于1970年发售了日本首台半导体光刻机PPC-1，今年是佳能正式投入半导体光刻机领域50周年。半导...

于产品的国产替代，快速开拓市场。为加快先进光刻胶的研发，苏州瑞红在原有3台光刻机的基础上，又斥资数亿新购进KrF、ArF两台先进制程的光刻机，组成5台光刻机为核心的全系列光刻胶研发平台。同时，苏州...

三家光刻机龙头企业积极回应半导体市场需求;当前半导体产业链分化现象日益明显，消费电子市场芯片亟待"去库存"，然而车用芯片等市场仍旧供不应求，上游半导体设备供应紧俏引发关注，其中光刻机...

ASML下代EUV光刻机年底问世：1nm工艺; 据报道，在工艺进入7nm节点之后，EUV光刻机是少不了的关键设备，目前只有能制造，单台售价10亿人民币，今年底还会迎来下一代EUV光刻机，价格...

ASML再次改口！国家迅速回应，外媒：荷兰将光刻机事情闹大了;近年来，行业发展迅猛，成为半导体产业的重要一环。公司作为全球行业的龙头企业，其对华出口的态度一直备受关注。然而，最近...

全球只有5家客户 ASML今年将出货60台EUV光刻机; 随着工艺进入到5nm节点以内，对EUV的需求也不断增长，目前全球只有ASML一家公司能够生产EUV光刻机，今年...

国产光刻机获重大突破，ASML如何应对？;      中国科学院院士、中国科学院党组书记白春礼于4月13日访问长春光机所，调研EUV光源等技术，高度肯定光电关键核心技术攻关成果。国产光刻机...

ASML第2代EUV光刻机开发传瓶颈，神队友救援力拼原时程问世;极紫外光刻机（EUV）目前是先进半导体制程中，不论是DRAM或晶圆代工生产过程中，进一步提升效能的关键之一。而目前荷兰商ASML则是...

化学等。 今日所述的JSR东京日化、信越化工、住友化学等则是业界知名的日本光刻胶企业。从市场格局来看，日本占据了全球9成左右的光刻胶市场份额，并且全球专利分布前十的光刻胶公司，约有7成来...

盛美上海：Track设备预计明年年中完成与光刻机对接工艺测试;12月21日，盛美上海披露最新的调研纪要，公司Track设备目前在客户端验证进展顺利，预计在明年年中有望完成与光刻机的对接工艺测试；此外...

上海新阳：ASML干法光刻机设备顺利交付;3月8日，上海新阳发布公告披露其购买光刻机设备进展情况。 公告显示，公司自立项开发193nmArF干法光刻胶的研发及产业化项目以来，安排购买了ASML...

首台ASML光刻机搬入！中国再添一座12英寸车规级晶圆厂; 为了遏制中国科技发展，美方不仅施压荷兰光刻机制造商，还一直试图要求该公司禁止对华销售部分旧款光刻机，以及...

上海新阳半导体：公司采购的ASML干法光刻机设备顺利交付;3月8日晚间，上海新阳半导体发布公告，称其购买的了ASML-1400光刻机设备已顺利交付。 上海新阳半导体材料股份有限公司(以下简称“公司...

阿斯麦已在韩国开设EUV光刻机培训中心 全球培训能力将提升30%;据外媒报道，随着芯片厂商大量采用更先进的极紫外光刻机，对阿斯麦这一类光刻机的需求也明显增加，他们...

下代EUV光刻机要来了 炬光科技：是ASML核心供应商的重要供应商;1月25日消息，针对投资提问ASML的新一代光刻机EXE:5200是否使用了炬光科技的产品，炬光科技回应称公司是ASML公司...

售价3.8亿美元！ASML正式宣布，外媒：光刻机市场“变天”了！; 芯片规则实施之后，台积电与中企的合作被中断，而身为全球唯一能够制造EUV光刻机的ASML，自然也成为了美国的主要针对对象，在签...

晶瑞股份顺利购得ASML ArF浸入式光刻机;近日，苏州晶瑞化学股份有限公司（以下简称“晶瑞股份”）发布公告称，经多方协商、积极运作，公司已顺利购得ASML XT 1900 Gi型光刻机一台，并于...

晶圆代工厂“头疼”？阿斯麦Hyper-NA EUV售价或超7.24亿美元;近日，据朝鲜日报报道，阿斯麦（ASML）将针对1纳米以下制程，计划在2030年推出更先进Hyper-NA EUV光刻机...

3倍，光刻机巨头扩产;面对全球芯片短缺，英特尔、台积电、三星等全球主要的半导体制造商纷纷扩大产能。3月29日，据路透社消息，全球光刻机龙头大厂ASML也要增产了。 ASML在其...

胶已进入三星电子量产线的东进世美肯，也在准备为下一代的极紫外光刻机，也就是高数值孔径的极紫外光刻机（high-NA EUV）研发光刻胶。 相关媒体在报道中表示，东进世美肯研发高数值孔径极紫外光刻机投产后所需的光刻...

布林克（Martin van den Brink）近日称，这家光刻机制造商考虑推出一个通用 EUV 光刻平台。 范登布林克在本月 21~22 日举行的 2024 年度 imec ITF World 技术...

25亿一台！英特尔搞定2台史上最先进光刻机安装：展示内部画面不怕偷师; 10月10日消息，ASML新任CEO近日公开表示，两台High NA EUV光刻机（单台设备的售价约为3.5亿美...

尼康计划推出支持3D半导体的光刻机，目标2026年销量翻番;据日经新闻24日报道，尼康计划在2025财年（截至2026年3月）将把半导体光刻机主力机型的年销量增至2019-2021财年（截至2022...

ASML新一代EUV光刻机，一台售价近27亿元;据路透社报道，半导体设备巨头ASML正在着手研发价值4亿美元（约合人民币26.75亿元）的新旗舰光刻机，有望2023年上半年完成原型机，最早2025...

ASML今年发货第一台高NA EUV光刻机：成本逼近30亿元;EUV光刻技术的推进相当困难，光刻机龙头ASML也是举步维艰，一点点改进。ASML宣布，将在今年底发货第一台支持高NA(数值孔径)的...

新技术加持，国产光刻机有望获得新突破; 光刻机是集成电路制造的关键核心设备，为了在更小的物理空间集成更多的电子元件，单个电路的物理尺寸越来越小，主流光刻机在硅片上投射的光刻电路分辨率达到50...