近日，深圳市捷佳伟创新能源装备股份有限公司（以下简称“捷佳伟创”）在其官微宣布，截至目前，公司已取得重要客户在槽式湿法清洗设备上的批量订单，并于2021年7月21日成功交付3套集成电路全自动槽式湿法清洗设备至客户进行大批量生产。

同时，捷佳伟创正在设计制造中的设备还包含了用于MicroLED、第三代化合物半导体及集成电路IDM厂的槽式清洗设备及相关附属设备，涵盖了集成电路200mm以下近70%湿法工艺步骤，包含有光刻胶去除、氧化膜刻蚀、金属膜刻蚀、炉管前清洗及有机溶剂清洗等，拥有Cassette与Cassette less两种类型，覆盖晶圆尺寸从100mm~200mm。

资料显示，捷佳伟创作为一家太阳能电池设备企业，而太阳能电池设备是半导体工艺的应用领域之一，清洗制绒、扩散、刻蚀、PECVD均与半导体工艺环节相关。近年来为顺应产品发展路径，捷佳伟创开始向半导体设备领域延伸。

2019年，捷佳伟创全资子公司常州捷佳创精密机械有限公司成立了半导体湿法工艺研究室，集合国际团队重点加强对集成电路湿法设备进行研发。而随着国家近年来对集成电路的支持力度不断加强、市场的强劲需求、产品研发的推进，近两年来，捷佳伟创成立了多个子公司，经营规模和经营范围进一步扩展。

2020年9月，常州捷佳创精密机械有限公司正式投资成立了创微微电子（常州）有限公司，专门从事集成电路湿法清洗工艺设备的研发、生产和销售，设备主要包含槽式及单晶圆湿法清洗设备；同年年11月，捷佳伟创首个海外研发中心捷佳创科技有限责任公司在日本正式成立，主要从事先进半导体技术的研发与引入。

目前，捷佳伟创在半导体设备领域已经取得初步成果。根据中国电子专用设备工业协会统计，2019年，捷佳伟创位列中国半导体设备行业十强单位、中国电子专用设备行业十强单位。

捷佳伟创表示，本次首批半导体清洗设备的成功交付，实现了公司在战略路线上的再次超越，从光伏装备设计及制造往泛半导体及半导体行业的拓展，也将成为国家集成电路装备国产化新的主力军。

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