中微半导体设备（上海）股份有限公司（以下简称“中微公司”，上交所股票代码：688012）今日在南昌举办新厂落成仪式，宣布其旗下全资子公司南昌中微半导体设备有限公司（以下简称“南昌中微”）的生产研发基地项目正式建成并投入使用。占地约130亩、总建筑面积约14万平方米的南昌中微新厂的落成，进一步提升了公司产品研发及生产能力，是中微公司发展历程中重要的里程碑，也是未来创新赋能聚势腾飞的新起点。

南昌生产研发基地

江西省委常委、南昌市委书记李红军、江西省人民政府副省长夏文勇及相关政府领导、中微公司管理团队代表、合作伙伴等出席仪式，与南昌中微员工们共同见证这一逐梦崭新征程的重要时刻。焕芯启程，聚势腾飞，南昌生产研发基地的落成，为公司不断提升研发及生产能力提供有力保障，也为持续高速、稳定、健康、安全的发展夯实基础。

落成仪式现场启动环节   

在政府及多方的支持下，中微公司南昌生产研发基地项目于2019年启动建设，占地面积约130亩，目前已投产的一期项目建筑面积约14万平方米。基地配备行业领先的实验室、洁净度达十级的高标准洁净室、先进的生产车间及高效的物流仓储中心，为公司进一步扩充高端设备产能、不断提升研发能力和科技创新水平提供有力支撑。此外，基地还为员工提供舒适的办公环境与休闲生活区域，员工宿舍、游泳池、健身房、羽毛球馆和篮球场等完善的配套设施，不仅有助于提升整体工作效率与组织活力，也让员工在工作之余享受舒适品质生活。

中微公司董事长兼总经理尹志尧博士在庆典上发表贺词，他表示：“南昌生产研发基地的落成是中微公司深耕高端微观加工设备领域，持续增强研发和生产能力的里程碑，为今后汇聚发展势能，实现跨越突破开辟了崭新局面。未来，我们将持续推进技术进步并推动产业发展，不断为客户和市场提供有竞争力的高端设备产品；深入落实三维发展战略，通过有机生长和外延拓展，尽快发展成为国内外一流的半导体设备和高科技领先企业！”

 中微公司董事长、总经理尹志尧博士致辞

中微公司于2017年落户南昌高新区，成立全资子公司南昌中微，并于2018年9月顺利实现量产。凭借领先的技术优势与优质的客户服务，南昌中微生产的用于 LED和功率器件外延片生产的 MOCVD 设备持续获得客户与市场的广泛认可。2021年，南昌中微推出了为Mini-LED量产而设计的Prismo UniMax® MOCVD设备主要用于氮化镓（GaN）基Mini LED外延片量产，同年其设备订单超100腔，并入选江西省科技成果转化十大典型案例。目前，中微公司开发的MOCVD设备在全球氮化镓基LED MOCVD设备市场占据优势地位，部分产品在细分领域市占率达到全球排名第一。今年5月，中微公司在全球技术分析和知识产权服务提供商TechInsights举办的2023年客户满意度调查 (CSS) 中荣获六大奖项，其中在专用芯片制造设备供应商和薄膜沉积设备两个榜单中位列第一。

“在不断提升自身能力的同时，南昌中微持续落实科学管理运营体系，提高全员、全过程、全方位质量控制水平，不断提升经营质量。” 中微公司副总裁，南昌中微公司总经理周建抚表示，“我们也非常重视员工体验，舒适的办公和生活设施，让员工在全新的环境中实现工作与生活的平衡，不断激发创新活力，增添发展动能。”

攀登勇者，志在巅峰。中微公司不断加大研发力度，持续夯实公司在高端微观加工设备领域的核心竞争力，秉承“四个十大”的企业文化，深入推进三维发展战略，聚焦集成电路关键设备领域，扩展在泛半导体关键领域的应用并积极探索其他战略新兴领域的机会，和行业合作伙伴一起努力推动技术进步，实现高速、稳定、健康和安全的发展。

关于中微半导体设备（上海）股份有限公司

中微半导体设备（上海）股份有限公司（证券简称：中微公司，证券代码：688012）致力于为全球集成电路和LED芯片制造商提供领先的加工设备和工艺技术解决方案。中微公司开发的等离子体刻蚀设备和化学薄膜设备是制造各种微观器件的关键设备，可加工微米级和纳米级的各种器件。这些微观器件是现代数码产业的基础，它们正在改变人类的生产方式和生活方式。中微公司的等离子体刻蚀设备已被广泛应用于国际一线客户从65纳米到5纳米及更先进工艺的众多刻蚀应用，中微公司开发的用于LED和功率器件外延片生产的MOCVD设备已在客户生产线上投入量产，目前已在全球氮化镓基LED MOCVD设备市场占据领先地位。