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外交部确认了即将举行的会议，但没有详细说明议程上的议题。“荷兰总是与我们的合作伙伴进行良好的讨论。周一的官员会议就是一个例子，”该部告诉路透社。 ASML是全球最大的光刻机制造商，也是唯一的极紫外（EUV......
中国DUV订单剧增，2023年的ASML依旧保持强势; 【导读】近日，半导体设备大厂、EUV光刻机制造商ASML公布了他们2023年第一季度的财报。第一季度的净销售额达到了67.46亿欧......
布林克（Martin van den Brink）近日称，这家光刻机制造商考虑推出一个通用 EUV 光刻平台。 范登布林克在本月 21~22 日举行的 2024 年度 imec ITF World 技术......
是该行业的重大突破，将生产满足常用设备要求的国产芯片。截至周二发稿，上海微电子尚未回应《环球时报》的采访请求。 上海微电子成立于 2002 年，是中国领先的光刻机制造商之一，约占国内市场 80% 的份额。外媒称该公司是荷兰世界领先光刻机制造......
EUV光刻机争夺战打响，国产光刻技术难题有何解？;近日，荷兰的光刻机制造商阿斯麦（ASML）发布2020年度财报，全年净销售额达到140亿欧元，毛利率达到48.6%。ASML同时宣布实现第100套极紫外光刻......
半导体设备业务部长岩本和德还表示，如果改进光罩，纳米压印甚至可以生产先进制程的芯片。 佳能的纳米压印技术或许将有机会帮助佳能缩小其与ASML的差距。 更为关键的是，佳能的纳米压印设备成本和制造成本都远低于ASML的EUV光刻机。岩本......
功率远比EUV光刻机低，一台EUV光刻机一年要用1000万度电，但这种NIL技术能耗减少90%，且制造成本比EUV光刻机低40%。 缺点是目前精度不够，远远达不到7nm、5nm的级别，大约还处于28......
原因可能就是上海微电子光有技术不行，没有配套的产业链帮助提供组件。 提到荷兰ASML，相信大家都不陌生，作为全球顶尖的光刻机制造商。ASML仍旧是迄今为止，全球唯一一家具备EUV光刻机量产能力的设备供应商。 但是......
首台ASML光刻机搬入！中国再添一座12英寸车规级晶圆厂; 为了遏制中国科技发展，美方不仅施压荷兰光刻机制造商，还一直试图要求该公司禁止对华销售部分旧款光刻机，以及所有制造......
能的芯片对于飞行器的控制系统、通信系统以及传感器等至关重要。ABM Inc.的光刻机制造的芯片能够满足这些领域对于高精度、高可靠性的要求。 移动通讯：随着5G、6G等移动通信技术的不断发展，对于......
光刻机，在DUV光刻机的支持下采用1β（1-beta）制造工艺的DRAM内存芯片LPDDR5X-8500，将内存产品能效提升15%，内存密度提升35%。 据悉，美光已将其送样给部分手机制造商、芯片......
仅电费就要额外多花3.8亿美元，约合人民币26亿元。 当然，相比台积电50%+的毛利率，这点成本其实并不算夸张，只是台积电不想接受涨价罢了。 半导体制造行业是一个高耗电及高耗水的产业，一个重要原因就是光刻机......
台积电发布Q1季度财报：EUV光刻机日耗电3万度; 4月21日消息，日前发布了Q1季度财报，营收167.2亿美元，同比减少4.8%、环比减少16.1%，是3年来首次同比收入下滑，意味......
350nm，俄罗斯光刻机制造完成;5月25日消息，据外媒报道称，俄罗斯首台光刻机已经制造完成并正在进行测试。俄罗斯联邦工业和贸易部副部长瓦西里-什帕克指出，该设备可确保生产350nm（0.35μm......
量存储芯片等在短期将无法扩产，中长期可能将不得不转用DUV干法光刻机，从而芯片的制造成本上升，导致市场竞争力下降。 不过从最新消息来看，主要限制对华出口的还是16/14nm及以下先进制程芯片的制造，可能......
，市场需求也需考量。采用High-NA EUV光刻机制造的芯片成本巨增，虽然每片晶圆切割的芯片更多，但需要销售更多的芯片才能弥补投入，单靠手机AP芯片市场难以支撑，AI芯片的需求能否有足够的量来消化成本......
售价则有可能超过7.24亿美元。 如此高昂的光刻机费用，对大部分半导体厂商而言无疑是一种负担。例如2023年半导体厂商英特尔代工业务亏损70亿美元，其中，采用下一代EUV光刻机而造成成本......
报会议上，ASML表示，随着第二季度芯片制造设备的市场需求超过供应量，将上调长期营收预期，维持今年20%的营收增幅和55台极紫外光科技的产能预期不变，并表示，2025年将能生产70多部极紫外光刻机......
产品为16Gb LPDDR5X-8500。美光表示，这代1βDRAM将是美光最后一代采用DUV深紫外光刻机制造的内存芯片，之后将采用EUV极紫外光刻机......
工具] 检测半导体掩膜可将对比度提高 30% 以上”。 报道还称三星还与光刻胶制造商 JSR 和蚀刻机制造商东京电子公司合作，准备在 2027 年之前将高纳 EUV 工具投入商业应用。 三星......
积电决议放缓扩产进度，确保产能不会过度闲置造成成本压力。 先前彭博社报导，ASML EUV光刻机设备生产一天需3万度电，一年耗电约1,000万度，而新一代EUV光刻机设备每部耗电约1百万瓦，约为前几代设备10倍......
NA EUV —— EXE:5000的部分组件。High NA EUV设备被誉为“下一代EUV光刻机”，其数值孔径（NA）为0.55，可用于制造5nm及以下（2nm/1nm）芯片产品，预估该设备成本......
年将出货55台EUV设备，不过由于采用快速发货机制，只有40台的收入能在年内确认。 众所周知，ASML是全球最大的光刻机厂商，其客户几乎涵盖了所有主要的芯片制造商，包括台积电、三星......
华为旗下哈勃投资公司入股光刻机制造商科益虹源;据企查查工商信息，近日，华为旗下的哈勃投资公司开始投资光刻机领域，入股了由中科院微电子所控股的科益虹源公司。 6月2日，北京......
海微电子、北京华卓精科等中国厂商不断崛起。 ASML是芯片上游产业链极其重要的设备供应商，也是全球最大的光刻机制造商，可提供包括光刻机台、计算光刻和电子束量测在内的全方位光刻解决方案。 1988年......
增长近8倍，不过环比下降了28.4%。 熟悉荷兰设备采购的业内人士表示，由于全球最大的光刻机制造商ASML向中国客户交付了更多光刻机，今年6月和7月，中国对荷兰芯片制造设备的进口量相比5月翻......
胶的晶圆上来转移电路图案，佳能的设备则是通过将“印有电路图案的掩模像印章一样压入晶圆上的光刻胶中”来生产芯片。由于电路图案的转移不需要通过光学机制，掩模上的精细电路图案可以在晶圆上如实再现。 佳能表示，相较于传统光刻机......
生产导入EUV（极紫外光）设备，其DRAM芯片产品皆采用DUV（深紫外光）光刻机制造。 近期，媒体报道美光计划于2024年开始在其10纳米级的1γ制程技术上进行EUV光刻技术的试生产，预计......
迁往爱尔兰Fab 34工厂。如果说光刻机够用的话，也不至如此了。这只是光刻机当前及未来很长一段时间内将要短缺的一个缩影，它给行业和不同企业带来的不确定性将是深远的。比如单说Intel要在2025年夺回尖端制造......
该公司已成为欧洲市值最大的科技公司，也是目前世界上唯一使用极紫外光的光刻机制造商。 此前，ASML公布最新财报，该公司2023年第一季度的净销售额为67亿欧元，净收入为20亿欧元，高于2022年最......
的。 Fouquet 认为 成功的秘诀就是与全球关键供应商维持长期合作，全部自己做的想法是极具挑战的，日本光刻机制造商佳能和尼康就是前车之鉴。 3 月荷......
俄罗斯首台光刻机，真的制造成功了;2022年，俄罗斯科学院下诺夫哥罗德应用物理研究所 (IPF RAS)  宣布，正在开发俄罗斯首套半导体光刻设备，并对外夸下海口：这套光刻机能够使用7nm生产......
佳能 3D 技术 i 线光刻机将实现大型高密度布线封装的量产;芯片制造的核心设备则是光刻机。光刻机通过发光将光掩膜上的图形投射在硅片上，制作成芯片。随着芯片精密程度越来越高，光刻机在硅晶圆上制造......
佳能 3D 技术 i 线光刻机将实现大型高密度布线封装的量产;芯片制造的核心设备则是光刻机。光刻机通过发光将光掩膜上的图形投射在硅片上，制作成芯片。随着芯片精密程度越来越高，光刻机在硅晶圆上制造......
这次芯刻微购得ASML XT 1900 Gi型二手光刻机设备，上海新阳在公告中指出，公司作为国内集成电路制造关键工艺材料供应商，自立项进行光刻胶项目研发以来，将突破集成电路高端光刻胶国外垄断，实现集成电路高端光刻......
年，荷兰政府在6月30日于官方公告中宣布，将要求该国生产先进芯片制造设备的公司在出口一些先进的DUV光刻机时需要申请许可证，措施将于9月1日正式生效。 荷兰......
业的技术升级和产能扩张。随着全球对高性能处理器的需求不断增长，芯片制造商急需寻找一种能够提高生产效率、降低成本的新型制造工具。而Twinscan NXE：3800E光刻机的出现，正好......
设备，比如现阶段台积电最先进的第二代 3nm 工艺，离不开 EUV 光刻机。 然而，前不久麻省理工学院(MIT)华裔研究生朱家迪突破了常温条件下由二维(2D)材料制造成功的原子，每个......
台的一系列半导体出口措施保持一致。 外媒消息称，在具体的执行层面，即是禁止向中国出售DUV浸润式光刻机，其先进程度比EUV光刻机落后一代，是制造7nm以上制程芯片的必备硬件。 据了解，在半导体芯片的制造......
大幅扩充人员规模 光刻机是芯片制造流程中，光刻工艺的核心设备，具有较高技术壁垒。ASML是全球少数几家提供光刻机的企业之一，尤其是高性能的EUV光刻机——主要用于生产7纳米及更先进制程的芯片，则只有ASML一家......
麦和卡尔蔡司在未经尼康许可的前提下，在阿斯麦的光刻系统中使用尼康的专利技术。” 当前，光刻系统被广泛应用于制造半导体，而阿斯麦又主导着半导体光刻机市场。评级机构“惠誉评级”（Fitch......
是多少纳米，压在晶圆上面就是多少纳米”；同时，“纳米压印的图案每一层都一次压印成形，不像传统光刻会用到SADP/SAQP（多重曝光）等复杂工艺”。 其特点在于制造成本更低，而且耗电量也远低于EUV光刻机......
/西部数据等都有机会获得转单，不过三星毕竟是NAND份额全球第一，自然受益也会最大。 并且三星涨价后，其他国外存储厂商也极有可能跟随，之前它们也都是这样操作的。 存储芯片厂商因为美方限制意外获益，光刻机......
直接影响到ASML公司光刻机的研发和制造。这一技术依赖的情况为ASML公司带来了一定的风险。 我国光刻机技术的突破 相比于对华出口光刻机受限，我国光刻机技术取得了重大突破。中微公司自主研发的光刻机，产能......
ASML今年下定了几个决心; 作为唯一一家控制着控制着半导体产业生命线的“EUV光刻机”的制造商，对行业趋势的洞察力无疑超过了其他公司。在日前召开的投资者大会上，对未......
ASML高端DUV光刻机可以出口：还能支持7nm;对于ASML光刻机接下来怎么出口的问题，现在官方终于给出了答案。 ASML在最新的声明中指出，这些新的出口管制措施侧重于先进的芯片制造技术，包括最先进的沉积设备和浸润式光刻......
ASML今年发货第一台高NA EUV光刻机：成本逼近30亿元;EUV光刻技术的推进相当困难，光刻机龙头ASML也是举步维艰，一点点改进。ASML宣布，将在今年底发货第一台支持高NA(数值孔径)的......
佳能交付首台新型纳米压印光刻机;近日，佳能宣布成功交付首台新型纳米压印（NIL）光刻机，设备将被送往美国得克萨斯电子研究所（TIE）。 资料显示，TIE设立于2021年、是由......
俄罗斯正在开发可替代光刻机的芯片制造工具？;近期，俄罗斯国际新闻通讯社报道，俄罗斯在开发可以替代光刻机的芯片制造工具。 据悉，圣彼得堡理工大学的研究人员开发出了一种“光刻复合体”，可用......
代EUV光刻机达到4亿美元，昂贵的芯片制造设备正在快速推高芯片制造的成本。 此前台积电曾计划量产的3nm工艺最终没有一个客户接受，除了该工艺量产时间晚、性能不达标之外，还在于它的成本太高了，之前......

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