技术咨询
代买器件
商务客服
研发客服据上海临港消息，8月2日，中微半导体设备（上海）股份有限公司举行临港产业化基地落成庆典，标志该基地正式投入使用。
2021年，中微公司启动了中微临港产业化基地、中微临港总部和研发基地的建设。中微临港产业化基地总投资16.7亿元，占地157亩，总建筑面积约18万平方米，为中微最大的生产制造基地。配备行业领先的实验室、业界高标准的洁净室、先进的生产车间及智能化立体仓库等设施，可实现生产全程数字化、智能化管理。
据悉，2023年7月，中微公司南昌生产研发基地落成并投入使用，该基地面积为14万平方米；目前，位于滴水湖畔的中微临港总部暨研发大楼也正在建设中，建成后占地面积约10万平方米。未来，中微公司的生产和研发基地总面积将达到约45万平方米。
此外，据了解，中微公司的等离子体刻蚀设备已被广泛应用于国际一线客户先进工艺的众多刻蚀应用，中微公司开发的用于LED和功率器件外延片生产的MOCVD设备已在客户生产线上投入量产，目前已在全球氮化镓基LED MOCVD设备市场占据优势地位。中微公司在刻蚀设备、薄膜沉积设备、MOCVD设备等领域均取得了显著成就。
封面图片来源：拍信网
文章来源于:全球半导体观察 原文链接
本站所有转载文章系出于传递更多信息之目的，且明确注明来源，不希望被转载的媒体或个人可与我们联系，我们将立即进行删除处理。