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佳能产日本首台半导体光刻机PPC-1发售50周年;佳能于1970年发售了日本首台半导体光刻机PPC-1，今年是佳能正式投入半导体光刻机领域50周年。半导......
佳能交付首台新型纳米压印光刻机;近日，佳能宣布成功交付首台新型纳米压印（NIL）光刻机，设备将被送往美国得克萨斯电子研究所（TIE）。 资料显示，TIE设立于2021年、是由......
佳能光刻机现在是什么水平？探访进博会上的光学大厂;我们还特别拍了个，汇聚了包括ASML、佳能、蔡司、尼康等参展企业——虽然这些企业如果单就电子行业来看，涉足的层级和业务都有区别。 像佳能......
可绕过EUV量产5nm！佳能CEO：纳米压印设备无法卖到中国; 11月6日消息，据彭博社报道，佳能公司正计划将其新的基于“纳米压印”技术的芯片制造设备的价格定为ASML的EUV光刻机的1/10......
作为芯片制造的重要环节，近期更是备受业界重视。 全球光刻机市场，ASML、尼康、佳能三家公司占据绝大部分市场份额，面对日益高涨的市场需求，三家光刻机龙头企业均给出了积极回应。 ASML EUV出货......
佳能将于2023年上半年发售3D半导体光刻机;4月1日，据日经中文网报道，佳能正在开发用于半导体3D技术的光刻机，佳能光刻机新产品最早于2023年上半年上市。曝光面积扩大至现有产品的约4倍，可支......
佳能发售面向后道工艺的3D技术i线半导体光刻机新产品;佳能发售面向后道工艺的3D技术i线半导体光刻机新产品 通过100X100mm超大视场曝光 实现大型高密度布线封装的量产 佳能将于2023年1......
日本佳能：我们能造2nm芯片！不需要ASML光刻机;日本光刻机大厂（Canon）在今年10月13日宣布推出可以制造尖端芯片的纳米压印（Nanoprinted lithography，NIL）设备......
佳能押注“纳米压印”技术，价格比 ASML EUV 光刻机“少一位数”;11 月 6 日消息，日本佳能一直在投资纳米压印（Nano-imprint Lithography，NIL）这种......
21年来首次！佳能扩产光刻机设备！;据日经新闻报道，佳能计划投资500亿日元提高光刻机产量，将其在日本的半导体制造设备产量翻一番。 报道称，佳能将在日本东部栃木县新建一座半导体设备厂，目标......
全球光刻机市场竞争加剧，ASML财报引发关注...; 近日，ASML发布最新三季度财报后，股价创26年来最大跌幅引起市场极大关注。在此期间，尼康和佳能陆续发布的光刻机......
绕过EUV光刻机技术！佳能开始销售5nm芯片生产设备; 10月14日消息，光刻机大厂佳能(Canon)公司近日通过新闻稿宣布，其已经开始销售基于“纳米印刷”(Nanoprinted......
维半导体的多样化需求提出最佳解决方案。 光刻机格局：三分天下 光刻机是半导体制造的核心，用于将电子电路蚀刻在基板上。目前，ASML、尼康、佳能三家占据了绝大部分的市场股份。在1990年代之前，尼康和佳能曾在光刻机......
划将于2025年12月31日之前执行。 公开资料显示，在全球半导体光刻机市场，ASML、尼康、佳能占据90%以上的市场份额。除了光刻机龙头ASML外，日本两大光刻机企业尼康和佳能......
佳能发售面向后道工艺的3D技术i线半导体光刻机新产品;将于2023年1月上旬发售面向后道工艺的半导体光刻机新产品——i线※1步进式光刻机“FPA-5520iV LF2 Option”。该产......
了大部分的市场。根据统计数据显示，2020年全球半导体光刻机总销量约413台，销售额约130亿美元，其中用于晶圆制造的基本均为ASML、尼康和佳能三家公司的产品。如果以销量来看，ASML销量为258台占比62%（其中......
%左右，其他的对手包括尼康，佳能等。 当然了，半导体设备行业最大的故事是下一代光刻机——EUV，ASML在这方面是毫无疑问的霸主，其极紫外光刻机去年销售了四台，单台的平均售价达1.1亿美元，最新......
压印技术，完全有替代EUV光刻机的可能性，目前国内也在研究这个技术。 不过研究最好的还是日本的佳能，佳能在NIL技术上专利全球最多，且已经有了量产机器，目前在改进精度，希望国产加油，也能够赶紧推出NIL光刻机......
丽的报表： 可以看出尼康的芯片光刻机惨不忍睹，算上尼康的面板光刻机（至少比佳能强多了），一共33台，平均单价只有14亿日元多（其中包含了solution的销售额，扣除solution销售......
真正达到极限难以向前时，纳米压印技术或将是一条值得期待的路线，而那时，芯片制造或许也会迎来全新的范式，一切都会被颠覆。 关键是，佳能的5nm纳米压印光刻机优势还很明显，不仅价格是ASML传统EUV的......
高端市场要变天?佳能宣布发售新一代i线步进式光刻机; 12月7日，日本宣布将于2023年1月上旬发售面向后道工艺的新产品——i线步进式光刻机“FPA-5520iV LF2 Option......
本的尖端芯片。 根据报道，佳能首先会将应用目标放在3D NAND工艺制造，而不是更加复杂的微处理器。 佳能表示，其纳米压印光刻机的战略不是取代晶圆厂的DUV和EUV工具，而是......
佳能 3D 技术 i 线光刻机将实现大型高密度布线封装的量产;芯片制造的核心设备则是光刻机。光刻机通过发光将光掩膜上的图形投射在硅片上，制作成芯片。随着芯片精密程度越来越高，光刻机......
佳能 3D 技术 i 线光刻机将实现大型高密度布线封装的量产;芯片制造的核心设备则是光刻机。光刻机通过发光将光掩膜上的图形投射在硅片上，制作成芯片。随着芯片精密程度越来越高，光刻机......
美国芯片大厂或将采用纳米压印光刻机！; 业内消息，近日美国存储芯片大厂计划首先采用日本的纳米压印（NIL），旨在通过佳能的纳米压印光刻机设备来进一步降低生产DRAM存储......
挑战ASML ？佳能推出纳米压印技术;10月13日，日本佳能公司宣布推出FPA-1200NZ2C纳米压印半导体制造设备，该设备将执行最重要的半导体制造工艺——电路图案转移。 据介绍，佳能的纳米压印光刻......
ASML完成第100台EUV光刻机出货;最新数据显示，ASML在12月中完成了第100台EUV光刻机的出货。业内预估ASML今年（2021年）的EUV光刻机产能将达到45~50台的规模。 7......
的研制成功对于俄罗斯未来实现自主生产芯片具有里程碑意义。 图片来源：全球半导体观察制图 目前，全球光刻机的主要玩家依旧以ASML、尼康、佳能三家为主。 据外媒公开消息，俄罗斯目前主有两家主要的晶圆厂，分别是Mikron和......
日本研发新一代光刻机,佳能3.6亿美元东京建厂; 正在东京以北的栃木县宇都宫建厂，估计耗资 500 亿日元(约合 3.66 亿美元)。 该工厂将用于制造 KrF 和 i-line......
所能达到的1.8nm更先进，这可能会要了ASML的命。 其实ASML称霸光刻机市场也不过是自2008年开始，此前光刻机市场的两强是日本的佳能和尼康，ASML通过与台积电研发浸润式光刻机，共同......
同时实现大视场与高解像力曝光 佳能发布半导体光刻机新品;同时实现大视场与高解像力曝光 佳能发布半导体光刻机新品 不仅能够应用于全画幅CMOS传感器等各种器件的制造 还可应用于逐渐兴盛的XR器件......
佳能 CEO：纳米压印“光刻机”无法出口中国！; 上个月（Canon）发布了一个名为 FPA-1200NZ2C 的纳米压印半导体制造设备，号称通过纳米压印光刻（NIL）技术......
最终将是截至2021年3月的财政年度规模的两倍左右。 光刻机设备厂商佳能也宣布将在宇都宫建造一座新工厂，计划于2025年春季启动，它将使全公司的产能翻一番。佳能高级管理执行官Hiroaki......
是半导体芯片的核心生产部件，是芯片制造流程过程中非常重要的一项核心设备，被称为人类工业皇冠上的“明珠”。 全球光刻机行业的大佬有荷兰的ASML、日本佳能和尼康等，在国产化的浪潮下，如上......
ASML：EUV光刻机已近极限 追赶技术还是另辟蹊径？;首席财务官达森（Roger Dassen）表示，技术路线发展受欧美限制，且已接近技术极限，此一技术路线前景不明。积极......
市场高度集中，全球掌握该技术的只有少数几家企业，其中荷兰ASML是全球最大的光刻机企业，也是全球最先进的光刻机企业，此外，尼康、佳能、上海微电子装备等公司亦在积极布局光刻机领域。 而用于曝光半导体的极紫外光刻......
我们会投入资金进行相关工艺的探索和开发。” 极紫外光刻产业：不仅只有EUV 光刻机供应商除ASML之外，还有日本厂商尼康和佳能。随着EUV变得越来越重要，ASML的优势正变得越来越明显。佳能和尼康仅能在“深紫外线”（DUV）光刻......
日本的尼康、佳能把持。ASML占据了全球80%以上的市场，也是唯一能量产EUV光刻机（可生产7nm/5nm的芯片）的厂商。 据半导体咨询公司VLSI Research发布的“2019年全......
链进口替代浪潮呼声越来越高，国内掩膜版厂商以此为契机发展迅速。 光刻机企业回应市场需求 全球光刻机市场，ASML、尼康、佳能三家公司占据绝大部分市场份额，面对日益高涨的市场需求，三家光刻机......
同时实现大视场与高解像力曝光 佳能发布半导体光刻机新品;不仅能够应用于全画幅CMOS传感器等各种器件的制造还可应用于逐渐兴盛的XR器件制造领域佳能将于2023年3月13日发售面向前道工序的半导体光刻机......
挑战 EUV！佳能发布新型 2nm 光刻机; 最新消息，近日(Canon)发布了一个名为 FPA-1200NZ2C 的纳米压印半导体制造设备，号称通过纳米压印光刻(NIL)技术......
三星显示签订了合同。 然而有点意外的是，三星显示公司最初下的订单中，没有沉积设备和光刻机。这两种设备的制造准备时间较长，消息......
芯源微：前道涂胶显影机可与ASML等光刻机联机应用;近日，芯源微披露投资者关系活动记录表指出，公司前道涂胶显影机与国际光刻机联机的技术问题已经攻克并通过验证，可以与包括ASML、佳能......
单一国家想要与别人分开是极其困难和需要巨大成本的。 Fouquet 认为 成功的秘诀就是与全球关键供应商维持长期合作，全部自己做的想法是极具挑战的，日本光刻机制造商佳能和尼康就是前车之鉴。 3 月荷......
采访称，全球半导体供应链当中，任何单一国家想要与别人脱钩，“即便不是不可能，也会极为困难与昂贵”。日本光刻机制造商佳能和尼康便是前车之鉴。他们迟早要明白，半导体业的成功之道只有合作。他形容脱钩是“躲回......
国际和其他委外封测代工厂则是在10%左右。 虽然中国半导体产业已经取得了重大进步，但目前仍依赖于荷兰ASML和日本尼康和佳能的光刻机。有报道称，目前中国光刻......
了一个优势领域，值得检讨。 目前市场上提供量产商用的光刻机厂商有三家：阿斯麦（ASML），尼康（Nikon），佳能（Canon）。根据2007年的统计数据，在中高阶光刻机市场，阿斯麦公司占据大约60%的市......
将推出的A16节点技术需求，他强调是否采用ASML的新技术将基于经济效益和技术平衡考量。 可以说，对ASML来说，不仅要面临最先进光刻机的出货压力，还要面临竞争对手，诸如佳能纳米压印光刻的压力。而如果ASML......
引进光刻机等设备，美迪凯拟建年产20亿颗(件、套)半导体器件项目;近日，杭州美迪凯光电科技股份有限公司（以下简称“美迪凯”）发布对外投资公告称，拟投资年产20亿颗(件、套)半导......
佳能推出晶圆测量机新品 MS-001：比光刻机精度更高，可提高生产效率;IT之家 2 月 21 日消息，在逻辑、存储器、CMOS 传感器等尖端半导体领域，制造工艺日趋复杂，半导......

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