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一种差异化布局的策略,现阶段能有效避免国内各材料厂商的同质化竞争,也反映了公司的创新思维和研发能力。 据悉,研磨粒子是 CMP 抛光液上游的核心原材料,之前被国外企业垄断,国内......
材料在化学和机械的共同作用下,材料表面达到所要求的平整度的一个工艺过程。抛光液中的化学成分与材料表面进行化学反应,形成易抛光的软化层,抛光垫和抛光液中的研磨颗粒对材料表面进行物理机械抛光将软化层除去。 图源:鼎龙股份 在 CMP......
耗材的生产与研发。芯谦通过与上海集成电路材料研究院引领的集成电路材料研发项目合作,启动本项目的建设。 报告书介绍称,化学机械抛光技术(CMP) 是集成电路制造中获得全局平坦化的一种手段,具体工艺由抛光设备、抛光液和抛光......
显示,近日鼎龙股份控股子公司武汉鼎泽新材料技术有限公司的氧化铝抛光液产品在某家公司28nm节点HKMG工艺的Al CMP制程验证通过。 图片来源:鼎龙股份公告截图 鼎龙股份称,该产......
精微主要从事半导体设备的研发、生产、销售及技术服务,主要产品为化学机械抛光CMP)设备及其配件,并提供技术服务。公司前身为四十五所 CMP 事业部,四十五所是半导体专用设备的国家重点研制生产单位,参与......
应全球重要的CMP材料包括抛光垫、抛光液等。 从产业地位来看,陶氏化学在全球光阻剂市占率约17%,CMP抛光垫市占79%,CMP抛光液市占率约15%左右。 半导体业界人士表示,陶氏......
面积11.5万平方米,项目总投资约10亿元。历经15个月的建设,同步迎来千吨级半导体OLED面板光刻胶(PSPI) 、万吨级CMP抛光液(Slurry)和万吨级CMP抛光液......
化学不仅拥有高纯度化学品产品线,还提供了一系列的光阻材料,包括光阻剂、光阻溶剂、光阻辅助剂等。同时,陶氏化学还是全球重要的CMP(化学机械抛光)材料供应商,包括抛光垫、抛光液等。 数据显示,陶氏化学目前在全球占有17......
首发|安储科技完成Pre-A轮融资,为半导体领域提供更佳的抛光清洗方案;EEWorld获悉,近日,张家港安储科技有限公司(以下简称“安储科技”)宣布已完成Pre-A轮融资,本轮......
鼎龙股份:CMP抛光垫7月份的单月销量首次突破一万片;8月18日,鼎龙股份发布2021年半年度报告。报告显示,上半年鼎龙股份实现营业收入10.96亿万元,较上年同期同比增长35.18%;实现归属于上市公司......
压力,针对这一特点,该公司研发了更大压力的抛光头及更精准的压力控制系统以满足客户需求。 在CMP设备方面,华海清科持续推进面向更高性能、更小节点的CMP设备......
一家面向第三代半导体碳化硅和氮化镓以及先进制程的纳米级氧化铈颗粒及铈基CMP抛光液自主研发、生产、销售、服务为一体的新材料公司,聚芯半导体专注于28nm、14nm及更先进制程国产化需求迫切的纳米二氧化铈CMP抛光材料领域。 其研......
产学研合作。 据介绍,鼎龙股份目前重点聚焦光电成像显示及半导体工艺和显示材料领域,其及子公司已开展多项半导体工艺材料、半导体显示材料及其上游原材料的研究项目,如:CMP抛光垫、抛光液、清洗液等,抛光......
人民币。其产品广泛应用于光通信、激光雷达、生物医学和先进装备等多个领域。 目前,芯辰半导体获得了深圳市创新投资集团领衔的亿元量级第一轮融资,建成投产的一期工厂规模已可比肩同行业上市公司。芯辰......
技术唯一可实现全面平坦化的工艺。CMP材料主要包括抛光液抛光垫、调节器、CMP清洗以及其他等耗材,其中抛光液和抛光垫占CMP材料细分市场的80%以上。 如今,全球CMP抛光液65%的市场被Cabot、日立、FUJIMI......
工艺用到的材料有抛光液抛光垫、调节器等,其中抛光液和抛光垫是核心材料,占比分别为49%和33%。据Cabot Microelectronics公开信息,2018年全球CMP抛光液市场约12.7亿美......
家自然科学奖,62项国家技术发明奖,139项国家科技进步奖。 据悉,在2023国家科学技术奖全名单中,有不少集成电路领域的企业上榜,包括华海清科、三安集成、华润微、士兰微等多家上市公司......
步加速国产替代进程。 公司持续研发投入,在铜及铜阻挡层抛光液、介电材料抛光液、钨抛光液、基于氧化铈磨料的抛光液、衬底抛光液、功能性湿电子化学品和新材料新工艺的基础上,公司......
步加速国产替代进程。公司持续研发投入,在铜及铜阻挡层抛光液、介电材料抛光液、钨抛光液、基于氧化铈磨料的抛光液、衬底抛光液、功能性湿电子化学品和新材料新工艺的基础上,公司......
清华系!CMP厂商华海清科登上科创板;6月8日,清华控股有限公司控股子公司华海清科股份有限公司(以下简称“华海清科”)在上交所科创板成功上市。 图片来源:上交所官网截图 华海......
永光抢进第三代半导体;永光跨入第三代半导体市场,受瞩目。化工厂永光积极开拓电子化学品市场,投入开发碳化硅(SiC)基板抛光制程的抛光液,传已小量出货给硅晶圆厂。 市场近期传出永光的碳化硅基板抛光制程抛光液......
CMP)设备厂商华海清科科创板IPO已提交注册,保荐机构为国泰君安证券股份有限公司。 据介绍,华海清科成立于2013年,是天津市政府与清华大学践行“京津冀一体化”国家战略,为推动我国化学机械抛光......
订了战略合作框架协议。 资料显示,中机新材专注于针对硬脆材料及先进制造所需的高性能研磨抛光材料的技术研发、生产及销售的高新技术企业。公司在第三代半导体SiC晶圆研磨抛光应用领域,并取得多项关键性技术突破。公司......
半导体设备厂商华海清科科创板成功过会;6月17日,上海证券交易所科创板上市委员会2021年第39次审议会议召开,华海清科股份有限公司(以下简称“华海清科”)(首发)获通过。 招股......
鼎龙股份:拟新建集成电路CMP抛光垫项目及集成电路制造清洗液项目;鼎龙股份14日公告,公司拟新建集成电路CMP抛光垫项目(三期)及年产1万吨集成电路制造清洗液项目。计划投资合计5.67亿元,本次投资资金来源为公司......
%的CMP抛光垫市场占有率,以及15%的CMP抛光液市场占有率。 针对此次事件,陶氏化学路易斯安那运营部随后发表声明表示,陶氏化学紧急行动中心正在与当地和州政府机构密切合作,以应......
合晶总市值140.56亿元。 值得一提的是,上海合晶由中国台湾上市公司合晶科技拆分上市,合晶科技不仅以47.88%的股份作为上海合晶的最大股东,还是其主要客户和最大的原材料供应商。据了解,上海合晶成立于1994年......
已取得显著成果,得到部分客户订单。根据公司未来业务扩展需要,公司拟收购上海晖研全部股权,以上市公司的平台和资源为上海晖研公司争取更多的市场资源,加快产品国产化替代速度,早一日实现公司的战略目标,加速......
鼎龙控股集团:子公司鼎汇微电子取得首张海外CMP抛光垫订单;12月1日,鼎龙控股集团宣布,经过在客户端的严苛验证,湖北鼎汇微电子材料有限公司(以下简称“鼎汇微电子”)用于W制程的12寸CMP抛光......
公司主要从事各类半导体工艺设备、工艺辅助设备、CMP耗材等的研发、制造、销售及服务。企业自主品牌设备类产品主要为前道主工艺设备,如化学机械抛光设备(CMP)、湿法......
安集集成电路材料基地自动化信息化建设项目、宁波安集新增2万吨/年集成电路材料生产项目、安集科技上海金桥生产基地研发设备购置项目等。 资料显示,安集科技成立于2006年,是国内领先的半导体抛光液......
万华电子材料二期项目桩基已于8月19日开工。该项目是“半导体新材料制备与应用技术”项目,项目建成后,将助力化学机械抛光液和抛光垫市场国产化进程。 常州承芯二期机电项目已于9月28日提......
中电科8英寸抛光设备进入中芯国际、华虹宏力等大线;7月8日,在北京亦庄创新发布会上,中电科电子装备集团有限公司发布了离子注入机、化学机械抛光设备、湿法设备等多项技术上的创新成果,为国......
增加51.82%;归属于上市公司股东的净利润约4.01亿元,相较去年同期的1.11亿元增长259.67%;归属于上市公司股东的扣除非经常性损益的净利润约3.63亿元,同比增幅更是达到1338.92......
取代CMP工艺,牛津仪器开发SiC衬底加工新方法;近日,英国半导体设备厂商Oxford Instruments(牛津仪器)宣布开发了全新的SiC衬底加工新工艺,并验证了兼容HVM的SiC衬底等离子抛光......
国内某集成电路龙头企业。 据清华新闻网报道,该装备是路新春教授团队与华海清科股份有限公司(以下简称“华海清科”)继解决我国集成电路抛光装备“卡脖子”问题后的又一突破性成果,将应用于3D IC制造......
集成对半导体材料的要求—适用于系统级封装(SiP)、堆叠封装、异构集成等新型封装架构的先进封装材料解决方案—集成电路领域化学机械抛光液—大尺寸硅片、先进光刻胶、聚酰亚胺、底部填充胶、高端塑封料、电镀液、键合胶等—基于......
后因其晶圆和机台的清洗工艺流程更长,也提高了SiC晶圆的制造成本。因此,目前SiC衬底的抛光液和清洗液由国际厂商主导,在国内仍属新兴领域。 海乾半导体完成A轮融资 3月18日,杭州海乾半导体有限公司......
显示,晶亦精微主营半导体设备的研发、生产、销售及技术服务,主要产品为化学机械抛光CMP)设备及其配件,并提供技术服务。 此次发行上市,晶亦精微拟募资12.9亿元,投向“高端......
,华海清科集成电路高端装备研发及产业化项目奠基。该项目位于马驹桥镇智能制造基地,由子公司华海清科(北京)科技有限公司负责,主要涉及化学机械抛光CMP)设备、减薄机的研发和产业化。项目达产后,将具备28......
半导体装备订单量实现同比快速增长 晶盛机电前三季度净利润同比预增70%-90%;10月11日,晶盛机电发布2022年前三季度业绩预告,公司预计前三季度归属于上市公司......
众硅科技完成近2亿元融资 加速12寸CMP设备商业化落地;近日,杭州众硅电子科技有限公司(以下简称“众硅科技”)宣布完成新一轮近2亿元融资,本轮融资由毅达资本联合宁波工投集团领投,兴橙资本、宝鼎......
晶圆表面的任何缺陷都将传递至后续各层次。为了量产具有最高质量表面的均匀晶圆,应用材料公司开发了 Mirra® Durum™ CMP* 系统,此系统将抛光、材料去除测量、清洗和干燥整合到同一个系统内。这一......
继安森美等碳化硅收购案后,又有2家碳化硅企业被收购;继安森美等几起碳化硅收购案之后,市场上又有了碳化硅企业的新消息。 近期,半导体材料公司Soitec刚宣布收购案结果,就在此时,马来西亚上市公司......
助国内半导体硅片产业实现国产化目标,一众A股上市企业也开启了扩产潮。 8英寸硅片产能方面,国内布局8英寸硅品的上市公司包括沪硅产业、中环股份、立昂微、中晶科技、神工股份等。 其中沪硅股份已建成20万片......
华海清科(北京)科技有限公司负责,用于开展高端半导体设备研发及产业化,将进一步扩大公司生产经营规模。 据通州区马驹桥镇官方消息,华海清科集成电路高端装备研发及产业化项目位于马驹桥镇智能制造基地,主要涉及化学机械抛光......
切片设备、SiC.GaN晶圆研磨设备、SiC.GaN砂轮、晶圆端面研磨抛光设备、单/双面缠绕设备、CMP设备、磨料、晶圆清洗系统、晶圆轮廓测量设备 日本亚洲空间(中国)事务所 - 北京亚优国际展览有限公司......
时,半导体销售在23Q2有在改善,晶圆半导体的行业低点似乎已过。 半导体硅晶圆主要厂商 1)海外主要企业: 信越化学:信越化学成立于1926年,在东京证交所上市公司,是世界最大的晶圆基片制造企业、世界......
Q1 全球半导体设备厂商营收排行:AMAT 第一,光刻机巨头 ASML 第四;CINNO Research 最新报告显示,2022 年第一季度全球上市公司半导体设备业务营收排名 TOP10 营收......
键合样品的制备多采用标准大马士革工艺,即通过光刻‑显影‑刻蚀‑清洗‑种子层沉积‑电镀‑化学机械抛光(CMP)来完成样品制备,在此过程中CMP步骤必不可少,且是样品制备的关键。该步骤受抛光设备、抛光......

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;济宁正邦金属表面技术;;全面酸洗钝化膏、铜抛光液、钝化液、电解抛光液
;郑州银利磨料磨具有限公司;;本厂始建于1986年,位于郑州市郑上路工贸园区,是研制生产抛光机设备,专用精抛光磨料磨具、精抛光液、防锈液、非金属上销、化工助剂辅料的专业厂家。 本厂
;邵荣;;主要经营金属表面处理、不锈钢电解抛光设备、不锈钢电解抛光机、不锈钢电解抛光液、不锈钢电解抛光机、点化学抛光、电化学抛光机械抛光等产品我公司真诚欢迎广大新老客户来电来人洽谈
;恩泽(天津)研磨有限公司;;主营产品磨具磨料、砂纸、砂布、砂布带、抛光轮、平面砂布轮、砂布卷、砂纸卷、百洁布、打磨片、抛光液抛光蜡、抛光机、打磨机、口罩、羊毛球、气动工具、以品种齐全、价格
;佛山市南海区丹灶老唐抛光设备店;;本公司主要经营抛光机;研磨石;抛光液;清洗剂;防绣剂;研磨液;等。公司秉承"顾客至上,锐意进取"的经营理念,坚持"客户第一"的原则为广大客户提供优质的服务。欢迎惠顾!
;上海艾希尔化工产品有限公司销售部;;本公司专业从事金属表面处理的研究与生产,承接不锈钢酸洗钝化抛光高楼清洗中央空调冷却水系统风道系统清洗保洁工程,拥有专业的研发人员、规范的生产工艺、严格
;恩泽(天津市)科技有限公司;;公司的主营产品磨具磨料、砂纸、砂布、砂布带、抛光轮、平面砂布轮、砂布卷、砂纸卷、百洁布、打磨片、抛光液抛光蜡、抛光机、打磨机、口罩、羊毛球、气动工具、以品
;恩泽(天津)科技发展股份有限公司;;公司的主营产品磨具磨料、砂纸、砂布、砂布带、抛光轮、平面砂布轮、砂布卷、砂纸卷、百洁布、打磨片、抛光液抛光蜡、抛光机、打磨机、口罩、羊毛球、气动工具、以品
;vimicro;;nasdaq上市公司
;蓝微电子;;上市公司