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也分为“干式”和“湿式”两种。干式刻蚀使用气体来确定晶圆上的暴露图案。湿式刻蚀通过化学方法来清洗晶圆。 一个芯片有几十层,因此必须仔细控制刻蚀,以免损坏多层芯片结构的底层。如果......
MOCVD设备主要用于氮化镓(GaN)基Mini LED外延片量产,同年其设备订单超100腔,并入选江西省科技成果转化十大典型案例。 中微公司开发的等离子体刻蚀设备和化学薄膜设备是制造各种微观器件的关键设备......
注入机开发难度仅次于光刻机,目前以应用材料公司、Axcelis 为主导, 国内主要代表企业除了凯世通还有中科信。 嘉芯半导体旗下则设有子公司嘉芯迦能、嘉芯闳扬和新产品研发部等,目前已形成多个半导体前道核心设备产品线,业务覆盖刻蚀......
。 据芯智讯了解,虽然近年来长江存储有持续加大国产刻蚀设备的采购比例,但是目前国产刻蚀设备主要被应用于一些非关键层的刻蚀......
在完善新一代信息技术产业链上迈出关键一步。 刻蚀设备用硅材料部件主要包括硅环和硅电极,是晶圆制造刻蚀环节所需的核心耗材,主要用于生产8至12英寸等离子刻蚀机,在刻蚀机上起到重要支撑作用。据悉,该项目总投资3.57......
存储产线的大举兴建以及“大基金”的持续投入,有望驱动刻蚀设备率先完成国产替代。 一方面,以长江存储、紫光集团、合肥长鑫、福建晋华等为代表的国内存储企业正不断扩大相关产线,在各类设备采购上有大量的资本支出,并且越来越青睐于国产设备......
全年其研发投入总额为6.40亿元,其中包含股份支付费用0.49亿元。若剔除股份支付费用则全年研发投入为5.91亿元,较2019年增长39.16%,主要由于新工艺的研发,包括存储器刻蚀的CCP和ICP刻蚀设备、Mini......
仍较为薄弱。 首先看刻蚀设备,目前我国刻蚀设备代表企业主要是北方华创、中微公司、屹唐半导体和嘉芯半导体。其中,中微公司的CCP刻蚀设备已进入一线晶圆代工厂商5nm产线,而在3D NAND芯片......
半导体 资料显示,中微半导体从事半导体设备的研发、生产和销售,主要产品包括CCP刻蚀设备、ICP刻蚀设、MOCVD设备等。据中微半导体此前公布的年报显示,2020年,中微......
年上半年刻蚀设备收入为8.58亿元,较去年同期增长约83.79%,毛利率达到44.29%。 【编辑注:根据产生等离子体方法的不同,干法刻蚀主要分为电容性等离子体刻蚀(CCP)和电感性等离子体刻蚀(ICP......
打造集成电路产业优质生态圈。 据介绍,吉佳蓝是韩国科斯达克上市企业,主要产品包括半导体刻蚀机、LED元件刻蚀机、纳米压印光刻设备等,其中LED刻蚀设备出货量多年来在全球市场排名前列。 封面图片来源:拍信网......
利等国家和地区。 从上面的业绩报告来看,2021年中微公司的新签订单大幅增加也是净利润增长的主要因素之一。 据官方披露,2021年6月,中微公司宣布电感耦合等离子体(ICP)刻蚀设备Primo......
方面,荷兰ASML和日本尼康、佳能公司是主要供应商,占据全球95%以上的市场份额;在刻蚀设备方面,美国泛林集团、应用材料和日本东京电子(TEL)是主要参与者,全球市场份额合计超过90%;在薄膜沉积设备......
中微公司:正进行高产出的ICP刻蚀设备的研发;6月1日,中微公司发布2021年5月投资者调研报告。中微公司称,公司主要盈利模式为从事半导体设备的研发、生产和销售,通过向下游集成电路、LED芯片、先进......
%。 图片来源:中微公司公告截图 报告指出,2021年上半年度营业收入同比增长36.82%,主要系:受益于半导体设备市场发展及公司产品竞争优势,上半年刻蚀设备收入为8.58 亿元,同比......
总投资10亿元,基侑电子半导体刻蚀设备生产项目正式签约;据微讯广丰消息,6月19日,半导体刻蚀设备生产项目签约仪式举行。 半导体刻蚀设备生产项目由昆山基侑电子科技有限公司(以下简称“基侑......
中微公司ICP刻蚀设备Primo nanova®系列第500台付运;3月21日,中微公司宣布,公司电感耦合等离子体(ICP)刻蚀设备Primo nanova®系列第500台反......
中微半导体中标华虹半导体12台刻蚀设备;据招标平台信息显示,4月1日,中微半导体设备(上海)股份有限公司(以下简称“中微半导体”)中标华虹半导体(无锡)有限公司12台刻蚀机。 图片......
神工股份拟定增不超3亿元于集成电路刻蚀设备用硅材料扩产项目等;4月23日,神工股份披露预案,公司拟定增募集资金不超过3亿元,用于集成电路刻蚀设备用硅材料扩产项目、补充流动资金。 根据预案,本项目主要以刻蚀......
中微公司尹志尧:公司12英寸刻蚀设备已进入5纳米芯片生产线;4月6日消息,中微公司举行了2020年度业绩说明会。会上,中微公司董事长、总经理尹志尧表示,公司的等离子体刻蚀设备......
而设计的Prismo UniMax® MOCVD设备主要用于氮化镓(GaN)基Mini LED外延片量产,同年其设备订单超100腔,并入选江西省科技成果转化十大典型案例。目前,中微公司开发的MOCVD......
而设计的Prismo UniMax® MOCVD设备主要用于氮化镓(GaN)基Mini LED外延片量产,同年其设备订单超100腔,并入选江西省科技成果转化十大典型案例。 目前,中微公司开发的MOCVD设备......
硅拟公开发行不超过1.87亿股,占发行后总股份的15.00%。有研硅拟募资10亿元,主要用于集成电路用8英寸硅片扩产项目、集成电路刻蚀设备用硅材料项目等。 据了解,有研硅起源于有研集团(原北京有色金属研究总院)半导......
握的核心技术平台基础上,公司紧贴客户需求,将跨学科知识、多实验工艺方法、多方产业链资源加以整合,形成了关键工艺部件、工艺部件和结构部件三大类主要产品,重点应用于刻蚀设备和薄膜沉积设备等半导体核心设备......
中微公司ICP刻蚀设备Primo nanova®第100台反应腔交付;中微公司官微消息显示,6月9日,中微公司在上海总部举办电感耦合等离子体(ICP)刻蚀设备Primo nanova®第100台反......
中微上半年扣非净利增超600%!;中微半导体今日披露2022年上半年财报。据公开资料,中微半导体是我国半导体制造设备厂商,主要开发离子体刻蚀设备和化学薄膜设备,在2018年年初就已宣布成功研发5nm......
%以及92.58%。 有研硅材:与中芯国际、士兰微等长期合作 资料显示,有研硅材主营业务为半导体硅材料的研发、生产和销售,主要产品包括半导体硅抛光片、集成电路刻蚀设备用硅材料、半导......
进入晶圆产品量产阶段,新增国产设备主机台及附属机台数百台,包括干法刻蚀机、物理气相淀积设备、单片退火炉设备、单片清洗机、中束流离子注入机、化学气相淀积设备、分片机设备等等。这些国产设备......
蓝项目于今年7月签约落地无锡。7月25日,韩国吉佳蓝公司与无锡市签署合作协议,在无锡高新区落户中国总部项目,将在锡建设半导体刻蚀设备研发制造基地。 据“无锡发布”介绍,该项目将建设刻蚀设备装配生产线和设备......
步阶段在技术领域不断探索尝试,到拥有两千余项授权专利、技术能力;从2007年首台刻蚀设备、薄膜设备研制成功并运往国内客户,到2024年公司累计已有超5000个反应台在国内外130多条生产线实现量产和大规模重复性销售,中微......
有两千余项授权专利、技术能力;从2007年首台刻蚀设备、薄膜设备研制成功并运往国内客户,到2024年公司累计已有超5000个反应台在国内外130多条生产线实现量产和大规模重复性销售,中微......
资料显示,有研半导体主营业务为半导体硅材料的研发、生产和销售,主要产品包括半导体硅抛光片、集成电路刻蚀设备用硅材料、半导体区熔硅单晶等。公司现有山东德州和北京顺义两处国内半导体硅材料生产基地,主要产品包括集成电路刻蚀......
排名世界第二,毫秒级快速热处理设备在其细分领域也是世界前三,而全球已经有100多台屹唐半导体的等离子刻蚀设备(即干法刻蚀)运行在最先进存储器量产生产线上。 屹唐......
北方华创:12英寸CCP晶边干法刻蚀设备已在客户端实现量产;北方华创在投资者互动平台表示,公司前期已经发布了首台国产12英寸CCP晶边干法刻蚀设备研发成功有关信息,目前已在客户端实现量产,其优......
北方华创:12英寸CCP晶边干法刻蚀设备已在客户端实现量产;9月17日,北方华创在投资者互动平台表示,公司前期已经发布了首台国产12英寸CCP晶边干法刻蚀设备研发成功有关信息,目前......
盛美上海推出Ultra C bev-p面板级边缘刻蚀设备;9月4日,盛美上海宣布推出用于扇出型面板级封装(FOPLP)应用的新型Ultra C bev-p面板边缘刻蚀设备。该设备专为铜相关工艺中的边缘刻蚀......
,据中微公司披露,目前针对逻辑和存储芯片制造中最关键刻蚀工艺的多款设备已经在客户产线上展开验证,多款ICP刻蚀设备在先进逻辑芯片、先进DRAM和3D NAND产线......
、快速热处理设备主要可用于90纳米到5纳米逻辑芯片、10纳米系列DRAM芯片以及32层到128层3D闪存芯片制造中若干关键步骤的大规模量产;干法刻蚀设备主要可用于65纳米到5纳米......
显示屏等终端产品。  △Source:中微公司 资料显示,中微公司是一家以中国为基地、面向全球的微观加工高端设备公司,开发的离子体刻蚀设备和化学薄膜设备是制造各种微观器件的关键设备。 其中等离子体刻蚀设备......
总量的20%以上;后道设备主要分为测试设备和封装设备。 目前,全球前5大半导体设备厂商均属于前道设备的应用厂商,分别为应用材料、ASML、东京电子、泛林半导体、柯磊,其中3家平台型横跨刻蚀,薄膜,清洗......
晶圆芯片实验线项目正式签约落户扬州高新区。 图片来源:扬州高新区  项目分三期实施,一期新建半导体设备研发中心、设备制造中心、设备工艺性能测试中心和一条6英寸晶圆芯片试验线,主要从事半导体高温氧化设备、全自动清洗干燥设备、涂胶显影设备和等离子刻蚀设备......
步阶段在技术领域不断探索尝试,到拥有两千余项授权专利、技术能力;从2007年首台刻蚀设备、薄膜设备研制成功并运往国内客户,到2024年公司累计已有超5000个反应台在国内外130多条......
芯国际股价变动导致公司产生公允价值变动收益约 2.62 亿元。 中微半导体主要从事高端半导体设备的研发、生产和销售。公司的等离子体刻蚀设备已应用在国际一线客户从65纳米到14纳米、7纳米和5纳米的集成电路加工制造生产线及先进封装生产线。公司......
原因是公司电子工艺装备收入同比增长46.96%,使得整体营业收入增加;净利润同比大涨54.72%,其主要原因是公司电子工艺装备收入增长较快,成本费用率下降,使得归属于上市公司股东的净利润增加。  中微公司作为半导体刻蚀设备领域的代表......
业收入约62.6亿元,较2022年增加约15.2亿元,同比增长约32.1%。其中,2023 年刻蚀设备销售约47.0亿元,同比增长约49.4%。公司从2012年到2023年超......
滴水湖畔的中微临港总部暨研发大楼也正在建设中,建成后占地面积约10万平方米。未来,中微公司的生产和研发基地总面积将达到约45万平方米。 此外,据了解,中微公司的等离子体刻蚀设备已被广泛应用于国际一线客户先进工艺的众多刻蚀应用,中微......
已顺利导入客户端进行生产线核准。 中微公司开发的等离子体刻蚀设备和化学薄膜设备是制造各种微观器件的关键设备,可加工微米级和纳米级的各种器件。据悉,中微公司的等离子体刻蚀设备已被广泛应用于国际一线客户先进工艺的众多刻蚀......
技术,并于2004年第一台设备成功起辉,2005年第一台8英寸ICP刻蚀机在客户端上线,并于2007年获得国家科学技术进步二等奖。 目前,北方华创的刻蚀设备已覆盖集成电路、LED、先进封装、功率......
、导体刻蚀和硅通孔刻蚀。 新电子材料的集成和加工器件尺寸的不断缩小为刻蚀设备带来了新的技术挑战,同时对性能的要求(刻蚀均匀性、稳定性和可靠性)越来越高。中微公司凭借一系列刻蚀设备组合处于刻蚀......
所要去除材料和加工器件结构的不同,可分为电介质刻蚀、导体刻蚀和硅通孔刻蚀。新电子材料的集成和加工器件尺寸的不断缩小为刻蚀设备带来了新的技术挑战,同时对性能的要求(刻蚀均匀性、稳定性和可靠性)越来越高。中微公司凭借一系列刻蚀设备组合处于刻蚀......

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致力于为以下行业提供蚀刻、清洗、显影、去膜、制绒、减薄等高品质设备: 半导体LED:硅片清洗机;硅片腐蚀机;硅片清洗腐蚀设备;基片湿处理设备;硅片清洗刻蚀设备;硅片腐蚀台;湿台;全自动RCA清洗设备
、RCA湿法清洗机,磷硅玻璃清洗设备,液晶湿制成设备(PR前清洗设备.PI前清洗设备.TOP前清洗设备.显影刻蚀设备),二手设备维护翻新业务等.
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星型CD/DVD激光刻录机,激光系统等 2、微结构电铸系统:包括各类清洗设备、精密电铸设备、DI水系统 3、真空镀膜机:EVA真空镀膜机、MRC943系列真空溅射镀膜机、超高真空设备 4、等离子刻蚀设备
/DVD激光刻录机,激光系统等 2、微结构电铸系统:包括各类清洗设备、精密电铸设备、DI水系统 3、真空镀膜机:EVA真空镀膜机、MRC943系列真空溅射镀膜机、超高真空设备 4、等离子刻蚀设备:等离子刻蚀
星型CD/DVD激光刻录机,激光系统等 2、微结构电铸系统:包括各类清洗设备、精密电铸设备、DI水系统 3、真空镀膜机:EVA真空镀膜机、MRC943系列真空溅射镀膜机、超高真空设备 4、等离子刻蚀设备
;航升科技(香港)有限公司;;香港航升科技有限公司(深圳代表处)系香港总公司驻深圳的销售分公司,主要从事电子元器件及相关设备在深圳的销售业务。目前,航升科技主要经营的产品线有: 网络通讯设备主
;郑州军政科贸有限公司;;专业销售广告设备,标牌设备,金卡设备,雕刻设备,腐蚀设备,电镀设备,蚀刻设备,金属镂空设备等以及仿金盐,蚀刻液,电泳漆,感光胶等
,微电子行业,连接器等行业,广收客户好评,在这些行业应用中积累了许多的工艺知识,可为类似的客户提供更全面的工艺方案,并为其配置合理的机型,力求用最低的成本取得最优的效率,我们从小型到中型及大型等离子清洗及刻蚀设备
;松达电子;;本公司主要经营品牌:INFINEON、SIEMENS、HARRIS、IR、NEC、NATIONAL、ROHM、ST、SANYO、TOSHIBA、MOTOROLA、ON、NS等,主要代表