7月7日，中微公司在南昌举办新厂落成仪式，宣布其旗下全资子公司南昌中微半导体设备有限公司（以下简称“南昌中微”）的生产研发基地项目正式建成并投入使用。该项目于2019年启动建设，占地面积约130亩，目前已投产的一期项目建筑面积约14万平方米。

资料显示，中微公司于2017年落户南昌高新区，成立全资子公司南昌中微，并于2018年9月顺利实现量产。南昌中微生产的用于 LED和功率器件外延片生产的 MOCVD 设备持续获得客户与市场的广泛认可。

2021年，南昌中微推出了为Mini-LED量产而设计的Prismo UniMax® MOCVD设备主要用于氮化镓（GaN）基Mini LED外延片量产，同年其设备订单超100腔，并入选江西省科技成果转化十大典型案例。

中微公司开发的等离子体刻蚀设备和化学薄膜设备是制造各种微观器件的关键设备，可加工微米级和纳米级的各种器件。其等离子体刻蚀设备已被广泛应用于国际一线客户先进工艺的众多刻蚀应用，中微公司开发的用于LED和功率器件外延片生产的MOCVD设备已在客户生产线上投入量产。

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