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方米，月产泛半导体装备可达百台以上，进一步提升了晶洲泛半导体装备的研发及制造能力。 据晶洲装备表示，以显示制程的湿法刻蚀机为例，晶洲曾获江苏省首台(套)重大装备认证的G6湿法刻蚀机宽4米、高4.5米......
方法，将晶圆表面附着的不必要的材质进行去除，留下的就是所需的材质和附着在其上的光刻胶。然后再多次重复上述步骤，就可得到构造复杂的集成电路。 按照刻蚀工艺划分，其主要分为干法刻蚀以及湿法刻蚀（表......
, 这个光刻机大概可以量产28nm工艺的芯片。 除了光刻机，其他集成电路生产设备还包括硅外延炉、湿法清洗机、氧化炉、涂胶显影机、高能离子注入机、低能离子注入机、等离子干法刻蚀机、特征金属膜层刻蚀机......
于为客户提供半导体装备与工艺整体解决方案。 芯源微所开发的涂胶机、显影机、喷胶机、去胶机、湿法刻蚀机、单片清洗机等产品，已形成完整的技术体系和丰富的产品系列，其产品可广泛应用于半导体生产、高端封装、MEMS、LED、OLED、3D......
发的涂胶机、显影机、喷胶机、去胶机、湿法刻蚀机、单片清洗机等产品，已形成完整的技术体系和丰富的产品系列，可根据用户的工艺要求量身定制。产品适应不同工艺等级的客户要求，广泛应用于半导体生产、高端封装、MEMS、LED......
于提供半导体装备与工艺整体解决方案。 芯源微所开发的涂胶机、显影机、喷胶机、去胶机、湿法刻蚀机、单片清洗机等产品，已形成完整的技术体系和丰富的产品系列，产品适应不同工艺等级的客户要求，广泛应用于半导体生产、高端......
微所开发的涂胶机、显影机、喷胶机、去胶机、湿法刻蚀机、单片清洗机等产品，已形成完整的技术体系和丰富的产品系列，产品适应不同工艺等级的客户要求，广泛应用于半导体生产、高端封装、MEMS、LED、OLED......
涂层和开发相关的设备，以及用于EUV设备的空白或预曝光掩膜的检查设备。 值得注意的是，在刻蚀设备方面，Eric Chen指出，日本对硅锗（SiGe）的湿法刻蚀和干法刻蚀设备都有限制。相比之下，对于......
电子”）投资，总投资10亿元，位于上饶高新区霞峰电子信息产业园，用地面积约30亩，主要生产晶圆刻蚀机、清洗机等设备。项目达产达标后，预计年产值可达15亿元人民币。 资料显示，基侑电子成立于2011年......
尹志尧：打造全方位高质量的，有国际竞争力的半导体设备公司;中微半导体设备公司在刻蚀领域和薄膜沉积领域深耕已久，并曾制造出中国第一台电解质刻蚀机。目前它推出的等离子体刻蚀......
中微半导体诉美国半导体厂商侵犯刻蚀机商业秘密案，终审胜诉！;7月11日，中微半导体设备（上海）股份有限公司（以下简称“中微公司”）宣布，公司在针对美国半导体设备大厂泛林集团（Lam Research......
半导体的产品可完全覆盖WLP生产线的清洗设备、涂胶设备、显影设备、湿法刻蚀设备、湿法去胶设备，以及先进电镀设备。用于WLP的设备已获得国内本土厂商的广泛认可，这两......
先进传感器中试线成功通线。 该中试线以国产设备为主，具备晶圆键合、晶圆减薄、干湿法刻蚀、物理和化学气相沉积、原子层沉积、化学机械研磨、湿法清洗、自动化量测等先进传感器和晶圆级3D集成技术的核心工艺能力，同时......
)提起的侵犯商业秘密案中赢得二审胜诉。 在 6 月 30 日上海市高级人民法院的终审判决中，法院命令泛林集团销毁其非法获取的与中微公司等离子刻蚀机有关的一份技术文件和两张照片;法院......
栅极间距版性能下降，但研究员认为藉制造优化，应可解决问题。 三星成功处是解决电气隔离堆叠的 n 和 p 两种 MOS 元件漏电，关键是使用以化学品新型刻蚀取代湿法刻蚀。与英特尔单个晶体管使用三个纳米片不同，三星......
迈入全新发展阶段。 2023年10月项目主体结构正式封顶，仅仅三个月时间便再度迎来首批设备正式入场的重大节点。本次入场的22台设备是薄膜泥酸理光子芯片中试线的关键组成部分，主要用于光刻干法刻蚀、薄膜沉积、湿法......
降低硅氧键的密度。即使对于在不同温度下沉积的薄膜，相比于薄膜中的碳密度或碳总量，交联碳的量才是影响刻蚀选择性的主要因素。此外，这些SiCO薄膜在稀氢氟酸和热磷酸等典型湿法化学物质中的湿法刻蚀速率为零，因此可提供近乎无限的湿法刻蚀......
大生产线需求，初步建成较完备的集成电路核心装备自主供给体系。 一是集成电路装备，瞄准光刻、刻蚀、湿法、沉积、离子注入、量测检测等工艺环节，推进先进光刻机、高端刻蚀机、晶圆清洗设备、离子......
量产工艺也由最早的半导体光刻工艺，及后来的热扩散和湿法刻蚀工艺，到目前的钝化接触和激光开槽工艺，和最新的全钝化和铜电极工艺，量产转换效率越来越高，生产成本越来越低。这也意味着，国内......
国产新突破，北方华创ICP刻蚀机1000腔顺利交付;近期，国产刻蚀机取得新的突破。北方华创近日宣布，公司ICP刻蚀机1000腔已经顺利交付。 北方华创自2001年成立后便开始组建团队研发刻蚀......
代表着该公司在手订单规模不断扩大，今年该公司的新增订单目标为超过40亿元。 北方华创重视设备全链条发展 北方华创作为国产半导体设备龙头企业，公司产品线较为齐全，经过多年的深入研发，该公司完成了刻蚀机、磁控溅射、氧化......
公司产业扩张需求等。 公告指出，公司主要从事半导体专用设备的研发、生产和销售，产品包括光刻工序涂胶显影设备（涂胶/显影机、喷胶机）和单片式湿法设备（清洗机、去胶机、湿法刻 蚀机），可用于8/12英寸单晶圆处理（如集......
中微半导体中标华虹半导体12台刻蚀设备;据招标平台信息显示，4月1日，中微半导体设备（上海）股份有限公司（以下简称“中微半导体”）中标华虹半导体（无锡）有限公司12台刻蚀机。 图片......
材料公司还将在当天在“CMP和CMP后清洗(CMP and Post CMP Cleaning)”及“干法、湿法刻蚀和清洗(Dry & Wet Etch and Cleaning)”等分......
的塌边会影响晶圆键合的质量。 3D NAND 制造中的长时间湿法刻蚀工艺可能会导致边缘处衬底的严重损坏。 当这些缺陷不能被刻蚀掉时，Coronus DX 会在......
2022年下半年开始，嘉芯半导体多次中标客户特色工艺生产线，包含氮化硅等离子刻蚀机、金属等离子刻蚀机、深槽刻蚀机、侧墙等离子刻蚀机；高密度等离子薄膜沉积设备（HDP-CVD)、掺杂......
之后的工艺中成为污染源。晶圆的塌边会影响晶圆键合的质量。 •3D NAND 制造中的长时间湿法刻蚀工艺可能会导致边缘处衬底的严重损坏。 当这些缺陷不能被刻蚀掉时，Coronus DX 会在......
证券公告显示，至纯科技已具备生产8-12寸高阶单晶圆湿法清洗设备和槽式湿法清洗设备的相关技术，目前已可以提供28nm节点的全部湿法工艺设备，首批次单片湿法设备已交付并顺利通过验证。 投资中微公司 刻蚀......
厂商景气度连涨两年 按照工艺流程划分，半导体设备可分为晶圆制造（前道设备）和封装、测试设备（后道设备）。 前道晶圆制造设备占据了市场80％以上的份额，设备类型主要包括薄膜沉积、光刻机、刻蚀机......
在完善新一代信息技术产业链上迈出关键一步。 刻蚀设备用硅材料部件主要包括硅环和硅电极，是晶圆制造刻蚀环节所需的核心耗材，主要用于生产8至12英寸等离子刻蚀机，在刻蚀机上起到重要支撑作用。据悉，该项目总投资3.57......
北方华创：12英寸CCP晶边干法刻蚀设备已在客户端实现量产;北方华创在投资者互动平台表示，公司前期已经发布了首台国产12英寸CCP晶边干法刻蚀设备研发成功有关信息，目前已在客户端实现量产，其优......
北方华创：12英寸CCP晶边干法刻蚀设备已在客户端实现量产;9月17日，北方华创在投资者互动平台表示，公司前期已经发布了首台国产12英寸CCP晶边干法刻蚀设备研发成功有关信息，目前......
之后的工艺中成为污染源。晶圆的塌边会影响晶圆键合的质量。• 3D NAND 制造中的长时间湿法刻蚀工艺可能会导致边缘处衬底的严重损坏。当这些缺陷不能被刻蚀掉时，Coronus DX 会在......
、湿法刻蚀和清洗（Dry & Wet Etch and Cleaning）”等分论坛展示相关主题的学术海报。 6月30日 功率及化合物半导体产业国际论坛——应用材料公司ICAPS产品......
打造集成电路产业优质生态圈。 据介绍，吉佳蓝是韩国科斯达克上市企业，主要产品包括半导体刻蚀机、LED元件刻蚀机、纳米压印光刻设备等，其中LED刻蚀设备出货量多年来在全球市场排名前列。 封面图片来源：拍信网......
国产设备再突破，中微半导体刻蚀机将运往台积电海外工厂;据上观新闻近日报道，今年下半年，由中微半导体制造的刻蚀机将运往台积电海外工厂。这意味着，中微刻蚀机能在头发直径万分之一的面积上建五六十层的“房子......
体设备是集成电路产业链自主可控的核心环节，可以分为IC制造设备和封测设备两大类。IC制造设备大致可以分为11大类，50多种机型，其核心有光刻机、刻蚀机、薄膜沉积机、离子注入机、CMP设备、清洗机、前道......
测试等环节不可或缺;碳化硅刻蚀环是半导体等离子刻蚀机的关键耗材，是生产高端芯片必不可少的材料;磁悬浮分子泵能为光刻机、刻蚀机、真空镀膜设备等半导体设备，创建高真空环境。 近年来，娄底以“材料谷”为统揽，打造......
主导地位，芯源微则是国内唯一一家能够量产前道涂胶显影机的厂商。 芯源微 据悉，芯源微主营业务是涂胶显影设备（涂胶/显影机、喷胶机）和单片式湿法设备（清洗机、去胶机、湿法刻蚀机）。其中......
场份额。 通过对长江存储历史招标信息进行统计，截止 2021 年 6 月 30 日，共招标光刻机 44 台、刻蚀机 379 台、薄膜沉积 675 台、CMP124 台、涂胶......
槽式清洗设备及相关附属设备，涵盖了集成电路200mm以下近70%湿法工艺步骤，包含有光刻胶去除、氧化膜刻蚀、金属膜刻蚀、炉管前清洗及有机溶剂清洗等，拥有Cassette与Cassette less两种......
FET（3DSFET）的器件将泄漏电流。实现该隔离的关键步骤是使用一种涉及湿化学品的新型干刻蚀来替代湿法刻蚀。这导致良好器件产量提高了80％。 与英特尔一样，三星从硅下方接触设备的底部以节省空间。然而......
238层4D NAND出货；中微刻蚀机运往台积电海外工厂;“芯”闻摘要 全球首款238层4D NAND闪存出货 一批A股厂商成立集成电路新公司 河南南阳集成电路新政出台 中微刻蚀机......
Ema推出电容式接近传感器; 【导读】在许多半导体元器件的制造中，整个制程的环节紧紧相扣, 每一个步骤对于良率的生产起到一定的作用。伊小编本次专刊介绍半导体其中的清洗设备: 半导体湿法腐蚀机......
台积电连续三次动用专利纠纷状告中芯国际，导致2009年张汝京下野，并赔偿款及股份，是一场深刻的教训。   上海中微刻蚀机的艰难成功之路   2004年原应用材料公司高级副总裁及刻蚀机......
国际北京厂国产化生产设备进入晶圆产品量产阶段，新增国产设备主机台及附属机台数百台，包括干法刻蚀机、物理气相淀积设备、单片退火炉设备、单片清洗机、中束流离子注入机、化学气相淀积设备、分片机设备等等。这些......
之后的工艺中成为污染源。晶圆的塌边会影响晶圆键合的质量。 ·3D NAND 制造中的长时间湿法刻蚀工艺可能会导致边缘处衬底的严重损坏。 当这些缺陷不能被刻蚀掉时，Coronus DX 会在......
用于量子芯片的光刻机、刻蚀机，EDA，我们都研发成功了;众所周知，目前的硅基芯片已经快要发展到极限了，台积电、三星目前已经实现了3nm的量产，而科学家们预测硅基芯片的物理极限是1nm。本文......
前的截图可以看到，IMEC将纳米线做成近似圆形。这里IMEC可能使用了非常独特的方法，可能是氧化，或者用了湿法刻蚀，或者是前面的ALE工艺能直接达到这种效果。需要在如此小尺度上做这么多工作，这一步工艺非常困难。不过......
前的截图可以看到，IMEC将纳米线做成近似圆形。这里IMEC可能使用了非常独特的方法，可能是氧化，或者用了湿法刻蚀，或者是前面的ALE工艺能直接达到这种效果。需要在如此小尺度上做这么多工作，这一步工艺非常困难。不过......

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