资讯
晶圆代工厂“头疼”？阿斯麦Hyper-NA EUV售价或超7.24亿美元(2024-07-02)
晶圆代工厂“头疼”？阿斯麦Hyper-NA EUV售价或超7.24亿美元;近日，据朝鲜日报报道，阿斯麦（ASML）将针对1纳米以下制程，计划在2030年推出更先进Hyper-NA EUV光刻机......
佳能产日本首台半导体光刻机PPC-1发售50周年(2020-01-16)
在世界上首次实现了1微米以下的曝光，此项技术作为“重要科学技术历史资料（未来技术遗产）”，于2010年被日本国立科学博物馆产业技术历史资料信息中心收录。
目前佳能的光刻机阵容包括i线光刻机和KrF光刻机产品线，并根......
四家半导体大厂重磅合作！计算光刻技术从幕后到台前(2023-03-23)
在2024年对2纳米制程开始风险性试产，2025年开始量产。
2纳米不是芯片生产的终点，2022年5月，IMEC（微电子研究中心）对外公布了1纳米以下至2埃米（A2）的半......
AI芯片需求快速成长，推动台积电积极部署High-NA EUV制程(2024-11-20 11:06:14)
导指出，采用High-NA EUV光刻机对于台积电开发2纳米以下制程至关重要。因为High-NA EUV光刻机将数值孔径从0.33增加到0.55，可以进一步在晶圆上达到更高分辨率。而根......
又一台天价光刻机，即将出货！(2024-11-01)
许标志着这家三星电子在先进半导体制造领域取得重大进步。
ASML独家提供的极紫外光刻机对于2nm以下更先进制程的工艺至关重要，三星此前曾设定了到2027年实现1.4nm工艺商业化的目标，行业人士表示，三星将加快其1nm芯片商业化的开发工作。
据悉......
单台成本3亿-3.5亿欧元，ASML新High-NA EUV有望2024年出货(2022-11-16)
提高，具更高解析度图像化能力，以完成更小电晶体，对2纳米以下制程是必要设备。
客户方面，虽然价格高昂，但今年年初ASML依然收到了来自英特尔的最新款High-NA EUV“EXE:5200”首张......
最近申请的一项光刻装置专利到底是什么呢？公开图纸，我们也造不出来？(2022-11-28)
装置基础上进行了优化，进而达到匀光的目的。
EUV光刻机的中文名字就叫极紫外光刻，它以波长为10-14纳米的极紫外光作为光源的光刻技术，可使曝光波长一下子降到14纳米以下的特征尺寸。
但问题是EUV光刻机......
先进半导体工艺带来芯片成本的变化(2016-12-19)
是趋势。
而且，当EUV延伸至7纳米以下时，作为一种提高光刻机放大倍率的方法，需要大数值孔径的镜头（NA），为此ASML已经开发了一种变形镜头。它的两轴EUV镜头在扫描模式下能支持8倍放......
EUV光刻机争夺战打响，国产光刻技术难题有何解？(2021-01-29)
计划”，计划于2030年在晶圆代工领域赶超台积电。这是三星高层亲自出访ASML的主要原因。
事实上，半导体逻辑制程技术进入到7纳米以下后，由于线宽过细，需要使用EUV作为曝光媒介。全球......
工程院院士吴汉明：本土可控的55nm芯片制造，比纯进口的7nm更有意义(2021-04-26)
工程院院士吴汉明：本土可控的55nm芯片制造，比纯进口的7nm更有意义;4月26日消息，日前，在中国工程院主办的“中国工程院信息与电子工程前沿论坛”上，中国工程院院士吴汉明对光刻机、产业......
每年要投入 1 亿欧元，ASML 欲提高柏林工厂生产和开发能力(2023-11-23 14:39)
也是全球唯一销售极紫外光 (EUV) 光刻机的公司，对 7 纳米以下先进制程以来，EUV 的存在是不可或缺的。
根据此前公布财报，ASML 第 3 季度销售额为 67 亿欧元，同比增长 16%；利润......
近500亿元！EUV光刻机巨头挣翻了(2024-07-18)
年的高数值孔径EUV（High-NA EUV）设备订单，此前英特尔已完成ASML首台High NA EUV光刻机设备组装，价值高达3.5亿欧元，英特尔计划用该款设备生产1.8nm以下......
ASML最先进的光刻机，花落谁家？(2024-05-11)
资料显示，蔡司集团是全球唯一的极紫外（EUV）光系统供应商ASML Holding NV的光学系统唯一供应商。
据悉，三星电子的目标是引领3纳米以下的微制造工艺技术，今年计划采用EUV光刻......
4月起，台湾地区半导体企业电价将涨超15％！(2024-03-21)
电永续报告书中提到，其2022年的用电量为210.8亿度，上马新制程工艺后，2023年的用电量只会高不会低。举例来说，7纳米以下先进制程的芯片生产环节都需用到高端光刻机，1台机器运转24小时用电3万度，3纳米......
一亿多欧元一台的设备供不应求，这家荷兰公司二季度表现亮眼(2017-07-20)
，2纳米的精细可想而知。
未来，只有他的EUV光刻机能够帮助芯片接续微缩，因此这些设备纵使卖到上亿欧元，都能被客户所接受。
今天是《半导体行业观察》为您......
ASML今年将向台积电交付最新款光刻机 单价3.8亿美元(2024-06-06)
1041.34美元。今年以来，ASML的股价累计上涨约35%。
ASML的最新光刻机能在上刻画宽度仅为8纳米的线条，为上一代设备的1.7分之一，这将被用于生产支持人工智能应用和先进消费电子的芯片。
这款......
台积电和三星7nm竞赛正式开打，EUV成为关键(2017-01-19)
才会正式转进EUV，现在三星、台积电在7 纳米将一前一后用上EUV，先进制程也正式宣告进入新一阶段技术竞赛。
随着先进制程来到10 纳米以下，制程微缩瓶颈一一浮现，尤其是制程中难度最高的微影技术，目前......
日本佳能：我们能造2nm芯片！不需要ASML光刻机(2023-12-26)
日本佳能：我们能造2nm芯片！不需要ASML光刻机;日本光刻机大厂（Canon）在今年10月13日宣布推出可以制造尖端芯片的纳米压印（Nanoprinted lithography，NIL）设备......
俄罗斯首台光刻机，真的制造成功了(2024-05-26)
俄罗斯首台光刻机，真的制造成功了;2022年，俄罗斯科学院下诺夫哥罗德应用物理研究所 (IPF RAS) 宣布，正在开发俄罗斯首套半导体光刻设备，并对外夸下海口：这套光刻机能够使用7nm生产......
可绕过EUV量产5nm！佳能CEO：纳米压印设备无法卖到中国(2023-11-07)
可绕过EUV量产5nm！佳能CEO：纳米压印设备无法卖到中国;
11月6日消息，据彭博社报道，佳能公司正计划将其新的基于“纳米压印”技术的芯片制造设备的价格定为ASML的EUV光刻机的1/10......
晶圆代工，永不言弃(2024-09-19)
作业。这项技术对于2纳米以下节点制程的开发至关重要，台积电计划从A14节点制程开始采用High-NA EUV光刻机，并规划在2027年开始量产。
三星3纳米......
刻蚀设备收入增长58.49% 中微公司2020年营收22.73亿元(2021-03-31)
公司年报截图
在年报中，中微公司就刻蚀技术的未来发展作出了分析。分析指出随着芯片制程向5纳米及更先进制程发展，当前浸没式光刻机受光波长的限制，需要结合刻蚀和薄膜设备，采用多重模板工艺，利用......
推广应用这些重大技术装备！工信部发布(2024-09-19)
技术装备推广应用指导目录（2024 年版）》（以下简称“《目录》”）。
该《目录》列表中提到和氟化氪光刻机氟化氩(ArF)光刻机。其中氟化氪光刻机光源248纳米，分辨率≤110nm，套刻≤25nm......
成本几十万元，俄罗斯自研光刻机又突破了？(2023-10-11)
keV。根据能量高低可以分为硬X射线和软X射线：能量为1～10 keV，波长为0.2～0.1 nm以下的称之为硬X射线，波长大于0.1 nm则称之为软X射线。
这意味着，X射线光刻机中使用的X射线......
存储市场吹响EUV光刻机集结号(2024-07-05)
相对保守，不过也于今年将在1γ（1-gamma）制程进行EUV技术试产，三大原厂集结，存储市场EUV光刻机时代开启。
美光1γ DRAM开启EUV试产
与其他半导体大厂相比，美光并不急于为DRAM芯片......
ASML正计划搬离荷兰？向外扩张转移业务成为最优解(2024-03-14)
场竞争中，ASML的设备和技术占绝对领先地位，占据全球市场82.1%：90nm以下节点高端光刻机（如ArF、ArFi、EUV光刻3种高端机型）95%以上属ASML设备。
但是当前，宏观经济形势不稳定，如高......
莫大康：7nm的关键，EUV禁运怎么办？(2017-08-28)
危言耸听。但是也不必担心，因为只有工艺制程达到7纳米及以下时才会使用EUV光刻机。
对于这样的现状，首先心态要放正确。西方继续压制中国半导体业的进步，这个政策在相当长时间内还会持续下去。然而......
突破瓶颈！中国团队研制出高性能单晶硅沟道3DNOR储存器(2022-11-21)
突破瓶颈！中国团队研制出高性能单晶硅沟道3DNOR储存器;NOR闪存以速度快、可靠性高和使用寿命长等优势，在人工智能、汽车电子和工业领域中发挥着不可替代的作用。目前普遍使用的平面NOR闪存在50纳米以下......
中微公司尹志尧：公司12英寸刻蚀设备已进入5纳米芯片生产线(2021-04-06)
开发的12英寸高端刻蚀设备已运用在国际知名客户最先进的生产线上并用于5纳米、5纳米以下器件中若干关键步骤的加工；同时，公司根据先进集成电路厂商的需求持续进行设备开发和工艺优化。
在3D NAND芯片......
突破瓶颈！中国团队研制出高性能单晶硅沟道3D NOR储存器(2022-11-18)
以速度快、可靠性高和使用寿命长等优势，在人工智能、汽车电子和工业领域中发挥着不可替代的作用。目前普遍使用的平面NOR闪存在50纳米以下技术代的尺寸微缩遇到瓶颈，难以进一步提升集成密度、优化......
全球光刻机市场竞争加剧，ASML财报引发关注...(2024-10-26)
足对人工智能相关的高带宽内存(HBM)和第五代双倍数据速率随机存取存储器(DDR5)的需求。
佳能交付首台新型纳米压印光刻机
在光刻机市场竞争中，佳能的策略是专注于KrF和i-line，而不涉及EUV......
EUV光刻机“忙疯了”(2024-06-06)
前不久英特尔宣布完成了ASML High-NA EUV光刻机设备组装。这是ASML生产的首台High NA EUV光刻机，价值高达3.5亿欧元，英特尔计划用该款设备生产1.8nm以下的先进制程芯片。据了解，ASML......
华虹宏力中紫外步进式光刻机项目中标结果公示(2022-07-21)
华虹宏力中紫外步进式光刻机项目中标结果公示;7月18日，中国招标投标公共服务平台官网公示，上海华虹宏力半导体制造有限公司（以下简称“华虹宏力”）中紫外步进式光刻机项目中标结果。标的物为中紫外步进式光刻机......
EUV光刻机“忙疯了”(2024-06-05)
，价值高达3.5亿欧元，英特尔计划用该款设备生产1.8nm以下的先进制程芯片。据了解，ASML还对外交付了第二台High NA EUV光刻机，但未透露买家信息。
值得一提的是，ASML的订......
EUV光刻新突破，是不是真的？(2023-09-18)
国脖子的设备有很多，但光刻机是国产化率一直成长最慢的一个。
对芯片来说，5nm以后就必须使用EUV光刻机。这是因为，当金属间距缩小到30nm以下（对应工艺节点超越5nm），光刻机的分辨率就不够用了。
从公式“光刻机......
一台3亿欧元！ASML CEO：High-NA EUV将于2024年出货(2022-11-28)
代替。可以帮助芯片制造商继续向7nm及以下更先进制程工艺推进的同时，进一步提升效率和降低曝光成本。
目前，EUV光刻机可以支持芯片制造商将芯片制程推进到3nm制程左右，但是......
芯片先进制程之争：2nm战况激烈，1.8/1.4nm苗头显露(2023-12-22)
。Rapidus的目标是在2027年在日本国内量产2nm制程芯片，目前正寻求产业链的合作。
2nm关键设备EUV，厂商“抢疯了”
随着EUV光刻机在7nm以下制程的重要性日益增强，半导......
投资100亿美元，补贴8.25亿美元，美国发力EUV光刻技术(2024-11-05)
投资100亿美元，补贴8.25亿美元，美国发力EUV光刻技术;
近日，美国商务部和国家半导体技术中心(NSTC)的运营商Natcast宣布在纽约州立大学奥尔巴尼纳米......
晶圆代工厂商牵手RISC-V企业，瞄准低功耗AI芯片(2024-05-17)
、Denso、NAND Flash大厂铠侠、三菱UFJ等8家日企共同出资设立。其位于北海道千岁市的第一座工厂“IIM-1”已于2023年9月动工，预计2025年4月开始运行试生产线，并引进EUV光刻机......
ASML与三星签署备忘录，预计共同在韩国建立研究中心(2023-12-13)
ASML与三星签署备忘录，预计共同在韩国建立研究中心;光刻机大厂ASML宣布，与韩国三星电子签署备忘录，将共同投资1万亿韩元在韩国建立研究中心，并将利用下一代极紫外（EUV）光刻机......
佳能发售面向后道工艺的3D技术i线半导体光刻机新产品(2022-12-07)
佳能发售面向后道工艺的3D技术i线半导体光刻机新产品;佳能发售面向后道工艺的3D技术i线半导体光刻机新产品
通过100X100mm超大视场曝光 实现大型高密度布线封装的量产
佳能将于2023年1......
日本尼康宣布全新ArF浸没式光刻机：精度小于2.1纳米(2023-12-11)
日本尼康宣布全新ArF浸没式光刻机：精度小于2.1纳米;
12月10日消息，宣布，将于2024年1月正式推出ArF 193纳米浸没式“NSR-S636E”，生产效率、套刻......
挑战ASML ？佳能推出纳米压印技术(2023-10-13)
实现最小线宽为10nm的电路图案，相当于2nm节点。
半导体制造领域，光刻机是昂贵且关键的设备，而纳米压印设备被多家日本半导体设备厂商视作替代光刻机的“下一代设备”，担负......
Brewer Science：半导体工艺进步引领材料科技发展新方向，先进封装市场增长快(2022-12-30)
影响到半导体各个分支领域的技术发展方向。7纳米制造工艺引入EUV（极紫外光设备）设备，必须要为EUV制造工艺匹配相应的光刻胶。“光刻最重要的就是三光，即光刻机、光源和光刻胶，这三光都做好，光刻就没有什么特别的地方，”Brewer......
佳能交付首台新型纳米压印光刻机(2024-09-29)
佳能交付首台新型纳米压印光刻机;近日，佳能宣布成功交付首台新型纳米压印（NIL）光刻机，设备将被送往美国得克萨斯电子研究所（TIE）。
资料显示，TIE设立于2021年、是由......
佳能发售面向后道工艺的3D技术i线半导体光刻机新产品(2022-12-07)
向半导体芯片制造的前道工艺和后道工艺中，在不断扩充搭载先进封装技术的半导体光刻机产品阵营，持续为半导体设备的技术创新做出贡献。
※1. 使用了i线（水银灯波长 365nm）光源的半导体光刻设备。1nm（纳米）是10亿分......
新技术加持，国产光刻机有望获得新突破(2016-12-12)
技术的发展局限于在光学衍射极限范围内不断缩短所用光源的波长，其代价非常昂贵。今天光刻机被称为“人类最精密复杂的机器”，荷兰ASML公司EUV光刻机售价高达1亿美元，而且只有ASML能够生产。
国内目前还没有安装ASML EUV机台......
晶圆代工布局2nm芯片，瞄准High-NA EUV光刻机(2023-12-20)
晶圆代工布局2nm芯片，瞄准High-NA EUV光刻机;韩国三星日前与荷兰半导体设备商ASML签署了价值1万亿韩元（约7.55亿美元）的协议，两家公司将在韩国投资建造半导体芯片研究工厂，并将......
ASML堵了EUV光刻机的路，但国产光刻机有3大新方向(2023-02-24)
ASML堵了EUV光刻机的路，但国产光刻机有3大新方向;众所周知，当前全球只有一家能够生产，甚至可以说很长一段时间内，全球也只有能够生产，不会有第二家。本文引用地址：原因在于把的路堵住了，这条......
ASML发布2020年财报：净利润达36亿欧元(2021-01-21)
ASML发布2020年财报：净利润达36亿欧元;1月20日，光刻机龙头ASML公布2020年全年财报。2020年，ASML共售出258台光刻系统，包括236台新系统和22台二手系统。总营收达140......
相关企业
纳米以下的产品在水相中容易获得，要想得到很分散的纳米级粉体比较困难，此设备是当前最好的纳米粉体干燥设备。
;srlaser;;加工对象： 1） 对不锈钢板、碳钢板进行各种几何形状落料。 2） 小批量、多品种的不易开模具加工的金属板材。 3） 切割表面粗糙度要求在Ｒａ12.5以下，尺寸精度0.05
;苏州汶颢芯片科技有限公司;;苏州汶颢芯片科技有限公司主营微流控芯片、光刻胶、光刻机、注射泵、烘 箱、干燥箱、培养箱、烧结箱、消毒箱、试验箱、水槽、油槽、马弗炉、振（震）筛机、破碎机等。公司
;怡合瑞丰科技发展有限公司;;注册于香港，代理美国ABM公司的光刻机及其他半导体设备。可以为客户提供先进的凸点制造等封装工艺与设备
表面刻字|机械刻字|标码机,金属打字机|气动标记打印机|标刻设备|标刻机，金属电印打标机,电腐蚀打标机,电化学打标机，电蚀刻打标机，金属印字机,金属打字机，高速激光打标机,激光标记机,激光标刻机,激光刻
;北京中煤矿山工程有限公司;;主营产品或服务：可承担类型的地基与基础工程施工；可承担各类中、小型矿山工程地面建筑安装工程及矿区配套施工；可承担断面２０平方米以下的城市隧道及断面８０平方米以下
刻字机等。激光雕刻机主要有激光雕刻机、激光切割机、激光裁床、激光打标机、激光刀模切割机、激光雕版机、激光刻章机等。每一种机器我们都有不同尺寸的机型可供选择。 公司产品涵盖了木工、石材、广告、工艺礼品、建筑
打标机,流水号,日期,编号,,电脑雕刻机, 金属标牌参数刻字机,标牌打标机,标牌压印机,铭牌雕刻机,铝合金标牌雕刻机, 电动雕刻笔|电动刻字笔|金属刻字|刻字机|金属雕刻机|激光刻字|激光打
粉化学成分不变，粒径均匀，晶形不变。我公司目前已生产出的超细粉体有以下29种： 1. (Cr2O3 ) 2.(SiO2 )3.(W) 4.(NiSO4) 5.(HfO2 ) 6.(C)7
;宁波市海曙区威力三星贸易有限公司;;欧、日、美、德等二手进口工控拆机配件、半导体行业设备及配件、机械行业设备等，如尼康光刻机NSR1505-G4备品备件，莱宝真空泵、真空阀、UV紫外线光源机、日本