盛美上海:Track设备预计明年年中完成与光刻机对接工艺测试

发布时间:2023-12-22  

12月21日,盛美上海披露最新的调研纪要,公司Track设备目前在客户端验证进展顺利,预计在明年年中有望完成与光刻机的对接工艺测试;此外,公司也在不断拓展新客户,目前有多家客户在洽谈。明年公司将聚焦KrF设备进入市场,同时公司也将研发浸没式ArF设备。

盛美上海预计明年公司清洗设备收入仍会保持增长,再叠加公司电镀、炉管设备的放量,公司对明年的业绩持乐观态度;到25-26年度,公司PECVD设备、Track设备开始实现销售收入,预计随着这两款设备市场的不断开拓,将再次推动公司业绩高增长。更长期来看,公司业绩增长将得益于海外市场的不断拓展,盛美的远期目标是国内和海外市场各占一半的收入。

盛美上海称,目前已有2台设备在美国客户处进行验证,其中1台已在今年确认收入,另外1台预计明年可以确认收入,此外公司也已经获得该客户第二台的背面及边缘清洗设备订单,预计明年一季度末交付。同时,公司也正在着手就其他设备与该客户进行洽谈,未来公司有望成为该美国客户的战略合作伙伴。国外市场客户更看重差异化的技术,具备自主差异化的专利IP将更能获取国际市场的竞争优势。

盛美上海表示,国际市场今年的整体需求相对低迷,预计到明年下半年国际客户的扩产将对国际市场需求带来一定的改善。

封面图片来源:拍信网

文章来源于:全球半导体观察    原文链接
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