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，二是不需要光刻机。 首先，传统的芯片是基于硅打造的，目前量产的最先进的硅基芯片是5nm，而即使未来能够做到1nm，那也就是极限了。但量子是已知物理中最小的单位，如果要追求更小、更精......
元，如何改变集成电路制造受制于人的局面是国产光刻机研发的主要目标。 2014年10月瑞典皇家诺贝尔奖委员会决定将当年的诺贝尔化学奖授予打破光学衍射极限发明超分辨率光学显微技术的三位科学家，以表......
ASML：EUV光刻机已近极限 追赶技术还是另辟蹊径？;首席财务官达森（Roger Dassen）表示，技术路线发展受欧美限制，且已接近技术极限，此一技术路线前景不明。积极......
在新北市林口工一产业园区内新建厂区，扩大产能。 说起芯片产业，就不得不提起ASML。作为全球最大的光刻机厂商，无论是用于14nm及以上的DUV光刻机，还是用于10nm及以下的EUV光刻机，ASML都是......
逼近极限！ASML发布第三代EUV光刻机;芯片制造商需要速度。本文引用地址：在科技日新月异的今天，芯片制造技术的不断革新成为了推动科技进步的关键力量。作为光刻技术的领军企业，近日发布的第三代EUV......
的模块都会彼此通用，从而大大降低研发、制造、部署成本。 不过，High NA光刻机的单台价格已经高达约3.5亿欧元，Hyper NA光刻机必然继续大幅涨价，而且越发逼近物理极限，所以......
ASML公布Hyper NA EUV光刻机：死胡同不远了; 6月16日消息，去年底向Intel交付了全球第一台High NA EUV极紫外，同时正在研究更强大的Hyper NA EUV光刻机......
可量产0.2nm工艺！ASML公布Hyper NA EUV光刻机; 6月16日消息，去年底向Intel交付了全球第一台High NA EUV极紫外，同时正在研究更强大的Hyper NA......
大大降低研发、制造、部署成本。 不过，High NA光刻机的单台价格已经高达约3.5亿欧元，Hyper NA光刻机必然继续大幅涨价，而且越发逼近物理极限，所以无论技术还是成本角度，Hyper NA之后该怎么走，谁的......
约州立大学奥尔巴尼纳米技术综合体兴建下一代High-NA（高数值孔径）EUV半导体研发中心，并且还将利用州政府的资金购买ASML的High-NA EUV光刻机，以支持世界上最复杂、最强大的半导体研发。 据悉，“EUV加速......
是全球唯一能提供EUV光刻机的公司。EUV技术的引入，使得芯片制造商能够突破传统深紫外(DUV)光刻机的物理极限，从而继续推动摩尔定律的发展。尤其在5nm及以下工艺节点的生产中，EUV光刻机......
用于量子芯片的光刻机、刻蚀机，EDA，我们都研发成功了;众所周知，目前的硅基芯片已经快要发展到极限了，台积电、三星目前已经实现了3nm的量产，而科学家们预测硅基芯片的物理极限是1nm。本文......
，出口禁令应基于这些参数制定适用标准。 Patel还认为，通过SAQP等工艺和浸没式DUV光刻机，中芯国际已经实现了7nm工艺技术，而且这并不是经济上可实现的极限......
成像与芯片设计差距，从而使光刻效果达到预期状态。 据光刻机龙头ASML介绍，计算光刻将算法模型与光刻机、测试晶圆的数据相结合，从而生成一个和最终曝光图案完全不同的掩模版设计，但这正是ASML想要达到的，因为......
着前所未有的工程、材料结构和制造方面的挑战。许多变化和误差的来源会阻碍光刻过程，必须加以控制，为确保芯片的生产满足所需的性能、体积和成本，传统的EUV光刻机技术可能已经走到了尽头。 高昂的成本和物理极限......
技术或非是通向先进制程的必由之路。未来几年可能会出现所谓下一代光刻技术，如NIL（纳米压印光刻），EUV光刻机在制造晶体管时会遇到它的物理极限。NIL光刻机最大的好处是光源相对便宜，即不......
制造工艺可达到0.768nm，打破了当前光刻机预期的1.8nm工艺极限，这对于ASML来说无疑是重大打击。 全球各个经济体研发无需光刻机的工艺，在于当下的光刻机实在太贵了，第一代EUV光刻机的价格达到1.2亿美元，第二......
转向了用设计来抵消EUV带来的更高精度。 事实上，近些年来芯片领域在先进封装技术、碳基芯片、光子芯片等领域都实现了突破。一旦芯片设计的多样化手段进入实际应用阶段，光刻机的发展前景将不再一枝独秀。 并且摩尔定律束缚的不仅仅是芯片的物理极限......
EUV光刻机缺货问题要持续3年，瓶颈居然是...;细致到可以深究成熟工艺的光掩模（photomask）短缺问题——据说也是近期才发现的，尤其是28nm及以上工艺的产能开始受到掩模短缺问题的影响。不过......
专家组都说了：‘该光刻机在365纳米光源波长下，单次曝光最高线宽分辨力达到22纳米。项目在原理上突破分辨力衍射极限，建立了一条高分辨、大面积的纳米光刻装备研发新路线，绕过国外相关知识产权壁垒。’这里......
初的宽谱紫外向g线-i线-KrF-ArF-EUV(13.5nm)发展，提高极限分辨率来满足不断精进的光刻技术需求。当前，半导体市场对g线和i线光刻胶的使用量最大，KrF、ArF、EUV光刻胶主要配合高端的光刻机......
俄罗斯要建 10 台超级计算机，还要自研光刻机?; 业内消息，近日多家外媒报道俄罗斯定下多个宏大科技领域的目标，其中包括在 2030 年之前建造 10 台的，此外还包括在圣彼得堡理工大学的光刻......
美国与荷兰日本达成“最强”对华限制协议？将倒逼中国自研半导体设备;据彭博社报道，、已经同意加入针对的半导体制裁。三国将组建反华技术封锁网络：或将全面禁止向出口DUV光刻机和配件、技术服务；将全......
佳能光刻机现在是什么水平？探访进博会上的光学大厂;我们还特别拍了个，汇聚了包括ASML、佳能、蔡司、尼康等参展企业——虽然这些企业如果单就电子行业来看，涉足的层级和业务都有区别。 像佳......
SK Hynix无锡厂引入光刻机计划“黄了”？最新回应！;上周，外媒消息称，由于美国不希望让更多先进半导体设备进入中国，SK Hynix 原本拟定的在无锡半导体工厂引入ASML的EUV光刻机......
EUV光刻机争夺战打响，国产光刻技术难题有何解？;近日，荷兰的光刻机制造商阿斯麦（ASML）发布2020年度财报，全年净销售额达到140亿欧元，毛利率达到48.6%。ASML同时宣布实现第100套极紫外光刻......
非凡的奉献精神和承诺，他将技术的极限推到了远远超出许多人认为可能的范围。 正如大家所熟知，光刻机下一个发展方向是引入High NA (0.55NA) EUVL，以实现低至 8nm 的半......
就近在咫尺了。同时，193nm光波在水中的等效波长缩短为134nm，足可超越157nm的极限。193nm浸入式光刻的研究随即成为光刻界追逐的焦点。 浸入式光刻是指在光刻机......
光刻机已经落伍？硅光子将成中美新战场！; 半导体是人类科技发展的重要基础，也是中美科技博弈的重要领域。欧美凭借先进的一直掌握着半导体的话事权，但随着摩尔定律逼近极限，光刻机......
测试厂商伟测半导体等亦于近日进入了上市辅导阶段。 英诺赛科批量采购ASML光刻机  近日，国内半导体企业与ASML的合作接连传来好消息。 2021年1月21日，英诺赛科和ASML达成批量购买高产能i-line和......
占据的领域，GPU完全可以依靠其并行计算的价值，将生产力提升至新高度。 NVIDIA CEO黄仁勋表示，“芯片行业是世界上几乎所有其他行业的基础，随着光刻技术达到物理极限，NVIDIA 推出......
霸道至极！传美国对ASML施压：不准向中国厂商提供光刻机工具维修服务！;作者：电子创新网张国斌 据外媒报道两位知情人士表示，美国总统乔·拜登政府计划下周向荷兰施压，阻止......
技术乃至于先进制程有着重要意义。为了追求更先进的芯片和更优的能效，我们一直走在制程微缩的道路上，但光刻设备的分辨率决定了 IC 的最小线宽，越发精细的芯片就越需要缩短晶体管内部导电沟道的长度。因此，光刻机......
技术装备推广应用指导目录（2024 年版）》（以下简称“《目录》”）。 该《目录》列表中提到和氟化氪光刻机氟化氩(ArF)光刻机。其中氟化氪光刻机光源248纳米，分辨率≤110nm，套刻≤25nm......
，日韩贸易争端期间，日本政府宣布限制对韩国出口原产于日本的半导体材料、OLED材料等，其中就涉及了半导体用光刻胶。 随着芯片集成度日渐提升，对光刻技术的精密性要求也更严格，半导体光刻胶通过不断缩短曝光波长来提高极限......
满足集成电路发展的需求，光刻胶通过缩短曝光波长、提高极限分辨率，来满足不断精进的光刻技术需求。 不同的光刻胶产品适用于不同的光刻机，从光刻机的发展历程来看，以光源的来区别大致有g线-i线-KrF-ArF......
另一家中国光刻机厂商浮出水面！;作者：电子创新网张国斌 编者注：目前中国本土只有ABM Inc.与SMEE为自主研发、设计、且拥有包括核心零部件和重要子系统自主知识产权的光刻机整机集成制造商。这是......
佳能产日本首台半导体光刻机PPC-1发售50周年;佳能于1970年发售了日本首台半导体光刻机PPC-1，今年是佳能正式投入半导体光刻机领域50周年。半导......
进的下一代 EUV 光刻机就成为了重中之重。据悉，ASML 的下一代 EUV 光刻机试验型号最快明年出货，2025 年后正式量产，这基本在台积电的节奏之中。不过，这种 EUV 光刻机的售价将达到 4......
为中国突破美国芯片科技禁运的快捷方式。长电科技开发的先进封装技术已开始为国际客户进行芯片封装量产。 移动资讯APP“快科技”报道，面对西方国家对中国进行包括极紫外（EUV）光刻机在内的半导体设备禁运，以小......
三家光刻机龙头企业积极回应半导体市场需求;当前半导体产业链分化现象日益明显，消费电子市场芯片亟待"去库存"，然而车用芯片等市场仍旧供不应求，上游半导体设备供应紧俏引发关注，其中光刻机......
ASML下代EUV光刻机年底问世：1nm工艺; 据报道，在工艺进入7nm节点之后，EUV光刻机是少不了的关键设备，目前只有能制造，单台售价10亿人民币，今年底还会迎来下一代EUV光刻机，价格......
半导体大厂持续加码EUV光刻机;随着半导体大厂先进制程芯片竞争日益升温，EUV光刻机成为市场“香饽饽”，引发业界关注。 目前，英特尔率先拿到了ASML High-NA EUV光刻机设备，并于近期宣布该台光刻机......
ASML再次改口！国家迅速回应，外媒：荷兰将光刻机事情闹大了;近年来，行业发展迅猛，成为半导体产业的重要一环。公司作为全球行业的龙头企业，其对华出口的态度一直备受关注。然而，最近......
ASML堵了EUV光刻机的路，但国产光刻机有3大新方向;众所周知，当前全球只有一家能够生产，甚至可以说很长一段时间内，全球也只有能够生产，不会有第二家。本文引用地址：原因在于把的路堵住了，这条......
全球只有5家客户 ASML今年将出货60台EUV光刻机; 随着工艺进入到5nm节点以内，对EUV的需求也不断增长，目前全球只有ASML一家公司能够生产EUV光刻机，今年......
国产光刻机获重大突破，ASML如何应对？;      中国科学院院士、中国科学院党组书记白春礼于4月13日访问长春光机所，调研EUV光源等技术，高度肯定光电关键核心技术攻关成果。国产光刻机......
ASML第2代EUV光刻机开发传瓶颈，神队友救援力拼原时程问世;极紫外光刻机（EUV）目前是先进半导体制程中，不论是DRAM或晶圆代工生产过程中，进一步提升效能的关键之一。而目前荷兰商ASML则是......
上海新阳：ASML干法光刻机设备顺利交付;3月8日，上海新阳发布公告披露其购买光刻机设备进展情况。 公告显示，公司自立项开发193nmArF干法光刻胶的研发及产业化项目以来，安排购买了ASML......
首台ASML光刻机搬入！中国再添一座12英寸车规级晶圆厂; 为了遏制中国科技发展，美方不仅施压荷兰光刻机制造商，还一直试图要求该公司禁止对华销售部分旧款光刻机，以及......

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