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基于纳米压印技术的芯片制造设备可以绕过EUV生产5nm充满了兴趣，认为这可能会是一条能够绕过美国限制制造更先进制程芯片的路径。 虽然在今年7月日本实施了新的出口管制措施，限制了可以被用于先进制程的浸没式光刻机......
日本佳能：我们能造2nm芯片！不需要ASML光刻机;日本光刻机大厂（Canon）在今年10月13日宣布推出可以制造尖端芯片的纳米压印（Nanoprinted lithography，NIL）设备......
绕过EUV光刻机技术！佳能开始销售5nm芯片生产设备; 10月14日消息，光刻机大厂佳能(Canon)公司近日通过新闻稿宣布，其已经开始销售基于“纳米印刷”(Nanoprinted......
DUV光刻机遭进一步限制，中国仍有破局之路; 【导读】针对近期荷兰、日本加入对华半导体设备出口管制的动向，知名行业分析师Dylan Patel认为，三方所达成的合作意向依然非常初步，本质......
压印技术，完全有替代EUV光刻机的可能性，目前国内也在研究这个技术。 不过研究最好的还是日本的佳能，佳能在NIL技术上专利全球最多，且已经有了量产机器，目前在改进精度，希望国产加油，也能够赶紧推出NIL光刻机......
挑战ASML ？佳能推出纳米压印技术;10月13日，日本佳能公司宣布推出FPA-1200NZ2C纳米压印半导体制造设备，该设备将执行最重要的半导体制造工艺——电路图案转移。 据介绍，佳能的纳米压印光刻......
日本成功引入首台ASML EUV光刻机......
芯片制造工艺黑科技再现，那么中国是如何在限制下实现芯片自给自足？; 在日本研发成功无需光刻机的NIL工艺之后，近日美国一家企业Zyvex Labs 也宣布推出无需的，并且......
并不限制中国，还在正常供应，因为供应商主要来自于欧洲荷兰的ASML以及日本Nikon、佳能，并不直接受美国禁令，但EUV目前并未买到。目前，前道设备格局是：1、光刻机：由欧洲ASML和日本Nikon和......
-2026年每年扩大到90台低数值孔径极紫外光刻机，以及20台高数值孔径极紫外光刻系统（High NA EUV）；到2027年-2028年，每年将推出新光刻工具。 新的发展赛道即将来临 ASML、尼康、是全球光刻机......
传 ASML 将提供特供 DUV 给中国，官方回应！; 据业内消息，在荷兰对实施了出口管制措施之后，业内频传言 将规避该措施为中国市场推出特供 DUV 光刻机，近日 ASML 官方......
美国芯片大厂或将采用纳米压印光刻机！; 业内消息，近日美国存储芯片大厂计划首先采用日本的纳米压印（NIL），旨在通过佳能的纳米压印光刻机设备来进一步降低生产DRAM存储......
两年是芯片缺产能，然而今年下半年开始市场需求不足，芯片产能又大增，台积电现在要发愁的是5nm产能利用率。来自供应链的消息称，由于5nm芯片的利用率下降，台积电不得不考虑关闭部分EUV光刻机，该公......
。Rapidus的目标是在2027年在日本国内量产2nm制程芯片，目前正寻求产业链的合作。 2nm关键设备EUV，厂商“抢疯了” 随着EUV光刻机在7nm以下制程的重要性日益增强，半导......
如此，终端市场驱动因素的发展（比如 5G，人工智能，和高性能计算），将推动先进制程的逻辑芯片和存储芯片的市场需求，这都需要使用到先进的光刻机。” 值得一提的是，目前全球光刻机市场主要由荷兰的ASML以及日本......
的十年时间里，阿斯麦总共售出大约140套EUV光刻机，现在每一套系统的成本高达2亿美元。 晶圆代工厂商频繁下单 2017年，ASML的第一台量产的EUV光刻机正式推出。此后三星的7nm......
美国与荷兰日本达成“最强”对华限制协议？将倒逼中国自研半导体设备;据彭博社报道，、已经同意加入针对的半导体制裁。三国将组建反华技术封锁网络：或将全面禁止向出口DUV光刻机和配件、技术服务；将全......
单一国家想要与别人分开是极其困难和需要巨大成本的。 Fouquet 认为 成功的秘诀就是与全球关键供应商维持长期合作，全部自己做的想法是极具挑战的，日本光刻机制造商佳能和尼康就是前车之鉴。 3 月荷......
晶圆代工厂商疯抢光刻机设备！;尽管半导体产业仍处调整周期中，但部分应用市场需求强劲，正吸引半导体厂商积极扩产，而在芯片制造过程中，制造设备不可或缺。近期，为满足市场需要，全球光刻机大厂ASML又有......
是未来科技和经济的基石，影响国家、社会未来发展，甚至改变全球格局。从手机、电脑、电视到汽车，芯片广泛应用。 中国以前无法在10年内制造EUV光刻机，甚至遭到ASML威胁，但预计2025年将推出样机，2030年实现量产，解决......
我们会投入资金进行相关工艺的探索和开发。” 极紫外光刻产业：不仅只有EUV 光刻机供应商除ASML之外，还有日本厂商尼康和佳能。随着EUV变得越来越重要，ASML的优势正变得越来越明显。佳能和尼康仅能在“深紫外线”（DUV）光刻......
光刻机将芯片制造工艺推进至7nm，国内的芯片封装企业通富微电等又研发了5nm芯粒封装技术，如此国产芯片可望提供接近5nm工艺性能的芯片，对ASML的EUV光刻机需求迫切性下降。 ASML硬气......
纳米及更先进制程，必须借助光刻设备转印半导体电路图案。追逐先进制程的芯片制造厂商中，台积电和三星均已引入光刻机。目前，台积电和三星已进入5nm工艺的量产阶段，台积电代工的产品包括苹果A14、M1、华为......
亿个/mm2，与5nm相比，功耗下降25%～30%，功能提升了10%～15%。 2纳米作为下一代节点，性能势必有更进一步的提升，功耗也将进一步下降。市场的需求是可以预期的。这或许正是日本......
上了，EUV光刻机有储备。 更具体地说，台积电Fab 15的5、6、7期在跑7nm EUV光刻工艺。Fab 18的1、2、3期造5nm工艺；预计2024年5nm工艺要达到240k片晶圆/月的产能；亚利......
全球只有5家客户 ASML今年将出货60台EUV光刻机; 随着工艺进入到5nm节点以内，对EUV的需求也不断增长，目前全球只有ASML一家公司能够生产EUV光刻机，今年......
造需求。 尼康披露旗下首款半导体后端工艺用光刻机 而尼康依旧想在ArF浸润式和ArF干法领域有所收获。据悉，尼康计划在2026财年之前陆续推出三款半导体光刻机，进一步通过增加氟化氩（ArF）干式、氟化......
一代High-NA EUV光刻机的争夺 另外，三星还与ASML达成协议，争取到了下一代高数值孔径极紫外光刻机（High-NAEUV）光刻机，据ASML最新披露，High-NA EUV设备将于明年年底推出......
ASML今年发货第一台高NA EUV光刻机：成本逼近30亿元;EUV光刻技术的推进相当困难，光刻机龙头ASML也是举步维艰，一点点改进。ASML宣布，将在今年底发货第一台支持高NA(数值孔径)的......
又一台天价光刻机，即将出货！; 据韩媒最新报道，三星电子正准备在2025年初引入其首款High NA EUV（极紫外）光刻机设备，这或......
万片。 据台积电介绍，公司的3nm（N3）制程技术将是5nm（N5）制程技术之后的另一个全世代制程，在N3制程技术推出时将会是业界最先进的制程技术，具备最佳的PPA及电晶体技术。相较于N5制程......
国脖子的设备有很多，但光刻机是国产化率一直成长最慢的一个。 对芯片来说，5nm以后就必须使用EUV光刻机。这是因为，当金属间距缩小到30nm以下（对应工艺节点超越5nm），光刻机的分辨率就不够用了。 从公式“光刻机......
续续的亏损也还是常事，12台 5G/6G 的面板光刻机总算填补了财报窟窿，勉强有毛毛雨般的毛利润。（才33亿日元） 可以断言。如今ASML的芯片光刻机已经把日本的芯片光刻机厂商尼康和佳能都踩烂了，芯片光刻机......
ASML柏林厂大火恐将影响EUV光刻机供应...;市调机构TrendForce在最新调查中指出，占地32,000平方公尺的柏林厂区中，约200平方公尺厂区受火灾影响。而柏林厂区主要制造光刻机......
是可以进行多次曝光。 至于DUV是否能进行7nm以下更先进的制程？据台积电前研发副总林本坚（Burn Lin）表示，依靠ASML的DUV光刻机，是可以继续将制程工艺从7nm再推向5nm，但要......
进的高数值孔径EUV设备的数值孔径将从0.33提高到0.55，这意味着设备可以绘制更精细的电路图案。 自2017年ASML的第一台量产的EUV光刻机正式推出以来，三星的7nm、5nm、3nm工艺，台积......
市场实力，尼康还将推出适应3D堆叠结构器件如存储半导体、图像传感器制造需求的光刻机新产品，已提高其在成熟制程设备市场的竞争力。 佳能 研发3D技术光刻机、满足生产需求 无独有偶，另一大日本光刻机企业佳能也被报道在研发光刻机......
入式 DUV，这些设备最高可支持 5nm 工艺，台积电就使用 SAQP 和氩氟浸没 (ArFi) 光刻实现了 7 nm 量产。 ASML 在售的浸没式光刻机主要有三大型号：TWINSCAN NXT:2050i......
佳能产日本首台半导体光刻机PPC-1发售50周年;佳能于1970年发售了日本首台半导体光刻机PPC-1，今年是佳能正式投入半导体光刻机领域50周年。半导......
公司的态度再次发生变化，引发了国家的迅速回应。荷兰的决定被外媒认为将光刻机事情闹大了。本文将分别从公司态度的变化、荷兰及日本的对华出口管控、ASML公司的技术依赖和市场地位、我国光刻机技术的突破、ASML公司......
可怕的台积电，一口气买下5台EUV光刻机; 版权声明：本文内容来自经济日报，如您觉得不合适，请与我们联系，谢谢。 巴隆周刊（Barrons）报导，艾司摩尔（ASML）上周......
司成立了Rapidus公司，计划在2025年试产2nm工艺。 从45nm到2nm工艺无异于弯道超车，为此Rapidus公司也多管齐下，跟光刻机公司ASML、欧洲微电子中心IMEC及美国IBM公司达成合作，其中......
显影机、离子注入机、检测设备等，国产化水平还很低，特别是在光刻机方面。 目前，全球光刻机市场主要由荷兰的ASML以及日本的尼康、佳能把持。ASML占据了全球80%以上的市场，也是唯一能量产EUV光刻机......
国产刻蚀设备凭什么后发赶超？（附厂商盘点）;刻蚀设备的一些基本知识 1.基本原理 前道的晶圆加工包括十余道工艺，有氧化、扩散、退火、离子注入、薄膜沉积、光刻、刻蚀、化学机械平坦化（CMP）等。其中最关键的三类主设备是光刻机......
的制程节点受益。 Twinscan NXE:3800E光刻机的价格并不便宜，机器的复杂性和功能是以巨大的成本为代价，每台大概在1.8亿美元。不过比起新一代High-NA EUV光刻机的报价，显然还是要低很多。此前有报道称，业界......
已经做到了5nm技术，只是因为美国限制了ASML光刻机的出口，导致我们没法生产5nm芯片，但起码技术有了。 据了解，国产光刻机也在抓紧突破中，一旦我们能够攻克光刻机的困难，那么美国就很难制裁到中国科技企业了，甚至......
的出货价格也会提升到1.45亿美元左右。 为了提升生产效率，ASML准备推出的第2代EUV光刻机型号将会是NXE：5000系列，其物镜的NA值将提升到0.55，进一步提高曝光的精度。然而，NA值0.55的第2代EUV......
EUV光刻机设备，用于7nm、5nm、4nm等先进制程，且9月台积电还将开始量产最新的3纳米制程，这些都需要EUV光刻机设备协助。有市场消息表示，因首代3纳米制程客户可能仅剩苹果，使台......
年 目前，全球光刻机市场主要由荷兰的ASML以及日本的尼康、佳能把持。其中，仅ASML一家就占据了全球80%以上的市场，是唯一能量产EUV光刻机（波长13.5nm，可生产7nm/5nm的芯片）的厂......
电和三星均采用了ASML的EUV光刻机，台积电将于2017年第一季度采用ASML的光刻机，部分用于7nm芯片制造，部分用于2020年以后的5nm芯片制造；三星则计划在2017年第二季度采用ASML的......

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